JP5588971B2 - X線光学システム及び試料を分析する方法 - Google Patents
X線光学システム及び試料を分析する方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5588971B2 JP5588971B2 JP2011511769A JP2011511769A JP5588971B2 JP 5588971 B2 JP5588971 B2 JP 5588971B2 JP 2011511769 A JP2011511769 A JP 2011511769A JP 2011511769 A JP2011511769 A JP 2011511769A JP 5588971 B2 JP5588971 B2 JP 5588971B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical system
- ray
- source
- ray optical
- axis
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K1/00—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
- G21K1/06—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diffraction, refraction or reflection, e.g. monochromators
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K1/00—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
- G21K1/06—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diffraction, refraction or reflection, e.g. monochromators
- G21K1/062—Devices having a multilayer structure
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K2201/00—Arrangements for handling radiation or particles
- G21K2201/06—Arrangements for handling radiation or particles using diffractive, refractive or reflecting elements
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K2201/00—Arrangements for handling radiation or particles
- G21K2201/06—Arrangements for handling radiation or particles using diffractive, refractive or reflecting elements
- G21K2201/061—Arrangements for handling radiation or particles using diffractive, refractive or reflecting elements characterised by a multilayer structure
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K2201/00—Arrangements for handling radiation or particles
- G21K2201/06—Arrangements for handling radiation or particles using diffractive, refractive or reflecting elements
- G21K2201/062—Arrangements for handling radiation or particles using diffractive, refractive or reflecting elements the element being a crystal
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K2201/00—Arrangements for handling radiation or particles
- G21K2201/06—Arrangements for handling radiation or particles using diffractive, refractive or reflecting elements
- G21K2201/064—Arrangements for handling radiation or particles using diffractive, refractive or reflecting elements having a curved surface
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K2201/00—Arrangements for handling radiation or particles
- G21K2201/06—Arrangements for handling radiation or particles using diffractive, refractive or reflecting elements
- G21K2201/067—Construction details
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- X-Ray Techniques (AREA)
- Lenses (AREA)
Description
Claims (24)
- X線光学システムであって、
X線を放射する源と、
前記X線を受け取り及び反射する光学系と
を含み、
前記光学系は光学反射面を有し、
前記光学反射面は、楕円輪郭を、前記楕円輪郭の幾何学的対称軸と異なる回転軸まわりに回転させることによって画定され、
前記楕円輪郭は第1及び第2焦点を含み、
前記楕円輪郭の幾何学的対称軸は2つの前記焦点を通り抜け、
前記回転軸は前記楕円輪郭の第2焦点を通り抜け、
前記回転軸は、前記幾何学的対称軸と同一平面にあり、
前記楕円輪郭の第1焦点は、少なくとも部分的な円を形成し、
前記第1焦点が形成する前記部分的な円は、少なくとも部分的に前記源と重なるX線光学システム。 - X線光学システムであって、
X線を放射する源と、
前記X線を受け取り及び反射する光学系と
を含み、
前記光学系は光学反射面を有し、
前記光学反射面は、放物線輪郭を、前記放物線輪郭の幾何学的対称軸と異なる回転軸まわりに回転させることによって画定され、
前記放物線輪郭の焦点は少なくとも部分的な円を形成し、
前記源は、前記放物線輪郭の焦点に配置され、かつ、前記放物線輪郭の焦点が形成する前記部分的な円と少なくとも部分的に重なり、
前記回転軸は前記幾何学的対称軸と平行であり、
前記回転軸は、前記幾何学的対称軸と同一平面にあるX線光学システム。 - 前記X線光学システムは試料を含み、
前記光学系は、前記X線を前記試料に導くべく構成され、
前記X線光学システムは、前記試料からのX線を検出するべく構成される検出器をさらに含む、請求項1又は2のX線光学システム。 - 前記源は、少なくとも部分的に円形の放射プロファイルを有する、請求項1又は2のX線光学システム。
- 前記源は、完全に円形の放射プロファイルを有する、請求項4のX線光学システム。
- 前記光学反射面は凹面である、請求項1のX線光学システム。
- 前記源は、少なくとも部分的に円形の断面を有する放射プロファイルを含む、請求項6のX線光学システム。
- 前記光学反射面は凸面である、請求項1又は2のX線光学システム。
- 前記源は、円形の断面を有する放射プロファイルを含む、請求項8のX線光学システム。
- 前記源は、少なくとも部分的に円形の断面を有する放射プロファイルを含む、請求項8のX線光学システム。
- 前記光学反射面は凸部と凹部とを含む、請求項1又は2のX線光学システム。
- 前記源は回転陽極である、請求項1又は2のX線光学システム。
- 前記源はシールド管X線発生システムである、請求項1又は2のX線光学システム。
- 前記源はマイクロフォーカス源である、請求項1又は2のX線光学システム。
- 前記光学系は全反射光学系である、請求項1又は2のX線光学システム。
- 前記光学系は多層光学系である、請求項1又は2のX線光学システム。
- 前記光学系は反射型結晶である、請求項1又は2のX線光学システム。
- 前記源は、異なる標的材料の複数部分に分割される、請求項1又は2のX線光学システム。
- 前記光学系は、異なるエネルギーに対応する複数部分を有する全反射光学系である、請求項18のX線光学システム。
- 前記光学系は、異なるエネルギーに対応する複数部分を有する多層光学系であり、
各部分は、コーティング材料の組合せ、層厚さ及び層厚みの変異を含むコーティング構造と、それ自身の輪郭とがブラッグの法則に従う、請求項18のX線光学システム。 - 前記光学系は、異なるコーティング構造だが異なる部分のために同じ輪郭を有する、請求項20に記載のX線光学システム。
- 前記光学系は、異なる輪郭だが同じコーティング構造を有する、請求項20のX線光学システム。
- 前記光学系は、異なるエネルギーに対応する複数部分を有する結晶光学系であり、
各部分は、前記エネルギーに対してブラッグの法則が満たされるように、それ自身の輪郭と結晶構造を有する、請求項18のX線光学システム。 - 請求項1から23のいずれか一項に記載のX線光学システムを使用して試料を分析する方法であって、
X線ビームを発生するステップと、
前記光学反射面を有する光学系を使用して前記X線ビームを試料に導くステップと、
前記試料からのX線を検出するステップと、
前記検出された前記X線に対応する電気信号を発生させるステップと
を含む方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US12/130,574 US7720197B2 (en) | 2008-05-30 | 2008-05-30 | High intensity x-ray beam system |
US12/130,574 | 2008-05-30 | ||
PCT/US2009/045250 WO2009154967A1 (en) | 2008-05-30 | 2009-05-27 | High intensity x-ray beam system |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011522256A JP2011522256A (ja) | 2011-07-28 |
JP2011522256A5 JP2011522256A5 (ja) | 2013-06-20 |
JP5588971B2 true JP5588971B2 (ja) | 2014-09-10 |
Family
ID=40852328
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011511769A Active JP5588971B2 (ja) | 2008-05-30 | 2009-05-27 | X線光学システム及び試料を分析する方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7720197B2 (ja) |
EP (1) | EP2304739B9 (ja) |
JP (1) | JP5588971B2 (ja) |
CA (1) | CA2725521C (ja) |
WO (1) | WO2009154967A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWM369027U (en) * | 2009-07-02 | 2009-11-21 | Univ Far East | Watering-hint flower pots by utilizing humidity sensing material |
US8126117B2 (en) * | 2010-02-03 | 2012-02-28 | Rigaku Innovative Technologies, Inc. | Multi-beam X-ray system |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3982824A (en) | 1971-12-01 | 1976-09-28 | Raytheon Company | Catoptric lens arrangement |
FR2180636B1 (ja) * | 1972-04-17 | 1976-10-29 | Raytheon Co | |
CA2095222C (en) * | 1990-10-31 | 2002-09-10 | Muradin A. Kumakhov | Device for controlling beams of particles, x-ray and gamma quanta and uses thereof |
US5497008A (en) * | 1990-10-31 | 1996-03-05 | X-Ray Optical Systems, Inc. | Use of a Kumakhov lens in analytic instruments |
JP3141660B2 (ja) * | 1993-12-15 | 2001-03-05 | 株式会社ニコン | X線照射装置 |
JP3371512B2 (ja) * | 1994-02-23 | 2003-01-27 | 株式会社ニコン | 照明装置及び露光装置 |
JP3305119B2 (ja) * | 1994-06-23 | 2002-07-22 | 株式会社日立製作所 | X線投影露光装置 |
JPH08247967A (ja) * | 1995-03-15 | 1996-09-27 | Nikon Corp | 微小領域平行光線照射装置 |
JP3608015B2 (ja) * | 1996-04-16 | 2005-01-05 | 株式会社ニコン | 照明装置および露光装置 |
US6069934A (en) * | 1998-04-07 | 2000-05-30 | Osmic, Inc. | X-ray diffractometer with adjustable image distance |
US7415096B2 (en) * | 2005-07-26 | 2008-08-19 | Jordan Valley Semiconductors Ltd. | Curved X-ray reflector |
US7317784B2 (en) * | 2006-01-19 | 2008-01-08 | Broker Axs, Inc. | Multiple wavelength X-ray source |
US7634052B2 (en) * | 2006-10-24 | 2009-12-15 | Thermo Niton Analyzers Llc | Two-stage x-ray concentrator |
-
2008
- 2008-05-30 US US12/130,574 patent/US7720197B2/en active Active
-
2009
- 2009-05-27 CA CA2725521A patent/CA2725521C/en active Active
- 2009-05-27 EP EP09767279.4A patent/EP2304739B9/en active Active
- 2009-05-27 JP JP2011511769A patent/JP5588971B2/ja active Active
- 2009-05-27 WO PCT/US2009/045250 patent/WO2009154967A1/en active Application Filing
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CA2725521C (en) | 2016-08-23 |
EP2304739B9 (en) | 2013-10-02 |
CA2725521A1 (en) | 2009-12-23 |
EP2304739B1 (en) | 2013-05-22 |
US7720197B2 (en) | 2010-05-18 |
US20090296889A1 (en) | 2009-12-03 |
EP2304739A1 (en) | 2011-04-06 |
WO2009154967A1 (en) | 2009-12-23 |
JP2011522256A (ja) | 2011-07-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CA2720776C (en) | X-ray generator with polycapillary optic | |
KR102133912B1 (ko) | 회전체 미러를 사용한 x선 집광시스템의 광학설계방법 및 x선 집광시스템 | |
CZ301342B6 (cs) | Systém pro úpravu rentgenových paprsku | |
US7366374B1 (en) | Multilayer optic device and an imaging system and method using same | |
JP2009122686A5 (ja) | ||
HU191444B (en) | Reflector lamp | |
JP5588971B2 (ja) | X線光学システム及び試料を分析する方法 | |
JP2011522256A5 (ja) | ||
US7298822B2 (en) | X-ray optical element | |
JP2003014895A (ja) | X線分析装置およびx線供給装置 | |
JPH04335514A (ja) | X線露光装置 | |
JP3141660B2 (ja) | X線照射装置 | |
JPH1196815A (ja) | 光源装置 | |
CN114063375A (zh) | 一种光源系统 | |
JP2006017653A (ja) | 放射線発生装置 | |
WO2012002462A1 (ja) | 光源装置およびそれを備えた擬似太陽光照射装置 | |
US20140328080A1 (en) | Arc lamp having dual paraboloid retroreflector | |
US20080159472A1 (en) | Device for improving the resolution capability of an x-ray optical apparatus | |
JP5846970B2 (ja) | 反射鏡アンテナ、反射鏡アンテナにおける光線放射方法 | |
WO2022091992A1 (ja) | テラヘルツ光源、流体検知器、及び、テラヘルツ波生成方法 | |
JP2940132B2 (ja) | 放光装置 | |
JP2009250910A (ja) | X線集光装置 | |
JPH06300897A (ja) | X線光学装置 | |
JP2012049053A (ja) | 光源装置 | |
JP2003536081A (ja) | X線光学系 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110202 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120223 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120828 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20121127 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20121204 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20121220 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20121228 |
|
A524 | Written submission of copy of amendment under article 19 pct |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A524 Effective date: 20130207 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130528 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20130827 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20130903 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131030 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140114 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140325 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140701 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140728 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5588971 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |