JP5587848B2 - 半導体積層構造の製造方法 - Google Patents
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- 基板の上に六方晶系の窒化ホウ素からなる分離層を形成する工程と、
前記分離層の上にアルミニウムを含む窒化物半導体からなる第1半導体層を+c軸方向に結晶成長する工程と、
c軸方向に結晶成長された窒化物半導体から構成されて主表面がIII族極性面とされた第2半導体層の主表面に、前記第1半導体層のIII族極性面を貼り合わせる工程と、
前記第1半導体層と前記基板とを前記分離層で分離する工程と
を少なくとも備えることを特徴とする半導体積層構造の製造方法。 - 請求項1記載の半導体積層構造の製造方法において、
基板の上に六方晶系の窒化ホウ素からなる分離層を形成する工程と、
前記分離層の上にアルミニウムを含む窒化物半導体からなる第3半導体層を+c軸方向に結晶成長する工程と、
前記第3半導体層と前記基板とを前記分離層で分離する工程と、
前記第2半導体層の主表面に貼り合わされた前記第1半導体層のN極性面に、前記第3半導体層の前記基板より剥離した側のN極性面を貼り合わせる工程と
を少なくとも備えることと特徴とする半導体積層構造の製造方法。 - 基板の上に六方晶系の窒化ホウ素からなる分離層を形成する工程と、
前記分離層の上にアルミニウムを含む窒化物半導体からなる第1半導体層を+c軸方向に結晶成長する工程と、
c軸方向に結晶成長された窒化物半導体から構成されて主表面がIII族極性面とされた第2半導体層の主表面と、前記第1半導体層のIII族極性面とを、各々のIII族極性面に大気中でプラズマを照射してこれらの表面を活性化し、この状態で各々のIII族極性面を当接させて熱処理を加えることで貼り合わせる工程と、
前記第1半導体層と前記基板とを前記分離層で分離する工程と
を少なくとも備える
ことを特徴とする半導体積層構造の製造方法。 - 請求項3記載の半導体積層構造の製造方法において、
基板の上に六方晶系の窒化ホウ素からなる分離層を形成する工程と、
前記分離層の上にアルミニウムを含む窒化物半導体からなる第3半導体層を+c軸方向に結晶成長する工程と、
前記第3半導体層と前記基板とを前記分離層で分離する工程と、
前記第2半導体層の主表面に貼り合わされた前記第1半導体層のN極性面と、前記第3半導体層の前記基板より剥離した側のN極性面とを、各々のN極性面に大気中でプラズマを照射してこれらの表面を活性化し、この状態で各々のN極性面を当接させ、所定の熱処理を加えることで貼り合わせる工程と
を少なくとも備えることと特徴とする半導体積層構造の製造方法。 - 請求項1〜4のいずれか1項に記載の半導体積層構造の製造方法において、
前記結晶成長は、有機金属気相成長法により行うことを特徴とする半導体積層構造の製造方法。
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