JP5579614B2 - 半導体・オン・インシュレータ装置を形成するための基板組成および方法の改善 - Google Patents
半導体・オン・インシュレータ装置を形成するための基板組成および方法の改善 Download PDFInfo
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- ガラス基板と、
電気分解法によりガラス基板にボンディングされた単結晶半導体層と、
を備えた半導体・オン・インシュレータ構造であって、
前記ガラス基板の組成が、その液相線粘度が約10,000Pa・s(約100,000ポアズ)以上になるものであり、
前記ガラス組成が、モル%で、かつ酸化物基準でバッチから計算される場合に、
64〜72%のSiO 2 ,
9〜16.5%のAl 2 O 3 ,
0〜5%B 2 O 3 ,
0.5〜7.5%のMgO,
1〜10%のCaO,
0〜4.5%のSrO,
0〜7%のBaO,および
0〜9%の(La 2 O 3 +Y 2 O 3 +Re 2 O 3 )
になることを特徴とする、半導体・オン・インシュレータ構造。 - 前記ガラス基板の歪み点が、約650℃よりも大きいことを特徴とする請求項1記載の半導体・オン・インシュレータ構造。
- モル%において、MgO,CaO,SrO,BaO,および3La2O3の合計をAl2O3で割った商が約1.10以上であり、
(RO+1.5×Re 2O3)/Al2O3が約0.85〜1.2である
ことを特徴とする請求項1記載の半導体・オン・インシュレータ構造。 - 前記単結晶半導体層が、前記ガラス基板のドローしたままの状態の表面に、電気分解法により、ボンディングされることを特徴とする請求項1記載の半導体・オン・インシュレータ構造。
- 半導体・オン・インシュレータ構造を形成する方法であって、
ドナー単結晶半導体ウェハの注入面をイオン注入工程に供して、前記ドナー半導体ウェハの剥離層を生じさせる工程と、
前記剥離層の注入面を、電気分解法を用いてガラス基板にボンディングする工程と、
前記剥離層を前記ドナー半導体ウェハから分離し、それによって前記剥離層の劈開面を曝露する工程と、
前記剥離層および前記ガラス基板の両方を一定の時間、少なくとも700℃の温度まで上昇させることによって、前記剥離層をアニーリングして、前記イオン注入工程に由来する残留イオンを低減する工程と、
を有してなる方法であって、
前記ガラス基板が、モル%で、かつ酸化物基準でバッチから計算される場合に、
64〜72%のSiO 2 ,
9〜16.5%のAl 2 O 3 ,
0〜5%B 2 O 3 ,
0.5〜7.5%のMgO,
1〜10%のCaO,
0〜4.5%のSrO,
0〜7%のBaO,および
0〜9%の(La 2 O 3 +Y 2 O 3 +Re 2 O 3 )となる組成を有することにより、前記ガラス基板の液相線粘度が約10,000Pa・s(約100,000ポアズ)以上となっていることを特徴とする方法。 - モル%において、MgO,CaO,SrO,BaO,および3La2O3の合計をAl2O3で割った商が約1.10以上であり、
(RO+1.5×Re 2O3)/Al2O3が約0.85〜1.2であることを特徴とする請求項5記載の方法。 - 前記ガラス基板の歪み点が約650℃よりも大きいことを特徴とする請求項5記載の方法。
- 前記ボンディングする工程が、前記剥離層の注入面を、前記ガラス基板のドローしたままの状態の表面にボンディングすることを特徴とする請求項5記載の方法。
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