JP5558225B2 - 方向性結合器 - Google Patents

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Description

本発明は、方向性結合器に関するものであり、特に高周波線路として方形導波管型高周波線路を使用した導波管型の方向性結合器に関するものである。
ミリ波等の高周波帯で用いられる方向性結合器として、互いに平行に隣接配置された2つの導波管の共有する管壁に、導波管の長さ方向に沿って2つの結合用貫通孔を形成した構造を備える方向性結合器が知られている。このような方向性結合器においては、2つの結合用貫通孔の間隔を管内波長の1/4の奇数倍に設定することにより、異なる結合用貫通孔を通過して特定方向に進行する2つの信号同士を打ち消し合わせることができるため、方向性結合器として機能する。
ところがこのような従来の方向性結合器においては、特定方向において所望の周波数で2つの信号が充分に打ち消し合わないことから、充分な方向性が得られないという問題があった。このため、結合用貫通孔の部分において位相がずれることが原因と考え、この位相のずれを考慮して2つの結合用貫通孔の間隔を管内波長の1/4の奇数倍からずらすことにより方向性の改善を試みた方向性結合器が提案されている(例えば、特許文献1を参照。)。
特開2008-35187号公報
しかしながら、特許文献1にて提案された方向性結合器によれば、従来の方向性結合器と比較して方向性が改善されるものの、その効果は充分なものではなかった。
本発明はこのような従来の技術における問題点に鑑みて案出されたものであり、その目的は、充分な方向性を有する導波管型の方向性結合器を提供することにある。
本発明の第1の方向性結合器は、互いに平行に隣接して配置された、管内波長が等しい第1および第2の導波管型高周波線路と、該第1および第2の導波管型高周波線路の長さ方向に所定の間隔Lをあけて、前記第1および第2の導波管型高周波線路を隔てる管壁を貫通するように形成された、同一形状を有する第1および第2の結合用貫通孔とを備え、前記第1の導波管型高周波線路の両端がそれぞれ第1,第2ポートとなり、前記第2の導波管型高周波線路の両端がそれぞれ第3,第4ポートとなり、前記第1および第3ポートが同じ側に配置され、前記第2および第4ポートが同じ側に配置された方向性結合器であって、前記第1および第2の結合用貫通孔の部位のそれぞれにおいて、前記第1ポート側から入射して結合用貫通孔の部位で反射して入射方向へ戻る信号の反射係数をA11exp(jθ11),結合用貫通孔を介して前記第3ポート側から前記第1ポート側へ通過する信号の伝送係数をA13exp(jθ13),前記第1ポート側から前記第2ポート側へ通過する信号の伝送係数をA21exp(jθ21),結合用貫通孔を介して前記第1ポート側から前記第3ポート側へ通過する信号の伝送係数をA31exp(jθ31),結合用貫通孔を介して前記第2ポート側から前記第3ポート側へ通過する信号の伝送係数をA32exp(jθ32),前記第3ポート側から入射して結合用貫通孔の部位で反射
して入射方向へ戻る信号の反射係数をA33exp(jθ33),前記第4ポート側から前記第3ポート側へ通過する信号の伝送係数をA34exp(jθ34),結合用貫通孔を介して前記第1ポート側から前記第4ポート側へ通過する信号の伝送係数をA41exp(jθ41)とし、前記第1および第2の導波管型高周波線路における管内波長をλgとすると、前記所定の間隔Lは、L=(θ/π+n)λg/2 (0<θ<π,nは0または自然数)を満たすとともに、θは、C1=A31exp(jθ31),C2=A213134exp{j(θ21+θ31+θ34−2θ)},C3=A211132exp{j(θ21+θ11+θ32−2θ)},C4=A413334exp{j(θ41+θ33+θ34−2θ)},C5=A411332exp{j(θ41+θ13+θ32−2θ)}で示される5つのベクトルC1,C2,C3,C4およびC5が互いに打ち消し合うような値に設定されていることを特徴とするものである。
また、本発明の第2の方向性結合器は、前記第1および第2の導波管型高周波線路の横断面の形状が等しいことを特徴とするものである。
なお、本明細書において、2つの結合用貫通孔の間隔Lは、第1および第2の導波管型高周波線路の長さ方向において、それぞれの結合用貫通孔が形成された領域の中心同士の間隔を意味する。
本発明の方向性結合器によれば、第1ポートから入力されて第3ポートから出力される高周波信号が所望の周波数において充分に打ち消し合うため、方向性の優れた方向性結合器を得ることができる。
本発明の実施の形態の第1の例の方向性結合器を模式的に示す斜視図である。 図1に示す方向性結合器における第1の信号伝播ルートを模式的に示す縦断面図である。 図1に示す方向性結合器における第2の信号伝播ルートを模式的に示す縦断面図である。 図1に示す方向性結合器における第3の信号伝播ルートを模式的に示す縦断面図である。 図1に示す方向性結合器における第4の信号伝播ルートを模式的に示す縦断面図である。 図1に示す方向性結合器における第5の信号伝播ルートを模式的に示す縦断面図である。 伝送係数および反射係数の算出方法の一例を説明するための模式図である。 本発明の実施の形態の第2の例の方向性結合器を模式的に示す斜視図である。 本発明の実施の形態の第3の例の方向性結合器を模式的に示す斜視図である。 本発明の実施の形態の第1の例の方向性結合器の電気特性のシミュレーション結果を示すグラフである。 本発明の実施の形態の第2の例の方向性結合器の電気特性のシミュレーション結果を示すグラフである。 比較例の方向性結合器の電気特性のシミュレーション結果を示すグラフである。
以下、本発明の方向性結合器を添付の図面を参照しつつ詳細に説明する。
(実施の形態の第1の例)
図1は本発明の実施の形態の第1の例の方向性結合器を模式的に示す斜視図である。
本例の方向性結合器は、図1に示すように、第1および第2の導波管型高周波線路10,20と、第1の導波管型高周波線路10と、第2の導波管型高周波線路20と、第1および第2の導波管型高周波線路10,20で共有される管壁30と、第1の結合用貫通孔41と、第2の結合用貫通孔42と、第1ポート51と、第2ポート52と、第3ポート53と、第4ポート54とを備えている。
第1の導波管型高周波線路10および第2の導波管型高周波線路20は、互いに平行に隣接して配置された、管内波長が等しい方形導波管である。第1および第2の導波管型高周波線路10,20の横断面(図のx−y平面)の形状は、同一であり、どちらも矩形状である。また、第1および第2の導波管型高周波線路10,20の管内は、それぞれ空気で満たされている。このように、第1および第2の導波管型高周波線路10,20は、その横断面の幅(図のx軸方向の寸法)が互いに等しく、導波管内の誘電率も互いに等しいことから、管内波長(特定周波数の高周波信号の管内波長)が互いに等しくなっている。そして、第1および第2の導波管型高周波線路10,20は、それぞれの4つの管壁のうちの1つの管壁30を共有するように高さ方向(図のy軸方向)に重ねて配置されて一体化されている。そして、第1の導波管型高周波線路の一方端が第1ポート51、他方端が第2ポート52となり、第2の導波管型高周波線路一方端が第3ポート53、他方端が第4ポート54となり、第1ポート51および第3ポート53が同じ側に配置され、第2ポート52および第4ポート54が同じ側に配置されている。また、第1および第2の導波管型高周波線路10,20は、それぞれ幅方向(図のx軸方向)の寸法が高さ方向(図のy軸方向)の寸法よりも大きくされており、第1および第2の導波管型高周波線路10,20で共有されている管壁30は、第1および第2の導波管型高周波線路10,20におけるH面(磁界に平行な面)となっている。そして、第1および第2の導波管型高周波線路10,20は、幅方向(図のx軸方向)に1つの定在波が存在するTE10モードが、長さ方向(図のz軸方向)に伝播する方形導波管となっている。
第1の結合用貫通孔41および第2の結合用貫通孔42は、第1および第2の導波管型高周波線路10,20で共有されている1つの管壁30に、第1および第2の導波管型高周波線路10,20の長さ方向(高周波信号の伝播方向であり、図のz軸方向)に所定の間隔Lをあけて形成されている。すなわち、第1および第2の結合用貫通孔41,42は、第1および第2の導波管型高周波線路を隔てる管壁30を貫通するように形成されている。また、第1および第2の結合用貫通孔41,42は、同一の形状を有しており、それぞれ、第1および第2の導波管型高周波線路10,20の長さ方向に垂直な方向(第1および第2の導波管型高周波線路10,20の幅方向)に長い矩形状のスロットである。
そして、本例の方向性結合器によれば、第1および第2の結合用貫通孔41,42の部位のそれぞれにおいて、第1ポート51側から入射して結合用貫通孔の部位で反射して入射方向へ戻る信号の反射係数をK11=A11exp(jθ11),結合用貫通孔を介して第3ポート53側から第1ポート51側へ通過する信号の伝送係数をK13=A13exp(jθ13),第1ポート51側から第2ポート52側へ通過する信号の伝送係数をK21=A21exp(jθ21),結合用貫通孔を介して第1ポート51側から第3ポート53側へ通過する信号の伝送係数をK31=A31exp(jθ31),結合用貫通孔を介して第2ポート52側から第3ポート53側へ通過する信号の伝送係数をK32=A32exp(jθ32),第3ポート53側から入射して結合用貫通孔の部位で反射して入射方向へ戻る信号の反射係数をK33=A33exp(jθ33),第4ポート54側から第3ポート53側へ通過する信号の伝送係数をK34=A34exp(jθ34),結合用貫通孔を介して第1ポ
ート51側から第4ポート54側へ通過する信号の伝送係数をK41=A41exp(jθ41)とし、第1および第2の導波管型高周波線路10,20における管内波長をλgとしたときに、高周波信号の伝播方向において、第1の結合用貫通孔41と第2の結合用貫通孔42との間隔(高周波信号の伝播方向における第1の結合用貫通孔41が形成された領域の中心と第2の結合用貫通孔42が形成された領域の中心との間隔)Lが、
L=(θ/π+n)λg/2 (0<θ<π,nは0または自然数)
を満たすとともに、θは、
C1=A31exp(jθ31
C2=A213134exp{j(θ21+θ31+θ34−2θ)}
C3=A211132exp{j(θ21+θ11+θ32−2θ)}
C4=A413334exp{j(θ41+θ33+θ34−2θ)}
C5=A411332exp{j(θ41+θ13+θ32−2θ)}
で示される5つのベクトルC1,C2,C3,C4,C5が互いに打ち消し合うような値に設定されていることから、第1ポート51から入力されて複数の伝播ルートを経て第3ポート53へ向かう高周波信号が互いに打ち消し合って、第3ポート53から出力される高周波信号が充分に小さくなるため、方向性の優れた方向性結合器を得ることができる。この効果が得られる理由について以下に説明する。
本願の発明者らは、本例の方向性結合器のような導波管型の方向性結合器において、従来のように2つの結合用貫通孔の間隔を管内波長の1/4の奇数倍に設定すると充分な方向性が得られない現象について種々の検討を行った。その結果、第1ポート51から第3ポート53への高周波信号の伝播ルートが、従来考えられていた2つのルート以外に複数存在し、それらのルートを通過する高周波信号の影響が考慮されていないことが原因であるとの結論に達し、それを考慮した方向性の優れた方向性結合器を得ることに成功した。
図2〜図6は、図1に示す本例の方向性結合器において、第1ポート51から第3ポート53に至る複数の高周波信号の伝播ルートの中で考慮すべき主要な信号伝播ルートを模式的に示す縦断面図である。図2および図3は従来の方向性結合器において考慮されていた信号伝播ルートであるが、結合用貫通孔が形成された部位においてインピーダンスの不連続に起因する反射が生じるために図4および図5に示すような信号伝播ルートが生じることがわかった。このとき、高周波信号の反射は信号の伝播方向における結合用貫通孔の両端部で生じるが、両端部における2つの反射波を合成すると、結合用貫通孔の中心で反射すると考えることができるため、図4および図5のように図示している。また、結合用貫通孔を複数回通過することによって、図6に示すような信号伝播ルートが存在することもわかった。なお、図2〜図6に示した信号伝播ルート以外の信号伝播ルートも存在するが、それらのルートを通過する高周波信号の強度は小さいため、実用上は無視することができる。
そして、図2〜図6に示した5つの信号伝播ルートをそれぞれ通過して第3ポート53に向かう5つの高周波信号が互いに打ち消し合うように第1の結合用貫通孔41と第2の結合用貫通孔42との間隔Lを設定することにより、第3ポート53から出力される高周波信号が充分に小さくなって、方向性に優れた方向性結合器を得ることができるのであるが、5つの高周波信号は互いに大きさが異なる信号であるため、従来の方向性結合器のように互いの位相差を考慮するだけでは打ち消し合わせることができない。そこで、5つの高周波信号の大きさと位相をそれぞれ算出し、それらのベクトル和が0に近づくように第1の結合用貫通孔41と第2の結合用貫通孔42との間隔Lを設定することにより、5つの高周波信号を互いに打ち消し合わせることができ、方向性に優れた方向性結合器を得ることができる。
まず、図2〜図6に示したそれぞれの信号伝播ルートを通過する高周波信号の大きさと
位相を算出する。図2に示した第1の信号伝播ルートは、第1ポート51から入射した後に、第1の結合用貫通孔41を第1ポート51側から第3ポート53側へ通過して第3ポート53に至るルートである。この信号伝播ルートを通過する高周波信号の大きさおよび位相は、第1の結合用貫通孔41を介して第1ポート51側から第3ポート53側へ通過する信号の伝送係数をK31=A31exp(jθ31)とすると、B1=A31exp{j(θ31−2π・2L1/λg)}と表すことができる。ここで、λgは第1および第2の導波管型高周波線路10,20における管内波長である。また、A31は第1の結合用貫通孔41を介して第1ポート51側から第3ポート53側へ通過することによる高周波信号の大きさの変化を示し、θ31は第1の結合用貫通孔41を介して第1ポート51側から第3ポート53側へ通過することによる高周波信号の位相の変化を示す。そして、−2π・2L1/λgは、高周波信号が第1および第2の導波管型高周波線路10,20内をそれぞれ距離L1だけ伝播することによる位相変化を示している。なお、第1および第2の導波管型高周波線路10,20内を伝播することによる高周波信号の大きさの変化は充分に小さいため無視している。
同様に、図3に示した第2の信号伝播ルートは、第1ポート51から入射した後に、第1の結合用貫通孔41の部位を第1ポート51側から第2ポート52側へ通過し、第2の結合用貫通孔42を第1ポート51側から第3ポート53側へ通過した後に、第1の結合用貫通孔41の部位を第4ポート54側から第3ポート53側へ通過して第3ポート53に至るルートである。この信号伝播ルートを通過する高周波信号の大きさおよび位相は、第1の結合用貫通孔41の部位において第1ポート51側から第2ポート52側へ通過する信号の伝送係数をK21=A21exp(jθ21),第2の結合用貫通孔42を介して第1ポート51側から第3ポート53側へ通過する信号の伝送係数をK31=A31exp(jθ31),第1の結合用貫通孔41の部位において第4ポート54側から第3ポート53側へ通過する信号の伝送係数をK34=A34exp(jθ34)とすると、B2=A213134exp{j(θ21+θ31+θ34−2θ−2π・2L1/λg)}と表すことができる。ここで、−2θは、高周波信号が第1および第2の導波管型高周波線路10,20内をそれぞれ距離Lだけ伝播することによる位相変化を示している。
同様に、図4に示した第3の信号伝播ルートは、第1ポート51から入射した後に、第1の結合用貫通孔41の部位を第1ポート51側から第2ポート52側へ通過し、第2の結合用貫通孔42の部位で第1ポート51側へ反射し、第1の結合用貫通孔41を第2ポート52側から第3ポート53側へ通過して第3ポート53に至るルートである。この信号伝播ルートを通過する高周波信号の大きさおよび位相は、第1の結合用貫通孔41の部位において第1ポート51側から第2ポート52側へ通過する信号の伝送係数をK21=A21exp(jθ21),第1ポート51側から入射して第2の結合用貫通孔42の部位で反射して入射方向へ戻る信号の反射係数をK11=A11exp(jθ11),第1の結合用貫通孔41を介して第2ポート52側から第3ポート53側へ通過する信号の伝送係数をK32=A32exp(jθ32)とすると、B3=A211132exp{j(θ21+θ11+θ32−2θ−2π・2L1/λg)}と表すことができる。
同様に、図5に示した第4の信号伝播ルートは、第1ポート51から入射した後に、第1の結合用貫通孔41を第1ポート51側から第4ポート54側へ通過し、第2の結合用貫通孔42の部位で第3ポート53側へ反射し、第1の結合用貫通孔41の部位を第4ポート54側から第3ポート53側へ通過して第3ポート53に至るルートである。この信号伝播ルートを通過する高周波信号の大きさおよび位相は、第1の結合用貫通孔41を介して第1ポート51側から第4ポート54側へ通過する信号の伝送係数をK41=A41exp(jθ41),第3ポート53側から入射して第2の結合用貫通孔42の部位で反射して入射方向へ戻る信号の反射係数をK33=A33exp(jθ33),第1の結合用貫通孔41の部位において第4ポート54側から第3ポート53側へ通過する信号の伝送係数をK34=A34exp(jθ34)とすると、B4=A413334exp{j(θ41+θ33+θ34−2θ−
2π・2L1/λg)}と表すことができる。
同様に、図6に示した第5の信号伝播ルートは、第1ポート51から入射した後に、第1の結合用貫通孔41を第1ポート51側から第4ポート54側へ通過し、第2の結合用貫通孔42を第3ポート53側から第1ポート51側へ通過し、第1の結合用貫通孔41を第2ポート52側から第3ポート53側へ通過して第3ポート53に至るルートである。この信号伝播ルートを通過する高周波信号の大きさおよび位相は、第1の結合用貫通孔41を介して第1ポート51側から第4ポート54側へ通過する信号の伝送係数をK41=A41exp(jθ41),第2の結合用貫通孔42を介して第3ポート53側から第1ポート51側へ通過する信号の伝送係数をK13=A13exp(jθ13),第1の結合用貫通孔41を介して第2ポート52側から第3ポート53側へ通過する信号の伝送係数をK32=A32exp(jθ32)とすると、B5=A411332exp{j(θ41+θ13+θ32−2θ−2π・2L1/λg)}と表すことができる。
よって、このようなB1,B2,B3,B4およびB5のベクトル和を0に近づけることにより、5つの伝播ルートを通過した高周波信号を互いに打ち消し合わせることができる。ここで、上記B1〜B5全ての位相成分には、高周波信号が第1および第2の導波管型高周波線路10,20内をそれぞれ距離L1だけ伝播することによる位相変化を示す、−2π・2L1/λgが含まれており、この位相変化は、θを算出するときには無視することができる。よって、B1〜B5のそれぞれから−2π・2L1/λgを除いて得られる、次に示すC1〜C5のベクトル和が最小値となる(実質的に最小値となる)θの値を求めればよいことになる。
C1=A31exp(jθ31
C2=A213134exp{j(θ21+θ31+θ34−2θ)}
C3=A211132exp{j(θ21+θ11+θ32−2θ)}
C4=A413334exp{j(θ41+θ33+θ34−2θ)}
C5=A411332exp{j(θ41+θ13+θ32−2θ)}
次に、上記C1〜C5を計算するのに必要な、第1の結合用貫通孔41および第2の結合用貫通孔42の部位における、各伝送係数および反射係数の算出方法の一例を示す。図7は、図1に示す方向性結合器において第2の結合用貫通孔42を無くして、第1の結合用貫通孔41のみが存在するようにした構造を模式的に示す縦断面図である。このような構造における第1〜第4ポート51〜54におけるSパラメータをシミュレーションまたは実験によって求めることにより、上記各伝送係数および反射係数を算出することができる。なお、図7において、図1〜図6に示した方向性結合器と同様の構成要素には同一の参照符号を付して重複する説明を省略する。
図7に示す構造において第1ポート51における反射係数であるS11は、第1ポート51側から入射して第1の結合用貫通孔41の部位で反射して入射方向へ戻る信号の反射係数をK11=A11exp(jθ11)とすると、S11=A11exp{j(θ11−2π・2L2/λg)}と表すことができる。ここで、L2は第1ポート51から第1の結合用貫通孔41の部位の中心までの距離であり、λgは管内波長であり、−2π・2L2/λgは、高周波信号が第1の導波管型高周波線路10内を距離2L2だけ伝播することによる位相変化を示す。管内波長λgは導波管の寸法および管内の誘電率から算出できるため、−2π・2L2/λgは計算で求めることができる。よって、S11をシミュレーションまたは測定によって求めることにより、S11からK11を算出することができる。なお、第1および第2の導波管型高周波線路10,20は同一の構造を有するため、第3ポート53側から入射して第1の結合用貫通孔41の部位で反射して入射方向へ戻る信号の反射係数をK33=A33exp(jθ33)とすると、K33はK11に一致する。
同様に、図7に示す構造において第1ポート51から第2ポート52への伝送係数であるS21は、第1の結合用貫通孔41の部位において第1ポート51側から第2ポート52側へ通過する信号の伝送係数をK21=A21exp(jθ21)とすると、S21=A21exp{j(θ21−2π・(L2+L3)/λg)}と表すことができる。ここで、L2+L3は第1ポート51から第2ポート52までの伝播距離であり、−2π・(L2+L3)/λgは、高周波信号が第1および第2の導波管型高周波線路10,20内を距離(L2+L3)だけ伝播することによる位相変化を示す。そして、−2π・(L2+L3)/λgは計算で求めることができるので、S21をシミュレーションまたは測定によって求めることにより、S21からK21を算出することができる。そして、第1および第2の導波管型高周波線路10,20は同一の構造を有するため、第1の結合用貫通孔41の部位において第3ポート53側から第4ポート54側へ通過する信号の伝送係数をK34=A34exp(jθ34)とすると、K34はK21に一致する。
同様に、図7に示す構造において第1ポート51から第3ポート53への伝送係数であるS31は、第1の結合用貫通孔41を介して第1ポート51側から第3ポート53側へ通過する信号の伝送係数をK31=A31exp(jθ31)とすると、S31=A31exp{j(θ31−2π・2L2/λg)}と表すことができる。ここで、2L2は第1ポート51から第3ポート53までの伝播距離であり、−2π・2L2/λgは、高周波信号が第1および第2の導波管型高周波線路10,20内を距離2L2だけ伝播することによる位相変化を示す。そして、−2π・2L2/λgは計算で求めることができるので、S31をシミュレーションまたは測定によって求めることにより、S31からK31を算出することがきる。
同様に、図7に示す構造において第1ポート51から第4ポート54への伝送係数であるS41は、第1の結合用貫通孔41を介して第1ポート51側から第4ポート54側へ通過する信号の伝送係数をK41=A41exp(jθ41)とすると、S41=A41exp{j(θ41−2π・(L2+L3)/λg)}と表すことができる。ここで、L2+L3は第1ポート51から第4ポート54までの伝播距離であり、−2π・(L2+L3)/λgは、高周波信号が第1および第2の導波管型高周波線路10,20内を距離(L2+L3)だけ伝播することによる位相変化を示す。そして、−2π・(L2+L3)/λgは計算で求めることができるので、S41をシミュレーションまたは測定によって求めることにより、S41からK41を算出することができる。そして、第1および第2の導波管型高周波線路10,20は同一の構造を有するため、第1の結合用貫通孔41を介して第2ポート52側から第3ポート53側へ通過する信号の伝送係数をK32=A32exp(jθ32)とすると、K32はK41に一致する。
このようにして、図7に示すような、作成したい方向性結合器と同じ断面形状を備えるとともに同一形状の結合用貫通孔を1つだけ備える構造の第1〜第4ポート51〜54におけるSパラメータをシミュレーションまたは測定によって求めることにより、C1〜C5の算出に必要な全ての反射係数および伝送係数を得ることができる。
なお、第1の結合用貫通孔41と第2の結合用貫通孔42との間隔Lについては、あまりに小さくすると第1および第2の結合用貫通孔41,42同士の結合が生じて好ましくないので、管内波長の1/4よりも大きく設定するのが望ましい。
また、本例の方向性結合器によれば、第1および第2の導波管型高周波線路10,20の横断面の形状が等しいことから、上述したように、K33はK11に一致し、K34はK21に一致し、K32はK41に一致するので、設計が容易な方向性結合器を得ることができる。
(実施の形態の第2の例)
図8は本発明の実施の形態の第2の例の方向性結合器を模式的に示す斜視図である。なお、本例においては前述した第1の例と異なる点のみについて説明し、同様の構成要素については同一の参照符号を用いて重複する説明を省略する。
本例の方向性結合器は、図8に示すように、第1および第2の導波管型高周波線路10,20は、幅方向(図のx軸方向)の寸法は互いに等しいが、高さ方向(図のy軸方向)の寸法が互いに異なっている。より詳細には、第1の導波管型高周波線路10の高さ方向(図のy軸方向)の寸法が、第2の導波管型高周波線路20の高さ方向(図のy軸方向)の寸法よりも小さくされている。
このような構成を備える本例の方向性結合器においても、第1および第2の導波管型高周波線路10,20の幅方向(図のx軸方向)の寸法が互いに等しいことから、第1および第2の導波管型高周波線路10,20の管内波長が互いに等しい。よって、本例の方向性結合器も、前述した実施の形態の第1の例の方向性結合器と全く同様に、方向性の優れた方向性結合器として機能させることができる。
(実施の形態の第3の例)
図9は本発明の実施の形態の第3の例の方向性結合器を模式的に示す外観斜視図である。なお、図9においては、構造をわかりやすくするために誘電体基板の図示を省略するとともに、管壁用主導体層61の一部を取り除いた状態を示している。また、本例においては前述した第1の例と異なる点のみについて説明し、同様の構成要素については同一の参照符号を用いて重複する説明を省略する。
本例の方向性結合器は、図9に示すように、第1および第2の導波管型高周波線路10,20が複数の誘電体層が積層された誘電体基板(図示せず)中に形成された誘電体導波管線路で構成されている。すなわち、各導波管の上下の管壁が、誘電体基板の上下面および誘電体層の層間に配置された管壁用主導体層61,62,63で構成されており、各導波管の側壁は、誘電体層の層間に配置された管壁用副導体層64および管壁用貫通導体群65によって構成されている。なお、管壁用貫通導体群65を構成する隣接する貫通導体間の距離を高周波信号の波長の1/2未満に形成することにより電磁波の漏れが抑えられ、導波管の管壁として機能させている。
このような構成を備える本例の方向性結合器によれば、方向性結合器が誘電体基板中に形成されているため、誘電体基板の比誘電率をεとすると、1/√ε(εは)に小型化できるとともに、セラミック多層積層技術を適用して製造できるため、低コストな方向性結合器を得ることができる。
本例の方向性結合器において、誘電体基板(図示せず)の材質としては、高周波信号の伝送を妨げない特性を有するものであれば特に限定するものではなく、ガラスエポキシ等の樹脂を使用することも可能であるが、加工精度および製造の容易性の点からは誘電体セラミックスを使用することが望ましい。また、誘電体基板の比誘電率は、例えば2〜20程度に設定される。
管壁用主導体層61,62,63,管壁用副導体層64および管壁用貫通導体群65は、例えば、アルミニウムや銅などの良導電性の金属を使用できる。管壁用主導体層61,62,63および管壁用副導体層64の厚みは、例えば、3μm〜50μm程度とされる。管壁用貫通導体群65としてはビアホールやスルーホールを用いることができ、その直径は、例えば0.05mm〜0.5mm程度とされる。
このような管壁用主導体層61,62,63,管壁用副導体層64および管壁用貫通導体群65が配置された誘電体基板は、例えば、次のようにして作製することができる。まず、ガラス,アルミナ,窒化アルミニウム等を主成分とするセラミック原料粉末に適当な有機溶剤と溶媒とを添加混合して得た泥漿を用いて、ドクターブレード法やカレンダーロール法等によってセラミックグリーンシートを作製する。次に、金属粉末に適当なアルミナ・シリカ・マグネシア等の酸化物や有機溶剤等を添加混合してペースト状にしたものを、厚膜印刷法によりセラミックグリーンシートの表面に塗布して導体ペースト付きセラミックグリーンシートを作製する。次に、得られた導体ペースト付きセラミックグリーンシートを積層し、ホットプレス装置を用いて圧着して積層体を形成する。そして、得られた積層体を、誘電体基板がガラスセラミックスの場合は850℃〜1000℃程度、アルミナ質セラミックス
の場合は1500℃〜1700℃程度、窒化アルミニウム質セラミックスの場合は1600℃〜1900℃程度のピーク温度で焼成することによって作製される。なお、金属粉末としては、誘電体基板21がガラスセラミックスの場合は銅,金または銀が、誘電体基板がアルミナ質セラミックスまたは窒化アルミニウム質セラミックスの場合にはタングステンまたはモリブデンが好適である。
(変形例)
本発明は前述した実施の形態の例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々の変更,改良が可能である。
例えば、前述した実施の形態の例においては、第1および第2の導波管型高周波線路10,20が共有するH面となる管壁30に第1および第2の結合用貫通孔41,42が形成された構成を示したが、第1および第2の導波管型高周波線路10,20がE面となる管壁を共有し、その共有するE面となる管壁に2つの管壁に第1および第2の結合用貫通孔41,42が形成される構成としても構わない。
また、前述した実施の形態の例においては、第1および第2の結合用貫通孔41,42が矩形の場合を示したが、結合用貫通孔として機能すれば他の形状でもよく、例えば、長円型の結合用貫通孔としても構わない。
さらに、前述した実施の形態の例においては、第1および第2の導波管型高周波線路10,20が1つの管壁30を共有する例を示したが、これに限定されるものではない。例えば、それぞれの導波管型高周波線路の対応する1つの管壁(どちらもE面となる1つの管壁またはどちらもH面となる1つの管壁)が隣接するように配置されて、その隣接する一対の管壁を貫通するように第1および第2の結合用貫通孔41,42が形成されるようにしても構わない。
次に、本発明の方向性結合器の具体例について説明する。
図1に示した実施の形態の第1の例の方向性結合器における電気特性を電磁場解析によるシミュレーションによって算出した。算出条件としては、第1および第2の導波管型高周波線路10,20の幅(図のx軸方向の寸法)を2.54mmとし、高さ(図のy軸方向の寸法)を1.27mmとし、導波管内部は空洞(空気)とした。第1および第2の結合用貫通孔41,42の断面形状は、それぞれ長さが2.53mmで幅が0.53mmの矩形状とした。中心周波数は76.5GHzに設定した。第1および第2の結合用貫通孔41,42の間隔Lは、前述した方法で算出した結果2.304mmとなった。
そして、第1ポート51から第3ポート53への通過特性(S31)を算出した。図10はその結果を示すグラフであり、横軸は周波数を表し、縦軸は減衰量を表している。図10に示
すグラフによれば、設計した中心周波数の76.5GHzに減衰極が形成されており、76.5GHzにおける減衰量は−50dBを超えており、良好な方向性が得られていることがわかる。
次に、図8に示した実施の形態の第2の例の方向性結合器における電気特性を電磁場解析によるシミュレーションによって算出した。このシミュレーションにおいては、第2の導波管型高周波線路20の高さ(図のy軸方向の寸法)を1.17mmとし、それによって、前述した方法で算出した第1および第2の結合用貫通孔41,42の間隔Lは2.348mmとなっ
た。それ以外の条件は、上述した実施の形態の第1の例の方向性結合器のシミュレーションと同じとした。
第1ポート51から第3ポート53への通過特性(S31)のシミュレーション結果を図11に示す。図11のグラフにおいて、横軸は周波数を表し、縦軸は減衰量を表している。図11に示すグラフによれば、設計した中心周波数の76.5GHzに減衰極が形成されており、76.5GHzにおける減衰量は−50dB程度であり、良好な方向性が得られていることがわかる。
次に、従来の方向性結合器のように第1および第2の結合用貫通孔41,42の間隔Lを管内波長の1/4である1.539mmに設定した比較例の方向性結合器のシミュレーション結
果を図12に示す。図12に示すグラフによれば、減衰極は中心周波数の76.5GHzから大きく離れた88.5GHzに形成されており、中心周波数の76.5GHzにおける減衰量は−10dBにも及ばず、良好な方向性が得られていないことがわかる。なお、第1および第2の結合用貫通孔41,42の間隔Lを管内波長の3/4である4.617mmに設定した方向性結合器
の電気特性のシミュレーションも行ったが、減衰極は中心周波数の76.5GHzから大きく離れた81.5GHzに形成され、中心周波数の76.5GHzにおける減衰量は−10dBにも及ばず、良好な方向性は得られなかった。以上の結果により本発明の有効性が確認できた。
10:第1の導波管型高周波線路
20:第2の導波管型高周波線路
30:管壁
41:第1の結合用貫通孔
42:第2の結合用貫通孔
51:第1ポート
52:第2ポート
53:第3ポート
54:第4ポート

Claims (2)

  1. 互いに平行に隣接して配置された、管内波長が等しい第1および第2の導波管型高周波線路と、該第1および第2の導波管型高周波線路の長さ方向に所定の間隔Lをあけて、前記第1および第2の導波管型高周波線路を隔てる管壁を貫通するように形成された、同一形状を有する第1および第2の結合用貫通孔とを備え、前記第1の導波管型高周波線路の両端がそれぞれ第1,第2ポートとなり、前記第2の導波管型高周波線路の両端がそれぞれ第3,第4ポートとなり、前記第1および第3ポートが同じ側に配置され、前記第2および第4ポートが同じ側に配置された方向性結合器であって、
    前記第1および第2の結合用貫通孔の部位のそれぞれにおいて、前記第1ポート側から入射して結合用貫通孔の部位で反射して入射方向へ戻る信号の反射係数をA11exp(jθ11),結合用貫通孔を介して前記第3ポート側から前記第1ポート側へ通過する信号の伝送係数をA13exp(jθ13),前記第1ポート側から前記第2ポート側へ通過する信号の伝送係数をA21exp(jθ21),結合用貫通孔を介して前記第1ポート側から前記第3ポート側へ通過する信号の伝送係数をA31exp(jθ31),結合用貫通孔を介して前記第2ポート側から前記第3ポート側へ通過する信号の伝送係数をA32exp(jθ32),前記第3ポート側から入射して結合用貫通孔の部位で反射して入射方向へ戻る信号の反射係数をA33exp(jθ33),前記第4ポート側から前記第3ポート側へ通過する信号の伝送係数をA34exp(jθ34),結合用貫通孔を介して前記第1ポート側から前記第4ポート側へ通過する信号の伝送係数をA41exp(jθ41)とし、
    前記第1および第2の導波管型高周波線路における管内波長をλgとすると、前記所定の間隔Lは、
    L=(θ/π+n)λg/2 (0<θ<π,nは0または自然数)
    を満たすとともに、θは、
    C1=A31exp(jθ31
    C2=A213134exp{j(θ21+θ31+θ34−2θ)}
    C3=A211132exp{j(θ21+θ11+θ32−2θ)}
    C4=A413334exp{j(θ41+θ33+θ34−2θ)}
    C5=A411332exp{j(θ41+θ13+θ32−2θ)}
    で示される5つのベクトルC1,C2,C3,C4およびC5が互いに打ち消し合うような値に設定されていることを特徴とする方向性結合器。
  2. 前記第1および第2の導波管型高周波線路の横断面の形状が等しいことを特徴とする請求項1に記載の方向性結合器。
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