JP5549731B2 - 二次元画像検出器 - Google Patents

二次元画像検出器 Download PDF

Info

Publication number
JP5549731B2
JP5549731B2 JP2012526191A JP2012526191A JP5549731B2 JP 5549731 B2 JP5549731 B2 JP 5549731B2 JP 2012526191 A JP2012526191 A JP 2012526191A JP 2012526191 A JP2012526191 A JP 2012526191A JP 5549731 B2 JP5549731 B2 JP 5549731B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
heat
disposed
base plate
circuit
plate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2012526191A
Other languages
English (en)
Other versions
JPWO2012014251A1 (ja
Inventor
利典 吉牟田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shimadzu Corp
Original Assignee
Shimadzu Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shimadzu Corp filed Critical Shimadzu Corp
Publication of JPWO2012014251A1 publication Critical patent/JPWO2012014251A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5549731B2 publication Critical patent/JP5549731B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144Devices controlled by radiation
    • H01L27/146Imager structures
    • H01L27/14601Structural or functional details thereof
    • H01L27/14634Assemblies, i.e. Hybrid structures
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144Devices controlled by radiation
    • H01L27/146Imager structures
    • H01L27/14601Structural or functional details thereof
    • H01L27/14609Pixel-elements with integrated switching, control, storage or amplification elements

Description

この発明は、医療分野、工業分野、原子力分野などで用いられる光または放射線を検出する二次元画像検出器に関する。
従来、この種の装置(第1の装置)として、図9に示すものが挙げられる。
この第1の装置は、半導体からなる変換層101と、変換層101に付設された蓄積・読み出し回路103と、変換層101と蓄積・読み出し回路103とを積層して保持する保持部材105と、保持部材105に埋設された冷却管107と、保持部材105の下面に配置された前段回路109と、前段回路109に接続された後段回路111と、前段回路109と蓄積・読み出し回路103とを接続したフレキシブルケーブル113と、ケース内の空気を攪拌するファン115とを備えている。
このように構成された第1の装置は、変換層101で検出された電荷を蓄積・読み出し回路103で信号として読み出し、前段回路109で信号を増幅した後、後段回路111で信号を処理しやすい信号に変換する。なお、冷却管107に冷媒を流通させ、ファン115で空気を攪拌させることにより、変換層101の恒温化と、主としてアンプ回路109の冷却を行う。
また、他の従来装置(第2の装置)として、変換層と蓄積・読み出し回路とを積層し、これらをスペーサにより筐体に対して空間を隔てて配置し、さらに、スペーサにより蓄積・読み出し回路から離間させて前段回路等を配置しておき、筐体の内部または筐体の外部にペルチェ素子を付設し、ファンにより外気を取り込むとともに筐体内の空気を排出するように構成したものがある(例えば、特許文献1参照)。
このように構成された第2の装置は、発熱源である前段回路が変換層と分離されており、それらの間の空気をペルチェ素子で温調することにより、変換層を恒温化し、アンプ回路を冷却する。
特開2003−14860号公報(段落「0012」、「0013」、図2,図3)
しかしながら、このような構成を有する従来例の場合には、次のような問題がある。
すなわち、従来の第1の装置は、冷媒を流通させるので、冷媒漏れの恐れがある。その上、冷媒を冷却したり循環させたりするための構成が必要で、装置が複雑化するという問題もある。
また、従来の第2の装置は、ペルチェ素子を用いた冷却ではあるものの、変換層と蓄積・読み出し回路と、前段回路等との隙間の空気を入れ換えることによるもので、空冷に等しい。したがって、恒温化及び冷却効率が悪いという問題がある。
さらに、従来装置は、温調に係る構成が主として一つであり、二次元画像検出器内における温度分布に大きな偏りが生じるという問題もある。
この発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、冷媒漏れ等の不都合がなく、比較的簡単な構成で、恒温化及び冷却効率を高くできつつ温度分布の偏りを小さくすることができる二次元画像検出器を提供することを目的とする。
この発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、この発明は、光または放射線を電荷信号に変換する変換層と、前記変換層で変換された電荷信号を蓄積して読み出す蓄積・読み出し基板と、前記蓄積・読み出し基板及び前記変換層を一方面に積層して保持するベース板と、前記蓄積・読み出し基板と電気的に接続され、前記ベース板の他方面に配置された外部回路と、前記ベース板との間で熱交換が可能な状態で、前記ベース板の他方面に配置された熱伝導板と、前記熱伝導板に配設され、前記外部回路に対応する位置に配置された第1のペルチェ素子と、前記第1のペルチェ素子で発生する熱を誘導するための第1のダクトと、前記熱伝導板に配設され、前記外部回路が配置されていない領域に配置された第2のペルチェ素子と、前記第2のペルチェ素子で発生する熱を誘導するための第2のダクトと、前記第1のダクト及び前記第2のダクトの熱を排出するためのファンと、を備え、前記外部回路は、発生熱量が多い前段 回路と、前記前段回路より発生熱量が少ない後段回路とを備え、前記ベース板は、他方面 の周辺部に厚さが薄い段部を備え、前記前段回路は、前記熱伝導板との間に伝熱部材を介 在して前記段部に配置されていることを特徴とするものである。
[作用・効果]この発明によれば、第1のペルチェ素子は、熱伝導板を介して主として外部回路の冷却を受け持つ。また、第2のペルチェ素子は、熱伝導板を介して主として変換層の恒温化を受け持つ。第1のペルチェ素子と第2のペルチェ素子において発生した熱は、第1のダクトと第2のダクトにより誘導されてファンにより効率的に排気される。したがって、冷媒漏れ等の不都合を回避しつつも、比較的簡単な構成で、変換層の恒温化と、外部回路の冷却効率を高めることができる。また、主として外部回路の冷却化を図る第1のペルチェ素子と、主として変換層の恒温化を図る第2のペルチェ素子とで温調を分担しているので、温度分布の偏りを従来に比較して小さくすることができる。また、外部回 路のうち蓄積・読み出し基板に接続されている前段回路をベース板の段部に配置するので 、前段回路と蓄積・読み出し基板との配線長を短くすることができる。したがって、低ノ イズ化を図ることができる。
(削除)
また、この発明において、前記前段回路は、前記ベース板との間に熱絶縁材料を介して配置されていることが好ましい。前段回路からベース板への熱伝導を抑制することができ、熱分布の偏りを抑制することができる。
また、この発明において、前記後段回路は、前記ベース板との間に熱絶縁材料を介して配置されていることが好ましい。後段回路は前段回路に比較して発熱量が少ないが、ベース板との間に熱絶縁材料を介して配置することにより、温度分布の偏りを抑制することができる。
また、この発明において、前記熱伝導板は、前記ベース板の中央部に位置する中央部熱伝導板と、前記外部回路の位置に相当する端部熱伝導板とを備え、互いに分離可能に構成されていることが好ましい。ベース板に中央部熱伝導板だけを取り付けた状態で、外部回路に対する調整や配線の接続を行うことができる。したがって、組み立てやメンテナンスを容易に行うことができる。
また、この発明は、光または放射線を電荷信号に変換する変換層と、前記変換層で変換 された電荷信号を蓄積して読み出す蓄積・読み出し基板と、前記蓄積・読み出し基板及び 前記変換層を一方面に積層して保持するベース板と、前記蓄積・読み出し基板と電気的に 接続され、前記ベース板の他方面に配置された外部回路と、前記ベース板との間で熱交換 が可能な状態で、前記ベース板の他方面に配置された熱伝導板と、前記熱伝導板に配設さ れ、前記外部回路に対応する位置に配置された第1のペルチェ素子と、前記熱伝導板に配 設され、前記外部回路が配置されていない領域に配置された第2のペルチェ素子と、前記 第1のペルチェ素子及び前記第2のペルチェ素子で発生する熱を排出するためのファンと 、を備え、前記外部回路は、発生熱量が多い前段回路と、前記前段回路より発生熱量が少 ない後段回路とを備え、前記ベース板は、他方面の周辺部に厚さが薄い段部を備え、前記 前段回路は、前記熱伝導板との間に伝熱部材を介在して前記段部に配置されていることを 特徴とするものである。
[作用・効果]この発明によれば、第1のペルチェ素子は、熱伝導板を介して主として 外部回路の冷却を受け持つ。また、第2のペルチェ素子は、熱伝導板を介して主として変 換層の恒温化を受け持つ。第1のペルチェ素子と第2のペルチェ素子において発生した熱 は、ファンにより効率的に排気される。したがって、冷媒漏れ等の不都合を回避しつつも 、比較的簡単な構成で、変換層の恒温化と、外部回路の冷却効率を高めることができる。 また、主として外部回路の冷却化を図る第1のペルチェ素子と、主として変換層の恒温化 を図る第2のペルチェ素子とで温調を分担しているので、温度分布の偏りを従来に比較し て小さくすることができる。また、外部回路のうち蓄積・読み出し基板に接続されている 前段回路をベース板の段部に配置するので、前段回路と蓄積・読み出し基板との配線長を 短くすることができる。したがって、低ノイズ化を図ることができる。
この発明に係る二次元画像検出器によれば、第1のペルチェ素子は、熱伝導板を介して主として外部回路の冷却を受け持ち、第2のペルチェ素子は、熱伝導板を介して主として変換層の恒温化を受け持つ。第1のペルチェ素子と第2のペルチェ素子において発生した熱は、第1のダクトと第2のダクトにより誘導されてファンにより効率的に排気される。したがって、変換層と外部回路に冷媒漏れ等の不都合を回避しつつも、比較的簡単な構成で、変換層の恒温化と、外部回路の冷却効率を高めることができる。また、主として外部回路の冷却化を図る第1のペルチェ素子と、主として変換層の恒温化を図る第2のペルチェ素子とで温調を分担しているので、温度分布の偏りを従来に比較して小さくすることができる。また、外部回路のうち蓄積・読み出し基板に接続されている前段回路をベース板 の段部に配置するので、前段回路と蓄積・読み出し基板との配線長を短くすることができ る。したがって、低ノイズ化を図ることができる。
実施例に係るフラットパネル型X線検出器の概略構成を示す斜視図である。 アクティブマトリクス基板と外部回路との接続関係を示す図である。 アクティブマトリクス基板の要部を示す縦断面図である。 外部回路の配置状態を示す側面図である。 恒温化・冷却を示す模式図である。 ベース板の変形例を示す側面図である。 熱伝導板の変形例を示す側面図である。 熱伝導板の他の変形例を示す斜視図である。 従来例に係る二次元画像検出器の概略構成を示す縦断面図である。
1 … フラットパネル型X線検出器(FPD)
3 … 検出器部
5 … カバー
7 … ベース板
9 … バックライト
11 … アクティブマトリクス基板
13 … 変換層
15 … アンプ回路
17 … AD基板
19 … フレキシブルケーブル
21 … 熱伝導板
23 … 中央部熱伝導板
27 … 連結部材
29 … 中央部ペルチェユニット
39 … 端部ペルチェユニット
31,41 … ペルチェユニット
33,43 … ペルチェ素子
35,45 … 冷却フィン
37,47 … ダクト
49 … ファン
51 … 吸気口
53 … 排気口
以下、図面を参照してこの発明の一実施例を説明する。
図1は、実施例に係るフラットパネル型X線検出器の概略構成を示す斜視図である。
この発明の二次元画像検出器として、フラットパネル型X線検出器1(以下、FPD1と称する)を例にとって説明する。FPD1は、例えば、被検体を透過したX線を検出する直接変換型の検出器である。
FPD1は、検出器部3と、カバー5とを備えている。検出器部3は、ベース板7と、バックライト9と、アクティブマトリクス基板11と、変換層13とを備えている。ベース板7は、一方面に相当する下面にバックライト9を備え、その下面にアクティブマトリクス基板11を備え、さらにその下面に変換層13を積層して備えている。変換層13は、例えば、アモルファスセレン(a−Se)で構成され、平面視で280mm〜500mm角程度の大きさを有する。変換層13は、放電防止のために、例えば、モールド構造により絶縁物等で覆われている。変換層13を構成する材料としては、この他に、テルル化カドミウム(CdTe)や、テルル化カドミウム亜鉛(CdZnTe)が挙げられる。バックライト9は、変換層13での検出ラグを改善するために備えられている。
ベース板7は、熱伝導性が高い材料で構成された板状の部材である。但し、上述したバックライト9、アクティブマトリクス基板11、変換層13を保持するとともに、後述する部材を保持するので、それらを保持できる程度の強度が求められる。ここでは、一例として、熱伝導率が高く剛性も高いアルミニウムを採用しているが、各部材を保持することができ、十分な熱伝導率があれば他の材料を採用してもよい。
ベース板7の他方面に相当する上面には、外部回路の一部であるアンプ回路15と、その後段に接続されるAD基板17とが配置されている。ここでは、一例として、図1における左右にアンプ回路15とAD基板17が配置されている。アンプ回路15は、アクティブマトリクス基板11に対してフレキシブルケーブル19で電気的に接続されている。図示省略しているが、後述するゲート駆動回路は、図1における前後位置に配置されている。
なお、上述したアクティブマトリクス基板11がこの発明における「蓄積・読み出し基板」に相当し、アンプ回路15がこの発明における「前段回路」に相当し、AD基板17がこの発明における「後段回路」に相当する。また、アンプ回路15とAD基板17とがこの発明における「外部回路」に相当する。
ベース板7の上面には、熱伝導板21が配置されている。この熱伝導板21は、ベース板7の中央部に配置された中央部熱伝導板23と、ベース板7の左右端部に配置された二つの端部熱伝導板25とを備えている。二つの端部熱伝導板25は、上述したアンプ回路15とAD基板17がベース板7に配置されている位置に対応する。中央部熱伝導板23と端部熱伝導板25とは、連結部材27で伝熱可能に接続されている。より詳細には、中央部熱伝導板23の左右両端部の上面に連結部材27が取り付けられ、連結部材27の上面に端部熱伝導板25が取り付けられている。換言すると、中央部熱伝導板23を中心として、端部熱伝導板25が羽を広げたような外観形状を呈する。中央部熱伝導板23と端部熱伝導板25とは、例えば、アルミニウムで構成され、連結部材27は、例えば、銅で構成されている。熱伝導率はアルミニウムより銅の方が高いので構成材料としては好ましい。しかし、中央部熱伝導板23と端部熱伝導板25は、その上面に後述する構成を取り付ける必要があるので、加工上の都合によりアルミニウムを採用している。
中央部熱伝導板23の上面には、中央部ペルチェユニット29が取り付けられている。中央部ペルチェユニット29は、二つのペルチェユニット31から構成されている。二つのペルチェユニット31は、排熱時の空気の流れを考慮して、中央部を空けて前後に配置されている。各ペルチェユニット31は、ペルチェ素子33と、冷却フィン35と、ダクト37とを備えている。ペルチェ素子33は、異種金属間における熱移動を利用した薄板状の温調デバイスである。冷却フィン35は、ペルチェ素子33の上面に付設されており、ペルチェ素子33で発生した熱を放熱する。ダクト37は、冷却フィン35が配列されている方向とは直交する方向の両端部を開放したまま、冷却フィン35を覆うように構成されている。このダクト37は、空気とともに、冷却フィン35の熱を冷却フィン35の隙間方向にだけ誘導する。
各端部熱伝導板25の上面には、端部ペルチェユニット39がそれぞれ取り付けられている。端部ペルチェユニット39は、上述した中央部ペルチェユニット29と同様に構成されている。つまり、二つのペルチェユニット41から構成され、排熱効率を考慮して、中央部を空けて配置されている。各ペルチェユニット41は、ペルチェ素子43と、冷却フィン45と、ダクト47とを備えている。
端部ペルチェユニット39の中央部には、ファン49が取り付けられている。このファン49は、横方向の四方から空気を吸い込み、上方へと排気する。ファン49は、逆に、上方から空気を吸い込んで、横方向の四方へ外気を排出するものであってもよい。ファン49は、収集信号に悪影響を与えない低ノイズタイプや低回転タイプが好ましい。この位置にファン49が配置されているのは、発熱量が多いアンプ回路15側の排熱を効率的に行うためである。中央部ペルチェユニット29を構成するペルチェユニット31間には、ファン49が配置されていないのは、中央部ペルチェユニット29の役割が冷却よりも恒温化にあるからである。但し、中央部熱伝導板23には、電源用の三端子レギュレータが取り付けられることがある。この部品は、発熱量が比較的多いので、この部品の発熱を考慮して、ペルチェユニット31間にもファン49を配置するようにしてもよい。
中央部ペルチェユニット29及び端部ペルチェユニット39は、ペルチェ素子33,43ごとに独立して温調制御される。その制御は、変換層13の側面や、端部熱伝導板25に取り付けられた温度センサ(不図示)の温度信号に基づいて行われるのが好ましい。
なお、上述した端部ペルチェユニット39がこの発明における「第1のペルチェ素子」に相当し、中央部ペルチェユニット29がこの発明における「第2のペルチェ素子」に相当する。また、ダクト47がこの発明における「第1のダクト」に相当し、ダクト37がこの発明における「第2のダクト」に相当する。
カバー5は、上述した検出器部3の上部を覆うように取り付けられる。カバー5の前後方向の側面には、吸気口51が形成されている。各吸気口51は、中央部ペルチェユニット29のダクト37と、端部ペルチェユニット39のダクト47との配置位置に対応している。また、カバー5の上面には、排気口53が形成されている。各排気口53は、ファン49に対応する位置に形成されている。上述したファン49が作動すると、各吸気口51を通して外気が吸い込まれ、各ダクト37,47を通してペルチェ素子33,43の熱が排気口53を通して排気される。
ここで図2及び図3を参照する。なお、図2は、アクティブマトリクス基板と外部回路との接続関係を示す図であり、図3は、アクティブマトリクス基板の要部を示す縦断面図である。
アクティブマトリクス基板11は、検出素子DUが二次元マトリクス状に配置されて、ガラス等の絶縁基板55にパターン形成されている。また、アクティブマトリクス基板11は、収集電極57と、コンデンサCaと、薄膜トランジスタTrとを備えている。収集電極57は、変換層13で変換された電荷信号を収集する。コンデンサCaは、収集電極57で収集された電荷信号を蓄積する。薄膜トランジスタTrは、外部信号によりオンオフに切り換えられ、コンデンサCaに蓄積された電荷信号を読み出すスイッチング素子である。一つの検出素子DUは、収集電極57と、コンデンサCaと、薄膜トランジスタTrと、これらに応じた領域の変換層13及び印加電極59の一組で構成されている。印加電極59には、バイアス電圧Vaが印加される。ここでは、説明の便宜上、アクティブマトリクス基板11の二次元マトリクスが10×10個で構成されているものとする。
また、アクティブマトリクス基板11は、ゲートラインG1〜G10とデータラインD1〜D10とを備えている。ゲートラインG1〜G10は、検出素子DUの行ごとに薄膜トランジスタTrのゲートに電気的に接続されている。データラインD1〜D10は、検出素子DUの列ごとに薄膜トランジスタTrの読み出し側に電気的に接続されている。なお、以下の説明において、ゲートラインG1〜G10及びデータラインD1〜D10を特に区別しない場合には、ゲートラインG及びデータラインDと称する。
ゲートラインG1〜G10には、ゲート駆動回路61が接続されている。また、データラインD1〜D10には、電荷電圧変換アンプ63と、マルチプレクサ65と、A/D変換器67とがその順に接続されている。なお、電荷電圧変換アンプ63は、上述したアンプ回路15に搭載され、マルチプレクサ65とA/D変換器67とは、上述したAD基板17に搭載されている。
ゲート駆動回路61は、ゲートラインGに電圧を印加することで、薄膜トランジスタTrをオンにさせ、コンデンサCaに蓄積された電荷信号をデータラインDから電荷電圧変換アンプ63に出力させる。電荷電圧変換アンプ63は、受け取った電荷信号を電圧信号に変換する。マルチプレクサ65は、複数の電圧信号を一つの電圧信号にして出力する。A/D変換器67は、マルチプレクサ65からの電圧信号をデジタル信号に変換する。これらの回路のうち、電荷電圧変換アンプ63(アンプ回路15)は、他の回路に比較して発生熱量が大きいものであるとともに、検出素子DUからの微妙な電荷信号を受け取るので、ノイズ対策が求められる部分でもある。
ここで図4を参照する。なお、図4は、外部回路の配置状態を示す側面図である。
また、発熱量が多いアンプ回路15は、ベース板7にスポンジ材71を介して配置され、上面に伝熱ゲル材73を介して伝熱部材75を配置されていることが好ましい。伝熱部材75は、端部伝熱部材25の下面に当接されている。スポンジ材71は、例えば、シリコン樹脂であり、熱をベース板7に伝えるのを抑制する。伝熱部材75は、例えば、銅で構成されている。アンプ回路15は、下面にスポンジ材71を介して配置され、上面に伝熱部材75を介して配置されているので、発生した熱がベース部材7へ伝わるのを抑制されるとともに、発生した熱が伝熱部材75を介して端部伝熱部材25に伝わる。また、発熱量がアンプ回路15よりは少ないものの、ある程度の発熱が生じるAD基板17は、薄板状の樹脂板77を介してベース板7に取り付けられていることが好ましい。この樹脂板77は、例えば、ポリカーボネートなどの断熱材料である。
ところで、変換層13は、モールド構造でアクティブマトリクス基板11に取り付けられており、0℃以下の低温下になると、絶縁基板55のガラスとの膨張率の違いに起因して剥離や割れを生じる恐れがある。また、40℃以上の高温下では、アモルファスセレン(a−Se)の場合、結晶化という現象が生じて物性の変質が起きることがある。そのため、変換層13及びアクティブマトリクス基板11の恒温化を図ることが重要である。この実施例では、上述したように、ベース板7に熱伝導板21を設け、さらに、中央部ペルチェユニット29を設けている。したがって、中央部ペルチェユニット29を制御して吸熱または加熱を行わせることにより、変換層13及びアクティブマトリクス基板11の恒温化を図ることができる。
また、発熱するアンプ回路15で発生した熱は、伝熱部材75を介して端部熱伝導板25に伝達され、端部ペルチェユニット39により冷却される。また、発熱量は少ないものの発熱するAD基板17で発生した熱は、端部伝熱部材25に伝達され、端部ペルチェユニット39により冷却される。
図5を参照する。なお、図5は、恒温化・冷却を示す模式図である。
上述したように構成されたFPD1は、ファン49により、図5に二点鎖線矢印で示すような空気の流れを生じる。なお、図5における奥側については、図示の都合上、空気の流れを省略してあるが、手前側と同様の流れが生じる。特に、各ペルチェ素子33,43は、ダクト37,47を備えているので、図示しないカバー5の吸気口51から吸引された外気が効率的にペルチェ素子33,43の冷却フィン35,45を通過するようになっている。これにより効率的にペルチェ素子33,43の熱が排出される。
このように冷媒等を用いることなく、アンプ回路15等の外部回路用に端部ペルチェユニット39を備え、アクティブマトリクス基板11及び変換層13用に中央部ペルチェユニット29を備え、冷却と恒温化をそれぞれが受け持つことにより、比較的簡単な構成で、恒温化と冷却効率を高めることができる。因みに、変換層13における面内における温度の偏りは、従来で約5℃であるが、この実施例の構成によると、約2℃にすることができる。
次に、図6を参照する。なお、図6は、ベース板の変形例を示す側面図である。
上述したベース板7に代えて、図6に示すベース板7Aを採用してもよい。このベース板7Aは、ベース板7Aの他方面である上面の周辺部に段部81が形成されている。この段部81は、ベース板7Aの中央部より厚さが薄く形成されている。そして、その段部81にアンプ回路15がスポンジ材71とともに配置されている。但し、段部81に配置されているアンプ回路15とAD基板17とを電気的に接続する必要があるので、ベース板7Aの中央部側上面と段部81との段差が極端に大きくならないことが好ましい。また、ベース板7Aは、上述した各部材を載置した状態でベース板7Aごとネジ止めされるので、剛性を極端に低下させない程度の段部81とするのが好ましい。このように構成すると、アンプ回路15とアクティブマトリクス基板11との距離を短縮することができる。したがって、フレキシブルケーブル19の長さを短縮することができ、低ノイズ化を図ることができる。
ここで図7を参照する。図7は、熱伝導板の変形例を示す側面図である。
上述した熱伝導板21は、図7の熱伝導板21Aのように構成するのが好ましい。この熱伝導板21Aは、中央部熱伝導板23と、端部熱伝導板25とが互いに分離可能に構成されている。これらは、例えば、端部熱伝導板25の連結部材27に形成されているネジ穴(不図示)にネジを挿通し、ネジで端部熱伝導板25を中央部熱伝導板23に止め付ける。このように構成することにより、図7のように、中央部熱伝導板23だけをベース板7Aに取り付けた状態で、AD基板17やアンプ回路15へのアクセスを容易に行うことができる。したがって、調整や配線の接続を容易に行うことができ、FPD1の組み立てやメンテナンスを容易に行うことができる。
また、熱伝導板21の端部熱伝導板25を図8のように構成するのが好ましい。なお、図8は、熱伝導板の他の変形例を示す斜視図である。
この熱伝導板21は、端部熱伝導板25Aに切り欠き部83が形成されている。この切り欠き部83は、中央部熱伝導板23の端部に沿って細長形状を呈する。また、これに伴い、連結部材27が二つの連結部材27Aに分割されている。このような切り欠き部83を設ける構成にすることにより、端部熱伝導板25Aを取り外すことなく、AD基板17やアンプ回路15へのアクセスを容易に行うことができ、メンテナンス等を容易に行うことができる。
この発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。
(1)上述した実施例では、第1のペルチェ素子として二つのペルチェ素子43を備え、第2のペルチェ素子として二つのペルチェ素子33を備えているが、この発明はそのようなペルチェ素子の個数に限定されるものではない。つまり、面内均一性を確保し、十分な冷却及び恒温化を図ることができるだけのペルチェ素子を配置すればよい。
(2)上述した実施例では、FPD1がバックライト9を備えているが、この発明のFPD1はバックライト9を備えている必要はない。
(3)上述した実施例では、FPD1がベース板7の下面にアクティブマトリクス基板11と変換層13とを備えているが、FPD1がベース板7の上面にアクティブマトリクス基板11と変換層13とを備える形態であってもよい。
以上のように、この発明は、光または放射線を検出する二次元画像検出器に適している。

Claims (5)

  1. 光または放射線を電荷信号に変換する変換層と、
    前記変換層で変換された電荷信号を蓄積して読み出す蓄積・読み出し基板と、
    前記蓄積・読み出し基板及び前記変換層を一方面に積層して保持するベース板と、
    前記蓄積・読み出し基板と電気的に接続され、前記ベース板の他方面に配置された外部回路と、
    前記ベース板との間で熱交換が可能な状態で、前記ベース板の他方面に配置された熱伝導板と、
    前記熱伝導板に配設され、前記外部回路に対応する位置に配置された第1のペルチェ素子と、
    前記第1のペルチェ素子で発生する熱を誘導するための第1のダクトと、
    前記熱伝導板に配設され、前記外部回路が配置されていない領域に配置された第2のペルチェ素子と、
    前記第2のペルチェ素子で発生する熱を誘導するための第2のダクトと、
    前記第1のダクト及び前記第2のダクトの熱を排出するためのファンと、
    を備え、
    前記外部回路は、発生熱量が多い前段回路と、前記前段回路より発生熱量が少ない後段回路とを備え、
    前記ベース板は、他方面の周辺部に厚さが薄い段部を備え、
    前記前段回路は、前記熱伝導板との間に伝熱部材を介在して前記段部に配置されていることを特徴とする二次元画像検出器。
  2. 請求項1に記載の二次元画像検出器において、
    前記前段回路は、前記ベース板との間に熱絶縁材料を介して配置されていることを特徴とする二次元画像検出器。
  3. 請求項1または2に記載の二次元画像検出器において、
    前記後段回路は、前記ベース板との間に熱絶縁材料を介して配置されていることを特徴とする二次元画像検出器。
  4. 請求項1から3のいずれかに記載の二次元画像検出器において、
    前記熱伝導板は、前記ベース板の中央部に位置する中央部熱伝導板と、前記外部回路の位置に相当する端部熱伝導板とを備え、互いに分離可能に構成されていることを特徴とする二次元画像検出器。
  5. 光または放射線を電荷信号に変換する変換層と、
    前記変換層で変換された電荷信号を蓄積して読み出す蓄積・読み出し基板と、
    前記蓄積・読み出し基板及び前記変換層を一方面に積層して保持するベース板と、
    前記蓄積・読み出し基板と電気的に接続され、前記ベース板の他方面に配置された外部回路と、
    前記ベース板との間で熱交換が可能な状態で、前記ベース板の他方面に配置された熱伝導板と、
    前記熱伝導板に配設され、前記外部回路に対応する位置に配置された第1のペルチェ素子と、
    前記熱伝導板に配設され、前記外部回路が配置されていない領域に配置された第2のペルチェ素子と、
    前記第1のペルチェ素子及び前記第2のペルチェ素子で発生する熱を排出するためのファンと、
    を備え、
    前記外部回路は、発生熱量が多い前段回路と、前記前段回路より発生熱量が少ない後段回路とを備え、
    前記ベース板は、他方面の周辺部に厚さが薄い段部を備え、
    前記前段回路は、前記熱伝導板との間に伝熱部材を介在して前記段部に配置されていることを特徴とする二次元画像検出器。
JP2012526191A 2010-07-26 2010-07-26 二次元画像検出器 Active JP5549731B2 (ja)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/JP2010/004753 WO2012014251A1 (ja) 2010-07-26 2010-07-26 二次元画像検出器

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2012014251A1 JPWO2012014251A1 (ja) 2013-09-09
JP5549731B2 true JP5549731B2 (ja) 2014-07-16

Family

ID=45529504

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012526191A Active JP5549731B2 (ja) 2010-07-26 2010-07-26 二次元画像検出器

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP5549731B2 (ja)
WO (1) WO2012014251A1 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7114495B2 (ja) * 2019-01-10 2022-08-08 富士フイルムヘルスケア株式会社 放射線撮像装置
CN109893157B (zh) * 2019-04-03 2023-11-17 河南明峰医疗科技有限公司 一种pet探测器散热结构

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02236484A (ja) * 1989-03-10 1990-09-19 Hitachi Medical Corp 多素子放射線検出装置
JPH05333157A (ja) * 1992-05-28 1993-12-17 Shimadzu Corp 放射線検出器
JP2007135708A (ja) * 2005-11-15 2007-06-07 Toshiba Corp X線検出装置
JP2009082230A (ja) * 2007-09-27 2009-04-23 Fujifilm Corp 画像検出器及び画像撮影システム
WO2009118832A1 (ja) * 2008-03-25 2009-10-01 株式会社 島津製作所 放射線撮像装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02236484A (ja) * 1989-03-10 1990-09-19 Hitachi Medical Corp 多素子放射線検出装置
JPH05333157A (ja) * 1992-05-28 1993-12-17 Shimadzu Corp 放射線検出器
JP2007135708A (ja) * 2005-11-15 2007-06-07 Toshiba Corp X線検出装置
JP2009082230A (ja) * 2007-09-27 2009-04-23 Fujifilm Corp 画像検出器及び画像撮影システム
WO2009118832A1 (ja) * 2008-03-25 2009-10-01 株式会社 島津製作所 放射線撮像装置

Also Published As

Publication number Publication date
WO2012014251A1 (ja) 2012-02-02
JPWO2012014251A1 (ja) 2013-09-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6323891B1 (en) Imaging apparatus with thermal discharger for transferring heat to cool photoelectric transfer elements
US7450174B2 (en) Two-dimensional image detector with disturbance-blocking buffer
US20090014661A1 (en) Radiation imaging apparatus
US20160161616A1 (en) Radiation detector
JP4796030B2 (ja) 画像検出器及び画像撮影システム
JP4131883B2 (ja) 平面検出器
WO2017145443A1 (ja) 可搬型放射線画像撮影装置
JP2006191465A (ja) 電子機器
CN202307857U (zh) 一种ccd图像传感器的散热片
TWI828782B (zh) 放射線攝像裝置
JP5549731B2 (ja) 二次元画像検出器
JP2011247826A (ja) 放射線検出パネル及びその製造方法
JP5646289B2 (ja) 放射線検出装置
JP4911312B2 (ja) 撮像装置
JP5499851B2 (ja) 二次元画像検出器
JP5069992B2 (ja) 画像検出器及び画像撮影システム
JP2011252732A (ja) 放射線検出パネル及びその製造方法
JP2013200188A (ja) 放射線検出装置
JP5829430B2 (ja) 撮像装置
JP2012088152A (ja) 放射線検出装置
TW202026664A (zh) 放射線攝像裝置
JP4096883B2 (ja) 放射線検出器および放射線撮像装置
JP6693296B2 (ja) 放射線画像撮影装置
US8253111B2 (en) X-ray diagnostic apparatus
JP2001281343A (ja) 2次元画像検出器およびその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20120813

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130910

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20131106

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140304

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140331

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140422

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140505

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 5549731

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151