JP4131883B2 - 平面検出器 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えばX線診断装置に用いられる平面検出器に関する。
【0002】
【従来の技術】
X線診断装置に用いられる平面検出器の従来例として、直接変換方式、又は間接変換方式を採用したX線固体平面検出器が幾つか提案されている。前者は、例えば米国特許第5,319,206号明細書に記載されており、後者は、例えば米国特許第4,689,487号明細書に記載されている。
【0003】
図1は直接変換方式のX線固体平面検出器の概略構成を示す図、図2は間接変換方式のX線固体平面検出器の概略構成を示す図である。
これら平面検出器は、電磁波(X線)を電荷に変換する手段を具備しており、例えば図1の直接変換方式では、高電界下のSe(セレニウム:フォトコンダクタ)へのX線入射が電荷生成に寄与し、画素の容量に蓄積される。また、図2に示す間接変換方式の平面検出器では、増感紙やCSI結晶などの化学物質(図2に示すシンチレーション層)を介してX線を一旦光に変換し、フォトダイオードの作用によって光強度を電荷として画素の容量に蓄積するものとなっている。
【0004】
また、従来の平面検出器は電荷量を電圧に変換する手段を具備しており、画素に蓄積された電荷を例えば薄膜トランジスタのスイッチング機能によって選択し、この選択された電荷をチャージ(読み出し)アンプに転送することでアンプの電圧出力を得ている。また、アナログとして得られるチャージアンプからの電圧出力をディジタル値に変換する手段(例えばアナログ値をディジタル値に変換するADC(A/Dコンバータ))を具備している。図3に、このような平面検出器における信号(電荷)読み出しのための構成を示す。平面検出器は、入射した電磁波に応じた電荷を発生する変換層と、この変換層で発生した電荷を収集する2次元マトリクス状に配列された画素電極と、画素電極で収集された電荷を蓄積するように各画素電極にそれぞれ接続された電荷蓄積素子と、電荷蓄積素子に蓄積された電荷情報を読み出す読出し手段とを備えている。また、読出し手段は、電荷蓄積素子にそれぞれ接続された電荷情報を読み出すことができるように電荷蓄積素子にそれぞれ接続されたスイッチング素子(例えば、薄膜トランジスタ)と、同一行のTFTゲートを電気的に接続する制御用信号線と、この制御用信号線に制御電圧を供給することによりスイッチング素子のOn、Offを行単位で制御するスイッチング素子制御手段と、同一列のTFTの出力を電気的に接続する出力用信号線と、各出力用信号線の出力を選択して出力する選択手段とを備えている。なお、上述したような平面検出器は特にX線に限らず光の平面検出器として考えることもできる。
【0005】
上述したような平面検出器の動作時及び保管時における許容温度範囲はそれほど大きくはない。具体的には、Se(フォトコンダクタ)の融解、変質、及びフリージング(低温時)等を回避すべく例えば10℃〜50℃とすることが一般的である。
【0006】
そして、検出器自体が発熱したり、外気温の変化によっては、このような狭い温度範囲に検出器の温度状態を維持できないという問題がある。
ところで、各々の読み出し手段のスイッチング素子に高電圧が印加される可能性がある場合においては、当該スイッチング素子(具体的には薄膜トランジスタなど)を保護するための機構が設けられる。検出器の中で電流が抵抗部分を流れると熱が発生しSe(フォトコンダクタ)および付加膜等が変質し均一な画像が得られなくなるという問題がある。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は上述した事情を考慮してなされたものであり、その目的はX線平面検出器の温度を適切に制御でき、より具体的には検出器の動作温度及び保管温度内に維持することができ、これによりX線平面検出器のフォトコンダクタ等が変質するといった不具合が生じることがなく、均一な画像を得ることができるX線平面検出器を提供することである。
【0008】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決し目的を達成するために本発明は次のように構成されている。
本発明の一観点に係る平面検出器は、X線を検出する画素が2次元的に配列されたX線検出手段と、前記X線検出手段において前記X線が入射する面とは反対側に設けられたガラス支持体と、前記ガラス支持体の前記X線検出手段とは反対側に、ペルチェ素子等の半導体素子と放熱フィンとを備え、前記ガラス支持体と前記ペルチェ素子等の半導体素子との間及び前記ペルチェ素子等の半導体素子と前記放熱フィンとの間にシリコンゴムを備えた温度制御手段とを備えたことを特徴とする平面検出器である。
【0009】
この構成によれば電荷変換手段近傍の所定の熱発生領域の温度を制御でき、これにより平面検出器の温度が動作時及び保管時における許容温度範囲を超過することを防止できる。
【0010】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しながら本発明の実施形態を説明する。
(第1実施形態)
図4は本発明の第1実施形態に係るX線平面検出器に設けられた冷却機構の構成を斜視図である。同図において60はX線平面検出器のガラス支持体であって、このガラス支持体60はX線の検出面とは反対側に設けられる。本実施形態はX線平面検出器の温度を調整する手段として、ガラス支持体60の熱発生領域61に取付けられる冷却機構6を備えている。なお、X線平面検出器の構成については上述した従来のものと同様であるので、ここでは具体的な説明を省略する。
【0011】
冷却機構6は、ここではペルチェ素子63、放熱フィン65、及び強制空冷ファン66から構成される。また、ペルチェ素子63とガラス支持体60との間、および放熱フィン66とペルチェ素子63との間には熱伝導体であるシリコンゴム62、64が設けられている。
【0012】
ペルチェ素子63及び強制空冷ファン66は独立して駆動制御される。このため各々を同時に作動させ、又は個別に作動させることが可能となっている。
以上のように構成された本実施形態の動作を説明する。
【0013】
先ず、検出器本体の動作開始後にペルチェ素子63の駆動が開始される。この時の駆動電圧は特定の値に限定されない。また、ペルチェ素子の駆動と共に強制空冷ファン66も駆動されて作動する。
【0014】
ペルチェ素子63が作動することにより、熱発生領域61からの熱はシリコンゴム62及び64を介して放熱フィン65側に伝導する。このシリコンゴム62及び64は熱伝導体から成るので、熱発生領域61とペルチェ素子63との間、及びペルチェ素子63と放熱フィン65との間の熱伝導は良好なものとなる。また、放熱フィン65によればシリコンゴム64から伝わった熱が放射される。一方、強制空冷ファン66が作動することにより、熱発生領域60乃至放熱フィン65間が強制的に冷却される。
【0015】
ペルチェ素子63及び強制空冷ファン66の駆動の終了は、X線平面検出器の動作が終了した後に行われる。
尚、過冷却を防ぎ、又は蓄熱によってペルチェ素子63自体が高温になる現象を防ぐためにペルチェ素子63或は強制空冷ファン66の駆動を制御することが望ましい。
【0016】
以上説明した本実施形態によれば、X線平面検出器の温度が動作時及び保管時における許容温度範囲を超過することがなくなる。したがってX線平面検出器のフォトコンダクタが熱により変質するといった不具合が生じることがなく、これにより均一な画像を得ることができるようになる。
【0017】
(第2実施形態)
本発明の第2実施形態は、熱発生領域の温度を計測し、これが動作時又は保管時の許容温度範囲外となった場合に強制的に冷却又は暖房を行う温度制御手段を備えたX線平面検出器に関する。図5はこの温度調整手段の概略構成を示す回路図である。
【0018】
同図に示すように例えば熱電対等から成る温度計測センサ70を備えており、これによりX線平面検出器の温度を電気信号として取り出す構成となっている。例えばこの温度計測センサはX線平面検出器内部の高電圧面を除く部分に接触させるように設けられる。X線平面検出器の構成については上述した従来のものと同様である。
【0019】
また、温度計測センサから得られた電気信号に基づき、X線平面検出器の現在の温度が動作時及び保管時における許容温度範囲外にあるか否かを判定するためのコンパレータ71,72を備える。
【0020】
さらに、コンパレータ71,72の判定結果に従って、X線平面検出器の温度を制御するためのヒータ73及び冷却器74を備える。冷却器74は、ここでは上記第1実施形態において説明したペルチェ等の半導体素子とするが、これのみに限定されず、他の手段が用いられても良い。具体的には、放熱板、強制空冷手段、水冷手段、油冷手段、ヒートパイプのいずれか又はこれらの組み合わせが用いられていても良い。
【0021】
尚、制御を行い易くするために温度を表す電気信号をアナログ信号からディジタル信号に変換するA/D変換器等を備えていても良い。
以上のように構成された本実施形態の動作を説明する。
【0022】
先ず温度検出センサ70により温度計測が行われる。同センサ70の測定結果である温度を示す電気信号はコンパレータ71,72にそれぞれ供給される。コンパレータ71は検出された温度が動作時又は保管時における許容温度範囲よりも小さい場合は真の値を出力し、これによりヒータ73が駆動されて検出器を暖房する。
【0023】
これにより、フォトコンダクタ(Se)の膨張率とガラス支持体の膨張率との間に差によりガラス支持体からフォトコンダクタが剥離するといった検出器の低温時における問題を回避できる。
【0024】
一方、コンパレータ72は検出された温度が動作時又は保管時における許容(保証)温度範囲よりも大きい場合は真の値を出力し、これにより冷却器74が駆動されて検出器を強制冷却する。なお、動作時又は保管時における許容温度範囲は、具体的には、10℃乃至40℃である。なお、検出器の暖房時において、ペルチェ素子を駆動する電流の極性を反転させることにより暖房効果を高めるようにしても良い。
【0025】
このような本実施形態によれば、第1実施形態よりも高精度に、X線平面検出器の温度を動作温度及び保管温度内に維持することができる。このためX線平面検出器のフォトコンダクタが変質するといった不具合が生じることがなく、これにより均一な画像を得ることができるようになる。
【0026】
ここで、第2実施形態の変形例を説明する。
(変形例1)
変形例1は、第2実施形態のX線平面検出器を備えたX線診断装置に関する。この装置においては、X線平面検出器の温度が異常となった場合に、X線管からのX線曝射を停止させるとともに検出器の駆動を停止させる手段を備える。
【0027】
図6は変形例1の構成を説明するためのブロック図である。
検出器動作中に異常な温度上昇(又は低下)が発生し、当該検出器の温度が動作時又は保管時における許容温度範囲外の状態となった場合、図5に示したコンパレータ71、72からOFF信号が発せられ、この信号がX線の発生を制御するコントローラ80、及び平面検出器の駆動動作を司る制御部82に供給される。
【0028】
これによりコントローラ80はX線の発生を停止するようにX線管81を制御する。また、制御部82は検出器の駆動を停止するような制御動作を行う。
X線の発生停止及び検出器の駆動停止時においては、上述した冷暖房機構による温度調整が行われる。
【0029】
このような変形例1によれば、異常温度時において検出器が動作し続けることによる不具合を回避可能となる。
(変形例2)
変形例2は上述した温度調節機構がペルチェ素子等の半導体素子から成る場合のより具体的な構成例に関する。
【0030】
図7は本実施形態の変形例2に係るX線平面検出器の断面図である。
同図に示すように、ゲートG、ドレインD、ソースSを含む信号読み出し用の薄膜トランジスタのゲートG側にはガラス面90が形成されており、このガラス面90の検出器とは反対側の面にペルチェ素子91を形成する。ペルチェ素子91はn型半導体、p型半導体、及びメタル92を有して成り、当該素子の駆動用DC電源94が接続される。このペルチェ素子91のさらに外側には、放熱効果(冷却駆動時)を高めるためのヒートシンク95が設けられる。
【0031】
このような変形例2によれば、温度調整機構が一体化されたX線平面検出器を提供できる。
以下、第1実施形態のより具体的な効果を説明する。
【0032】
図8は第1実施形態のX線平面検出器における冷却時の温度変化を示すグラフである。同グラフにおいて横軸は時間を表し、縦軸は温度を表す。
区間AはX線平面検出器と冷却機構との密着度を低くし、ペルチェ素子63及び強制空冷ファン66を作動させた場合の温度変化であり、区間BはX線平面検出器と冷却機構との密着度を低くしたままペルチェ素子63をOFFし、強制空冷ファン66を作動させた場合であり、区間CはX線平面検出器と冷却機構との密着度を高くしてペルチェ素子63及び強制空冷ファン66を作動させた場合であり、区間DはX線平面検出器と冷却機構との密着度を高くしたままペルチェ素子63をOFFし、強制空冷ファン66のみを作動させた場合である。
【0033】
同グラフにより、X線平面検出器と冷却機構との密着度を高くしてペルチェ素子63及び強制空冷ファン66を作動させることにより高い冷却効果が得られることがわかる。
【0034】
以上述べたように、本発明によればX線平面検出器の温度を動作温度及び保管温度内に維持することができ、このためX線平面検出器のフォトコンダクタが変質するといった不具合が生じることがなく、均一な画像を得ることができる。
なお、本発明は上述した実施形態に限定されず種々変形して実施可能である。
【0035】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によればX線平面検出器の温度を適切に制御でき、より具体的には動作温度及び保管温度内に維持することができ、このためX線平面検出器のフォトコンダクタ等が変質するといった不具合が生じることがなく、均一な画像を得ることができるX線平面検出器を提供できる。
提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来例に係る直接変換方式のX線固体平面検出器の概略構成を示す図。
【図2】従来例に係る間接変換方式のX線固体平面検出器の概略構成を示す図。
【図3】従来例に係る平面検出器における信号(電荷)読み出しのための構成を示す図。
【図4】本発明の第1実施形態に係るX線平面検出器に設けられた冷却機構の構成を斜視図。
【図5】本発明の第2実施形態に係るX線平面検出器に設けられた温度調整手段の概略構成を示す回路図。
【図6】上記第2実施形態の変形例1の構成を説明するためのブロック図。
【図7】上記第2実施形態の変形例2に係るX線平面検出器の断面図。
【図8】上記第1実施形態の具体的な効果を表すグラフ。
【符号の説明】
60…ガラス支持体
61…熱発生領域
62、64…シリコンゴム
65…放熱フィン
66…強制空冷ファン
70…熱電対
71、72…コンパレータ
73…ヒータ
74…冷却器
80…コントローラ
81…X線管
82…制御部
90…ガラス支持体
91…ペルチェ素子
92…メタル
93…半導体(n型、p型)
94…ペルチェ素子駆動用DC電源
95…ヒートシンク

Claims (5)

  1. X線を検出する画素が2次元的に配列されたX線検出手段と、
    前記X線検出手段において前記X線が入射する面とは反対側に設けられたガラス支持体と、
    前記ガラス支持体の前記X線検出手段とは反対側に、ペルチェ素子等の半導体素子と放熱フィンとを備え、前記ガラス支持体と前記ペルチェ素子等の半導体素子との間及び前記ペルチェ素子等の半導体素子と前記放熱フィンとの間にシリコンゴムを備えた温度制御手段とを備えたことを特徴とする平面検出器。
  2. 前記ガラス支持体における熱発生領域の温度を計測する計測手段を備え、
    前記温度制御手段は、前記計測手段の計測結果に基づいて前記熱発生領域を冷却又は暖房することを特徴とする請求項1に記載の平面検出器。
  3. 前記温度制御手段は、前記X線検出手段と別体で構成されることを特徴とする請求項1又は2に記載の平面検出器。
  4. 前記温度制御手段は、前記X線検出手段と一体で構成されることを特徴とする請求項1又は2に記載の平面検出器。
  5. 前記温度制御手段は、前記X線検出手段の温度が動作時又は保管時の許容温度範囲内となるように温度制御を行うことを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の平面検出器。
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