JP5543300B2 - タッチスクリーンパネル及びその製造方法 - Google Patents

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Description

本発明は、映像表示装置などに備えられるタッチスクリーンパネル及びその製造方法に関する。
タッチスクリーンパネルは、映像表示装置などの画面に現われた指示内容を人手または物体で選択して使用者の命令を入力することができるようにした入力装置である。このために、タッチスクリーンパネルは映像表示装置の前面(front face)に備えられて人手または物体に直接接触された接触位置を電気的信号に変換する。これによって、接触位置で選択された指示内容が入力信号として受け入れられる。
このようなタッチスクリーンパネルは、キーボード及びマウスのように、映像表示装置に連結されて動作する別途の入力装置を代替することができるから、その利用範囲がますます拡張されているのが現状である。
タッチスクリーンパネルを具現する方式では、抵抗膜方式、光感知方式及び静電容量方式などが知られている。このうち、静電容量方式のタッチスクリーンパネルは、人手または物体が接触される時導電性センシングパターンが周辺の他のセンシングパターンまたは接地電極などと形成する静電容量の変化を感知することによって、接触位置を電気的信号に変換する。
このために、静電容量方式のタッチスクリーンパネルは、第1方向に沿って連結されるように形成された複数の第1センシングパターンと、第2方向に沿って連結されるように形成された複数の第2センシングパターンを備えることで、接触位置の座標を把握するようになる。
このような第1センシングパターンと第2センシングパターンは、同一の層に同一の物質で形成され、タッチスクリーンパネルが全般的に均一な反射率を持つようにすることができる。しかし、この場合、第1センシングパターンを第1方向に連結するための第1連結パターンと、第2センシングパターンを第2方向に連結するための第2連結パターンが短絡されることを防止するために、第1連結パターンと第2連結パターンは互いに異なる工程で形成される。
例えば、第1連結パターンは、第1センシングパターン及び第2センシングパターンをパターニングする工程段階で、第1センシングパターンと一体化されて同時形成されて、第2連結パターンは他の工程段階、例えば、位置検出ラインを形成する工程段階で第2センシングパターンを連結するように形成することができる。
しかし、このためには第1及び第2センシングパターンと第1連結パターンのパターニング段階、第2連結パターン及び位置検出ラインのパターニング段階、第1連結パターン及び第2連結パターンを絶縁させるための絶縁膜のパターニング段階などですべてマスク工程を行わなければならないので、工程が複雑になり、これによって製造效率が低下するという問題が生じる。
したがって、本発明は前記問題を鑑みてなされたものであって、その目的は、マスク工数を減少させて工程を単純化するとともに、安全性が確保されるようにしたタッチスクリーンパネル及びその製造方法を提供することである。
上記のような目的を果たすために本発明の第1態様は、透明基板の一面に透明電極膜及び絶縁膜を順次成膜する段階と、前記透明電極膜及び絶縁膜をハーフトーンマスクを利用して同伴パターニングすることによって、第1方向に沿って連結される複数の第1センシングパターン及び前記第1センシングパターンの間にそれぞれが分離されたパターンを持つ複数の第2センシングパターンとともに、前記第1及び第2センシングパターン上に位置されるが、前記第2センシングパターンの一領域を露出する絶縁膜を形成する段階と、前記第1及び第2センシングパターンと絶縁膜が形成された前記透明基板上に導電膜を成膜する段階と、前記導電膜をパターニングすることによって、前記第2センシングパターンの露出された領域を介して前記第2センシングパターンを第2方向に沿って連結する第2連結パターンを形成する段階と、を含むタッチスクリーンパネルの製造方法を提供する。
ここで、前記透明電極膜及び絶縁膜をハーフトーンマスクを利用して同伴パターニングする段階は、前記ハーフトーンマスクを利用して前記絶縁膜上に第1高さと前記第1高さより低い第2高さを持つフォトレジストを形成する段階と、前記フォトレジストの下部を除いた残りの領域の透明電極膜及び絶縁膜をエッチング工程によって除去する段階と、前記第2高さを持つフォトレジストとその下部の絶縁膜をアッシング及びエッチング工程によって除去し、前記第2センシングパターンの一領域を露出する段階と、前記絶縁膜上に残されているフォトレジストをアッシング工程によって除去する段階とを含むことができる。
また、前記フォトレジストの下部を除いた残りの領域の透明電極膜及び絶縁膜を、エッチング工程によって除去する段階は、乾式エッチング工程によって前記絶縁膜を除去した後、湿式エッチング工程によって前記透明電極膜を除去するが、前記透明電極膜が前記絶縁膜より内側に位置するように前記透明電極膜をオーバーエッチングする段階と、を含むことができる。
また、前記透明電極膜及び絶縁膜をハーフトーンマスクを利用して同伴パターニングする段階で、前記第1センシングパターンを前記第1方向に沿って連結する第1連結パターンを前記第1センシングパターンと一体に形成することができる。
また、前記導電膜をパターニングする段階で、前記第1センシングパターン及び第2センシングパターンを外部の駆動回路と連結するための位置検出ラインを前記第2連結パターンと同時に形成することができる。
さらに本発明による第2態様は、透明基板と、前記透明基板の一面に形成されて第1連結パターンによって第1方向に沿って連結されるようにパターニングされた複数の第1センシングパターン、及び前記第1センシングパターンの間にそれぞれが分離されたパターンを持つようにパターニングされた複数の第2センシングパターンと、前記第1及び第2センシングパターンと前記第1連結パターン上に形成され、前記第2センシングパターンの一領域を露出する絶縁膜と、前記絶縁膜上に形成され、前記第2センシングパターンの露出された領域を介して前記第2センシングパターンを第2方向に沿って連結する第2連結パターンとを含み、前記第1連結パターンは上部の絶縁膜より内側に位置されるようにオーバーエッチングされたパターンを持つタッチスクリーンパネルを提供する。
ここで、前記第2連結パターンは、前記第2センシングパターンとの直接的な接触によって、前記第2センシングパターンを第2方向に沿って連結することができる。
また、前記第1センシングパターン及び第2センシングパターンを外部の駆動回路と連結するための位置検出ラインをさらに含み、前記位置検出ラインは前記第2連結パターンと同一の物質で構成することができる。
以上のように、本発明によれば、ハーフトーンマスクを利用して透明電極膜及び絶縁膜を同伴パターニングすることによって第1及び第2センシングパターンと絶縁膜を形成する。これによって、マスクの工数が減少して工程が単純化されるという効果を奏する。
また、本発明によれば、第1センシングパターンを第1方向に沿って連結する第1連結パターンが絶縁膜より内側に位置されるように透明電極膜をオーバーエッチングすることによって、タッチスクリーンパネルの電気的安全性を確保することができるという効果を奏する。
本発明の実施例によるタッチスクリーンパネルを概略的に示した平面図である。 図1に示されたセンシングパターン及び連結パターンを示した腰要部平面図である。 図1に示されたタッチスクリーンパネルの腰要部断面図である。 図3に示されたタッチスクリーンパネルの製造方法を順次示した断面図である。 図3に示されたタッチスクリーンパネルの製造方法を順次示した断面図である。 図3に示されたタッチスクリーンパネルの製造方法を順次示した断面図である。 図3に示されたタッチスクリーンパネルの製造方法を順次示した断面図である。 図3に示されたタッチスクリーンパネルの製造方法を順次示した断面図である。 図3に示されたタッチスクリーンパネルの製造方法を順次示した断面図である。 図3に示されたタッチスクリーンパネルの製造方法を順次示した断面図である。
以下、添付された図面を参照して本発明の実施例についてより詳細に説明する。図1は、本発明の実施例によるタッチスクリーンパネルを概略的に示した平面図である。そして、図2は図1に示されたセンシングパターン及び連結パターンの一部を示した要部平面図である。
図1ないし図2を参照すれば、本発明の実施例によるタッチスクリーンパネルは、透明基板10と、透明基板10上に形成された複数の第1センシングパターン12a、及び第2センシングパターン12bと、第1センシングパターン12a及び第2センシングパターン12bをパッド部20を介して外部の駆動回路と連結するための位置検出ライン15を含む。
第1センシングパターン12aは、インジウム-スズ-オキサイド(ITO)のような透明電極物質を利用して第1方向、例えば列方向に沿って連結されるように形成され、列ライン単位でそれぞれの位置検出ライン15と連結される。ここで、第1センシングパターン12aは、パターニング段階から第1方向に沿って連結されるようにパターニングすることができるもので、例えば、図2に示されたように一体に形成された第1連結パターン12a1によって第1方向に沿って連結されるようにパターニングすることができる。
しかし、本発明がこれに限定されるのではなく、第1センシングパターン12aは異なる工程段階、例えば、位置検出ライン15を形成する工程段階で別に形成された第1連結パターン12aによって第1方向に沿って連結することもできる。
第2センシングパターン12bは、第1センシングパターン12aのように透明電極物質を利用して形成されるもので、第1センシングパターン12aと同一層に配置されるが、第1センシングパターン12aの間にそれぞれが分離されたパターンを持つようにパターニングされる。第1及び第2センシングパターン12a、12bが同一層に位置されれば、タッチスクリーンパネルは全般的に均一な反射率を持つことができる。
このような第2センシングパターン12bは、図2に示されたような第2連結パターン12b1によって第1方向と異なる第2方向、例えば、行方向に沿って連結されて、行ライン単位でそれぞれの位置検出ライン15と連結される。
ここで、第2連結パターン12b1は、第2センシングパターン12bを形成する工程段階と異なる工程段階で形成されて、第2センシングパターン12bを第2方向に沿って連結する。例えば、第2連結パターン12b1は、位置検出ライン15を形成する工程段階で位置検出ライン15と同一の物質で形成されて、第2センシングパターン12bを第2方向に沿って連結することができる。
位置検出ライン15は、パッド部20を介して第1及び第2センシングパターン12a、12bを位置検出回路のような外部の駆動回路(図示せず)と連結する。このような位置検出ライン15は、映像が表示されるタッチ活性領域を避けてタッチスクリーンパネルの外郭に配置されることで、材料選択の幅が広くて第1及び第2センシングパターン12a、12bの形成に利用される透明電極物質の外にもモリブデン(Mo)、銀(Ag)、チタン(Ti)、銅(Cu)、アルミニウム(Al)、モリブデン/アルミニウム/モリブデン(Mo/Al/Mo)などの低抵抗物質で形成することができる。
前述のようなタッチスクリーンパネルは、静電容量性タッチスクリーンパネルで、人手またはタッチスティックなどのような接触物体が接触されれば、センシングパターン12a、12bから位置検出ライン15及びパッド部20を経由して駆動回路(図示せず)側に接触位置による静電容量の変化が伝達される。すると、X及びY入力処理回路(図示せず)などによって静電容量の変化が電気的信号に変換されることによって接触位置が把握される。
一方、前述したタッチスクリーンパネルは、独立的な基板に形成されて映像表示装置などの上面に付着されるか、あるいは映像表示装置の表示パネルと一体化されて具現することもできる。例えば、タッチスクリーンパネルは、有機電界発光表示パネルや液晶表示パネルの上部基板の上面に一体化されて具現することができるが、このように表示パネルとタッチスクリーンパネルを一体型で具現すれば薄型の映像表示装置を提供することができる。
図3は、図1に示されたタッチスクリーンパネルの腰部断面図である。図3を図1ないし図2と結付してタッチスクリーンパネルの構造を説明すると、タッチスクリーンパネルは中央部のタッチ活性領域101と縁部の配線領域102に区分される。便宜上、図3においてタッチ活性領域101は、図2のI-I'線による断面を示すことにする。
まず、タッチ活性領域101には、透明基板10の一面に形成された第1及び第2センシングパターン12a、12b、及び第1連結パターン12a1と、第1及び第2センシングパターン12a、12b及び第1連結パターン12a1上に形成されて、第2センシングパターン12bの一領域を露出する絶縁膜13と、絶縁膜13上に形成されて第2センシングパターン12bの露出された領域を介して第2センシングパターン12bを第2方向に沿って連結する第2連結パターン12bが形成される。そして、配線領域102には位置検出ライン15が形成される。
ここで、タッチ活性領域101は、タッチスクリーンパネル下部の表示パネル(図示せず)などからの光が透過されることができるように透明に具現される。すなわち、第1及び第2センシングパターン12a、12b、及び第1連結パターン12a1と絶縁膜13は、所定の透過度以上を持つ透明性材料で形成される。ここで、透明とは100%の透明さは勿論、高い光透過率を持つ程度の透明さを包括的に意味する。このために、第1及び第2センシングパターン12a、12bと第1連結パターン12a1は、インジウム-スズ-オキサイド(ITO)などの透明電極物質で形成され、絶縁膜13はシリコン酸化膜SiOのような透明性絶縁物質で形成することができる。
ただし、第2連結パターン12b1は、位置検出ライン15のように低抵抗金属などで形成することができるが、第2連結パターン12b1の線幅や長さなどを調節することによって第2連結パターン12b1が人の目に認識されることを防止することができる。
一方、図3の断面図には示されなかったが、第1センシングパターン12aは、図1ないし図2に示されたように第1連結パターン12a1と一体に形成されて第1連結パターン12a1により、第1方向に沿って連結されるようにパターニングされる。
絶縁膜13は、第1及び第2センシングパターン12a、12b、及び第1連結パターン12a1の上部に形成されるもので、特に、第1及び第2連結パターン12a1、12b1の交差部でこれらの間に介在されて第1及び第2連結パターン12a1、12b1の短絡を防止する。
特に、本発明では、第1及び第2連結パターン12a1、12b1の短絡をより效果的に防止するために、第1連結パターン12a1をオーバーエッチングすることによって第1連結パターン12a1が絶縁膜13の内側に位置させることにより、タッチスクリーンパネルの電気的安全性を確保する。すなわち、絶縁膜13は第1連結パターン12a1と重畳される領域で下端部が第1連結パターン12a1の上端部より広く形成される。
このような絶縁膜13は、第2センシングパターン12bの一領域を露出するが、前記露出した領域を介して第2連結パターン12b1が第2センシングパターン12bを第2方向に沿って連結するようになる。
特に、第2連結パターン12b1は、第2センシングパターン12bの露出された領域を介して第2センシングパターン12bと直接的に接触されることにより、第2センシングパターン12bを第2方向に沿って連結することができる。
このような第2連結パターン12b1は、配線領域102の位置検出ライン15を形成する工程段階で、位置検出ライン15と同一の物質を利用して同時に形成することができる。
ただし、本発明では、第1及び第2センシングパターン12a、12b及び第1連結パターン12a1と絶縁膜13を一つのハーフトーンマスクを利用してパターニングすることによってマスクの工数を低減して工程を単純化することを特徴とし、これに対する詳細な説明は、図4Aないし図4Gを参照して後述する。
また、本発明では、絶縁膜13が第2連結パターン12b1が形成される一部領域を除き、第1及び第2センシングパターン12a、12bと第1連結パターン12a1の上部に全般的に形成される。図3では、説明の便宜のために連結パターン12a1、12b1の大きさをセンシングパターン12a、12bに比べて誇張されるように表現したが、実際には図1のように連結パターン12a1、12b1は知覚されにくいほどの大きさで形成される。
すなわち、本発明においてタッチ活性領域101の表面大部分は、絶縁膜13によってカバーされるようになる。これによって、第2連結パターン12b1が形成された透明基板10の上部に別途の絶縁膜を追加的に形成しなくとも、表面スクラッチなどによる問題が発生しないという長所がある。
また、第2連結パターン12bが第1及び第2センシングパターン12a、12bと第1連結パターン12a1の上部に位置されるので、段差による問題を引き起こすことなく、第2連結パターン12bの厚さ設計が比較的に自由であるという長所がある。
図4Aないし図4Gは、図3に示されたタッチスクリーンパネルの製造方法を順次示した断面図である。図4Aないし図4Gを参照して本発明によるタッチスクリーンパネルの製造方法を説明すると、まず、透明基板10を準備し、透明基板10の一面に透明電極膜12′及び絶縁膜13を順次成膜する。ここで、透明基板10は表示パネルの上部基板や、別途のタッチパネル用基板、あるいはウィンドウ基板などを用いることができる。
そして、透明電極膜12′は、第1及び第2センシングパターン12a、12bと第1連結パターン12a1を形成するためのもので、インジウム-スズ-オキサイド(ITO)などのような透明物質を基板10に全面蒸着することによって形成することができ、絶縁膜13はシリコン酸化膜SiOのような透明性絶縁物質を透明電極膜12′上に全面蒸着することによって形成することができる(図4A)。
以後、透明電極膜12′及び絶縁膜13をハーフトーンマスクを利用して同伴パターニングすることによって第1及び第2センシングパターン12a、12b、及び第1連結パターン12a1と絶縁膜13を形成する。
より具体的に、一つのハーフトーンマスク(図示せず)を利用して絶縁膜13上に互いに異なる高さ、すなわち、第1高さH1と前記第1高さH1より低い第2高さH2を持つフォトレジストPRを形成する(図4B)。そして、フォトレジストPR下部を除いた残りの領域の透明電極膜12′及び絶縁膜13をエッチング工程によって除去するようになる。
例えば、乾式エッチング工程によってフォトレジストPR下部を除いた残りの領域の絶縁膜13を除去した後、湿式エッチング工程をさらに行うことによって露出された領域の透明電極膜12′を除去することによって第1及び第2センシングパターン12a、12bと第1連結パターン12a1を形成することができる。
ここで、断面図上では図示されなかったが、第1センシングパターン12aは、第1連結パターン12a1によって第1方向に連結されるように第1連結パターン12a1と一体にパターニングされて、第2センシングパターン12bは第1センシングパターン12aとの間にそれぞれが分離されたパターンを持つようにパターニングされる。
一方、透明電極膜12′は湿式エッチング工程のときのみエッチングされることも可能であるが、絶縁膜13の乾式エッチング工程のときに一部がエッチングされ、湿式エッチング工程のときに追加的にエッチングされることも可能である。
透明電極膜12′の湿式エッチング工程のときには、透明電極物質エッチング液、例えば、透明電極膜12′がインジウム-スズ-オキサイド(ITO)からなる場合、蓚酸含有エッチング液などの酸性エッチング液を利用することができる。この時、透明電極膜12′が絶縁膜13より内側に位置するまで透明電極膜12′をオーバーエッチングすることで、タッチスクリーンパネルの電気的安全性が確保されるようにする(図4C)。
そして、後続されるアッシング工程によって第2高さH2を持つフォトレジストPRを除去する。この時、第1高さH1を持つフォトレジストPRも上部が除去されて高さが低くなる。
アッシング工程は、高温の雰囲気でフォトレジストを焼いて除去する工程を言い、この時主にプラズマによるイオン效果を排除して、純粋ラジカル(Radical)反応を追求する化学反応の形態で行われる。例えば、酸素ラジカルをフォトレジストの炭素結合と反応させて二酸化炭素を形成することによってフォトレジストを分解させる形態を例として挙げることができる。
第2高さH2を持つフォトレジストPRが除去されれば、その下部に位置された絶縁膜13が露出されるが、ドライエッチング工程やバッファ酸化エッチングBOEなどを利用した湿式エッチング工程をによって絶縁膜13の露出された部分を除去する。これによって、第2センシングパターン12bの一領域が露出される。すなわち、第2高さH2を持つフォトレジストPRとその下部の絶縁膜13をアッシング及びエッチング工程によって除去し、第2センシングパターン12bの一領域を露出する(図4D)。
そして、絶縁膜13上に残っているフォトレジストPRをアッシング工程などを通じて除去することで、第1及び第2センシングパターン12a、12b、及び第1連結パターン12a1と絶縁膜13のパターニング工程を完了する(図4E)。
以後、第1及び第2センシングパターン12a、12b及び第1連結パターン12a1と絶縁膜13が形成された透明基板10上にスパッタリングなどによって導電膜14を全面的に形成する(図4F)。
以後、別途のマスク(図示せず)を利用して導電膜14をパターニングすることによって、第2センシングパターン12bの露出された領域を介して第2センシングパターン12bを第2方向に沿って連結する第2連結パターン12b1を形成する。この時、導電膜14をパターニングする過程で、第1及び第2センシングパターン12a、12bを外部の駆動回路と連結するための位置検出ライン15も第2連結パターン12b1と同一の物質で同時に形成することができる(図4G)。
前述したようなタッチスクリーンパネルの製造方法によれば、一つのハーフトーンマスクを利用して透明電極膜12′及び絶縁膜13を同伴パターニングすることによって第1及び第2センシングパターン12a、12bと絶縁膜13を形成することができる。すなわち、マスク工程は、一つのハーフトーンマスクを利用した第1及び第2センシングパターン12a、12bと絶縁膜13のパターニング段階と、別途のマスクを利用した第2連結パターン12b及び位置検出ライン15のパターニング段階で遂行されうるもので、マスクの工数が最小化されて工程が単純化されるという長所がある。
以上のように、本発明の最も好ましい実施形態について説明したが、本発明は、上記記載に限定されるものではなく、特許請求の範囲、又は明細書に開示された発明の要旨に基づき、当業者が様々な変形や変更が可能であり、斯かる変形や変更が、本発明の範囲に含まれることは言うまでもない。
10 透明基板、
12a センシングパターン
12b センシングパターン
12a1 連結パターン
12b1 連結パターン
13 絶縁膜、
15 位置検出ライン

Claims (8)

  1. 透明基板の一面に透明電極膜、及び絶縁膜を順次成膜する段階と、 前記透明電極膜及び絶縁膜をハーフトーンマスクを利用して同伴パターニングすることによって、第1方向に沿って連結される複数の第1センシングパターン、及び前記第1センシングパターンの間にそれぞれが分離されたパターンを持つ複数の第2センシングパターンとともに、前記第1及び第2センシングパターン上に位置されるが、前記第2センシングパターンの一領域を露出する絶縁膜を形成する段階と、
    前記第1及び第2センシングパターンと絶縁膜が形成された前記透明基板上に導電膜を成膜する段階と、
    前記導電膜をパターニングすることによって、前記第2センシングパターンの露出された領域を介して前記第2センシングパターンを第2方向に沿って連結する第2連結パターンを形成する段階と、を含むことを特徴とするタッチスクリーンパネルの製造方法。
  2. 前記透明電極膜及び絶縁膜をハーフトーンマスクを利用して同伴パターニングする段階は、
    前記ハーフトーンマスクを利用して前記絶縁膜上に第1高さと前記第1高さより低い第2高さを持つフォトレジストを形成する段階と、
    前記フォトレジストの下部を除いた残りの領域の透明電極膜及び絶縁膜をエッチング工程によって除去する段階と、
    前記第2高さを持つフォトレジストと、その下部の絶縁膜をアッシング及びエッチング工程によって除去し、前記第2センシングパターンの一領域を露出する段階と、
    前記絶縁膜上に残されているフォトレジストをアッシング工程によって除去する段階と、を含むことを特徴とする請求項1に記載のタッチスクリーンパネルの製造方法。
  3. 前記フォトレジストの下部を除いた残りの領域の透明電極膜及び絶縁膜を、エッチング工程によって除去する段階は、
    乾式エッチング工程によって前記絶縁膜を除去した後、湿式エッチング工程によって前記透明電極膜を除去するが、前記透明電極膜が前記絶縁膜より内側に位置するように前記透明電極膜をオーバーエッチングする段階と、を含むことを特徴とする請求項2に記載のタッチスクリーンパネルの製造方法。
  4. 前記透明電極膜及び絶縁膜をハーフトーンマスクを利用して同伴パターニングする段階で、
    前記第1センシングパターンを前記第1方向に沿って連結する第1連結パターンを前記第1センシングパターンと一体に形成することを特徴とする請求項1に記載のタッチスクリーンパネルの製造方法。
  5. 前記導電膜をパターニングする段階で、
    前記第1センシングパターン及び第2センシングパターンを外部の駆動回路と連結するための位置検出ラインを前記第2連結パターンと同時に形成することを特徴とする請求項1に記載のタッチスクリーンパネルの製造方法。
  6. 透明基板と、前記透明基板の一面に形成されて、第1連結パターンによって第1方向に沿って連結されるようにパターニングされた複数の第1センシングパターンと、
    前記第1センシングパターンの間にそれぞれが分離されたパターンを持つようにパターニングされた複数の第2センシングパターンと、
    前記第1及び第2センシングパターンと前記第1連結パターン上に形成され、前記第2センシングパターンの一領域を露出する絶縁膜と、
    前記絶縁膜上に形成されて、前記第2センシングパターンの露出された領域を介して前記第2センシングパターンを第2方向に沿って連結する第2連結パターンとを含み、
    前記第1連結パターンは、上部の絶縁膜より内側に位置されるようにオーバーエッチングされたパターンを持つことを特徴とするタッチスクリーンパネル。
  7. 前記第2連結パターンは、前記第2センシングパターンとの直接的な接触によって、前記第2センシングパターンを第2方向に沿って連結することを特徴とする請求項6に記載のタッチスクリーンパネル。
  8. 前記第1センシングパターン及び第2センシングパターンを外部の駆動回路と連結するための位置検出ラインをさらに含み、
    前記位置検出ラインは、前記第2連結パターンと同一の物質で構成することを特徴とする請求項6に記載のタッチスクリーンパネル。
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