JP5539113B2 - インプリント装置及び物品の製造方法 - Google Patents
インプリント装置及び物品の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5539113B2 JP5539113B2 JP2010192701A JP2010192701A JP5539113B2 JP 5539113 B2 JP5539113 B2 JP 5539113B2 JP 2010192701 A JP2010192701 A JP 2010192701A JP 2010192701 A JP2010192701 A JP 2010192701A JP 5539113 B2 JP5539113 B2 JP 5539113B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- space
- imprint apparatus
- imprint
- pressure
- resin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010192701A JP5539113B2 (ja) | 2010-08-30 | 2010-08-30 | インプリント装置及び物品の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010192701A JP5539113B2 (ja) | 2010-08-30 | 2010-08-30 | インプリント装置及び物品の製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012049471A JP2012049471A (ja) | 2012-03-08 |
JP2012049471A5 JP2012049471A5 (enrdf_load_stackoverflow) | 2013-10-10 |
JP5539113B2 true JP5539113B2 (ja) | 2014-07-02 |
Family
ID=45903974
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010192701A Active JP5539113B2 (ja) | 2010-08-30 | 2010-08-30 | インプリント装置及び物品の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5539113B2 (enrdf_load_stackoverflow) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013026474A (ja) * | 2011-07-21 | 2013-02-04 | Canon Inc | インプリントシステム及び物品の製造方法 |
US10423064B2 (en) | 2014-12-02 | 2019-09-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Imprint apparatus and method of manufacturing article |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6018405B2 (ja) * | 2012-04-25 | 2016-11-02 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、インプリント方法および物品製造方法 |
JP2014041861A (ja) * | 2012-08-21 | 2014-03-06 | Dainippon Printing Co Ltd | インプリント装置およびインプリント方法 |
JP6071330B2 (ja) * | 2012-08-27 | 2017-02-01 | 川崎重工業株式会社 | 熱回収用熱交換器、熱回収ユニットおよび燃焼プラント |
JP5716876B2 (ja) * | 2012-10-04 | 2015-05-13 | 大日本印刷株式会社 | インプリント方法およびインプリント装置 |
JP6139434B2 (ja) | 2013-12-13 | 2017-05-31 | 株式会社東芝 | インプリント方法 |
JP6313591B2 (ja) * | 2013-12-20 | 2018-04-18 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、異物除去方法及び物品の製造方法 |
JP6429573B2 (ja) * | 2014-10-03 | 2018-11-28 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、インプリント方法および物品製造方法 |
JP6025079B2 (ja) * | 2014-10-07 | 2016-11-16 | 大日本印刷株式会社 | インプリント装置およびその制御方法 |
JP6702672B2 (ja) | 2015-09-03 | 2020-06-03 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、物品の製造方法及び供給装置 |
KR20240076849A (ko) | 2016-08-26 | 2024-05-30 | 몰레큘러 임프린츠 인코퍼레이티드 | 모놀리식 고굴절률 광자 디바이스들 |
JP2017120928A (ja) * | 2017-03-13 | 2017-07-06 | 大日本印刷株式会社 | インプリント装置およびインプリント方法 |
CN114074092B (zh) * | 2020-08-21 | 2023-09-12 | 深圳中科飞测科技股份有限公司 | 一种检测设备及检测系统 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6482742B1 (en) * | 2000-07-18 | 2002-11-19 | Stephen Y. Chou | Fluid pressure imprint lithography |
JP4335495B2 (ja) * | 2002-03-27 | 2009-09-30 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 定圧チャンバ、それを用いた照射装置及び回路パターンの検査装置 |
JP2006013401A (ja) * | 2004-06-29 | 2006-01-12 | Canon Inc | 微細加工装置 |
JP2006116602A (ja) * | 2004-09-24 | 2006-05-11 | Bondotekku:Kk | 加圧装置の平行調整方法及び装置 |
JP2007181938A (ja) * | 2006-01-04 | 2007-07-19 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 微細構造転写装置および微細構造転写方法 |
JP2008091782A (ja) * | 2006-10-04 | 2008-04-17 | Toshiba Corp | パターン形成用テンプレート、パターン形成方法、及びナノインプリント装置 |
JP5137635B2 (ja) * | 2007-03-16 | 2013-02-06 | キヤノン株式会社 | インプリント方法、チップの製造方法及びインプリント装置 |
NL1036596A1 (nl) * | 2008-02-21 | 2009-08-24 | Asml Holding Nv | Re-flow and buffer system for immersion lithography. |
JP5121549B2 (ja) * | 2008-04-21 | 2013-01-16 | 株式会社東芝 | ナノインプリント方法 |
-
2010
- 2010-08-30 JP JP2010192701A patent/JP5539113B2/ja active Active
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013026474A (ja) * | 2011-07-21 | 2013-02-04 | Canon Inc | インプリントシステム及び物品の製造方法 |
US10423064B2 (en) | 2014-12-02 | 2019-09-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Imprint apparatus and method of manufacturing article |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2012049471A (ja) | 2012-03-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5539113B2 (ja) | インプリント装置及び物品の製造方法 | |
JP5268524B2 (ja) | 加工装置 | |
JP5864934B2 (ja) | インプリントシステム及び物品の製造方法 | |
JP6313591B2 (ja) | インプリント装置、異物除去方法及び物品の製造方法 | |
JP6184538B2 (ja) | インプリント方法、およびインプリント装置 | |
JP5421378B2 (ja) | インプリント・リソグラフィ・ツールのその場クリーニング | |
US11648712B2 (en) | Imprint apparatus, imprint method, and method of manufacturing article | |
JP5364533B2 (ja) | インプリントシステムおよびインプリント方法 | |
KR20150065685A (ko) | 임프린트 방법 및 임프린트 장치 | |
JP6525572B2 (ja) | インプリント装置、および物品の製造方法 | |
JP2014212206A (ja) | インプリント装置、それを用いた物品の製造方法 | |
JP2015233100A (ja) | インプリント装置、および物品製造方法 | |
TWI645955B (zh) | 壓印設備、製造物品的方法及供給設備 | |
JP6445772B2 (ja) | インプリント装置及び物品の製造方法 | |
KR102604061B1 (ko) | 성형 장치, 성형 방법, 및 물품의 제조 방법 | |
JP2017208424A (ja) | インプリント装置、及び物品の製造方法 | |
JP2016092198A (ja) | インプリント装置および方法、ならびに物品製造方法 | |
KR102643548B1 (ko) | 임프린트 장치 및 물품 제조방법 | |
JP2014007260A (ja) | インプリント装置、収納ケース及び物品の製造方法 | |
JP6921690B2 (ja) | 集塵装置、基板処理システム、および物品の製造方法 | |
JP2019125745A (ja) | モールドを用いて基板上の組成物を成形する成形装置及び物品の製造方法 | |
JP7410616B2 (ja) | 平坦化装置、物品の製造方法、平坦化方法及びインプリント装置 | |
JP5611399B2 (ja) | 加工装置 | |
JP2017147277A (ja) | インプリント装置、インプリント方法、および物品の製造方法 | |
JP2015023151A (ja) | インプリント装置、インプリント方法、プログラム、インプリントシステム、それらを用いた物品の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130823 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130823 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140219 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140404 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5539113 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140430 |