JP5517522B2 - 現像ローラ、電子写真プロセスカートリッジ及び電子写真画像形成装置 - Google Patents
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Description
1.弾性層からの低分子量物質が表面へのブリードするのを十分に抑制できること。
2.トナー離型性に優れた表面を有していること。
3.低温から高温までの多様な環境の下での弾性層の伸縮によく追従し、剥離や割れが生じにくく、十分な可撓性を有すること。
該被覆層は、ケイ素原子と化学結合している炭素原子を含む酸化ケイ素膜を含み、
該酸化ケイ素膜は、
高周波グロー放電発光表面分析法により検出される、ケイ素原子、酸素原子、炭素原子及び水素原子の存在元素数の合計の全検出元素数に対する比率が90%以上であり、
ケイ素原子と化学結合している酸素原子の、ケイ素原子に対する存在比(O/Si)が0.65以上1.95以下であり、
ケイ素原子と化学結合している炭素原子の、ケイ素原子に対する存在比(C/Si)が0.05以上1.65以下であり、
該存在比(C/Si)が該被覆層の深さ方向に変化しており、かつ、
該存在比(C/Si)の該被覆層の厚み方向での最大値と最小値の比が1.5乃至33.0である
ことを特徴とする現像ローラである。
軸芯体11は、本図では円柱状であるが、中空円筒状であってもよく、金属以外の導電性材料で形成されたものであってもよい。
弾性層は、原料主成分としてゴム又は樹脂(これらを併せて、以下において、「ゴム材料」ということがある)を用いた成型体である。
表面層としての被覆層は、ケイ素原子と化学結合している炭素原子を含む酸化ケイ素膜を含む。そして、該酸化ケイ素膜は、高周波グロー放電発光表面分析法により検出される、ケイ素原子、酸素原子、炭素原子及び水素原子の存在元素数の合計が、全検出元素数の90%以上である。
測定モード :パルススパッタ
アノード径(分析面積):直径4mm
放電電力 :35W
Arガス圧 :600Pa
式(1):0.90<A≦1.65
式(2):0.05≦B≦0.90
手順(1):平板電極42の間に軸芯体上に弾性層が形成された弾性ローラ48を設置し、形成される炭素を含有する酸化ケイ素の被膜が均一となるように、モータ47を駆動させて周方向に回転させる。
手順(2):排気手段により、真空チャンバ41内を1Pa以下にする。
手順(3):原料ガス導入口より原料ガスを導入し、平板電極42に高周波供給電源46により高周波電力を供給し、プラズマを発生させ、成膜を行う。
手順(4):所定時間経過した後、原料ガス及び高周波電力供給を停止し、真空チャンバ41内に空気又は窒素を大気圧まで導入(リーク)し、被覆層が形成された弾性ローラ48を取り出す。
・液状シリコーンゴム:両末端ビニル基のジメチルポリシロキサン(ビニル基含有量0.15質量%)と両末端Si−H基のジメチルシロキサン−メチルハイドロジェンシロキサン共重合体(Si原子に結合するH含有量0.30%)を使用。なお、硬化触媒として塩化白金酸とジビニルテトラメチルジシロキサンとの錯体(0.5質量%)を使用した。
・オレフィン系エラストマー「サントプレーン8211−25」(商品名、AESジャパン株式会社製)
・オレフィン系エラストマー「サントプレーン8211−45」(商品名、AESジャパン株式会社製)
・LDPE「ノバテックLD LJ902」(商品名、日本ポリエチレン株式会社製)
・LDPE「ノバテックLD LJ802」(商品名、日本ポリエチレン株式会社製)
・EVA「エバフレックス EV45LX」(商品名、三井・デュポンポリケミカル株式会社製)
・石英粉末:「Min−USil」(商品名、Pennsylvania Glass Sand社製)
・カーボンブラック:「デンカブラック」(商品名、電気化学工業株式会社製、粉状品)
・MTカーボンブラック:「サーマックスフローフォームN990」(商品名、CANCAB社製)
両末端ビニル基のジメチルポリシロキサン(ビニル基含有量0.15質量%)100質量部に、充填剤として石英粉末7質量部及びカーボンブラック10質量部を配合し、プラネタリーミキサーを用いて混合脱泡し、液状シリコーンゴムのベース材料とした。このベース材料に、硬化触媒として塩化白金酸とジビニルテトラメチルジシロキサンとの錯体を0.5質量部配合し、A液とした。また、前記ベース材料に、両末端Si−H基のジメチルシロキサン−メチルハイドロジェンシロキサン共重合体(Si原子に結合するH含有量0.30%)1.5質量部を配合し、B液とした。
ポリオレフィン系エラストマー「サントプレーン8211−25」(商品名)100質量部及びMTカーボンブラック40質量部を直径φ30mm、L/D32の2軸押出機にてペレット化して樹脂組成物を得た。この樹脂組成物を、クロスヘッド押出成形して、軸芯体(直径6mm、長さ250mm)上に樹脂層を形成した。この樹脂層の端部を切断し、さらに樹脂層部分を回転砥石で研磨して、長さ240mm、厚み3mmの弾性層を有する弾性ローラ2を得た。
ポリオレフィン系エラストマー「サントプレーン8211−25」(商品名)に代えて、オレフィン系エラストマー「サントプレーン8211−45」(商品名)を用いる他は製造例2と同様にして弾性ローラ3を得た。
ポリオレフィン系エラストマー「サントプレーン8211−25」(商品名)に代えて、LDPE「ノバテックLD LJ902」(商品名)を用いる他は製造例2と同様にして弾性ローラ4を得た。
ポリオレフィン系エラストマー「サントプレーン8211−25」(商品名)に代えて、LDPE「ノバテックLD LJ802」(商品名)を用いる他は製造例2と同様にして弾性ローラ5を得た。
ポリオレフィン系エラストマー「サントプレーン8211−25」(商品名)に代えて、EVA「エバフレックス EV45LX」(商品名)を用いる他は製造例2と同様にして弾性ローラ6を得た。
製造例1の弾性ローラ1を図3に示したプラズマCVD装置の真空チャンバ41内に設置した後、真空ポンプを用いて真空チャンバ41内を1Paまで減圧にした。
次いで、原料ガスとしてヘキサメチルジシロキサン蒸気10sccm及び酸素300sccmの混合ガスを真空チャンバ内に導入し、真空チャンバ内の圧力が55Paになるように調整した。圧力が一定になった後、高周波電源46より、周波数13.56MHz、70Wの電力を平板電極42に供給し、平板電極42間にプラズマを発生させた。真空チャンバ内の弾性ローラ1は10rpmで回転させて、218秒間処理した。
次いで、ヘキサメチルジシロキサン蒸気20sccm及び酸素30sccmの混合ガスを真空チャンバ内へ導入し、真空チャンバ内の圧力が13Paになるように調整した。圧力が一定になった後、高周波電源46より、周波数13.56MHz、200Wの電力を平板電極42に供給し、平板電極42間にプラズマを発生させた。真空チャンバ内の弾性ローラ1を10rpmで回転させて、410秒間処理した。
実施例1の第2成膜工程において、ヘキサメチルジシロキサン蒸気5sccm、真空チャンバ内圧力3Pa及び処理時間2272秒間とした。それ以外は、実施例1と同様にして現像ローラを製造し、実施例1と同様の測定をした。結果を表1に示す。
実施例1の第1成膜工程において、ヘキサメチルジシロキサン蒸気5sccm、酸素250sccmとし、真空チャンバ内の圧力を46Paとし、処理時間756秒間とした。また、実施例1の第2成膜工程の条件を、ヘキサメチルジシロキサン蒸気10sccm、真空チャンバ内圧力3Paとなるように導入し、電力を70W、処理時間を2200秒間とした。その他は実施例1と同様にして現像ローラを製造し、実施例1と同様の測定をした。結果を表1に示す。
実施例1の第1成膜工程において、処理時間を207秒間とした。また、実施例1の第2成膜工程の条件において、ヘキサメチルジシロキサン蒸気10sccmとトルエン蒸気10sccmの混合ガスを真空チャンバ内圧力6Paとなるように導入し、電力70W、処理時間を1200秒間とした。その他は実施例1と同様にして現像ローラを製造し、実施例1と同様の測定をした。結果を表1に示す。
実施例1の第2成膜工程において、ヘキサメチルジシロキサン蒸気15sccm、真空チャンバ内圧力6Pa、及び処理時間750秒間とした。それ以外は実施例1と同様にして現像ローラを製造し、実施例1と同様の測定をした。結果を表1に示す。
実施例1の第1成膜工程において、ヘキサメチルジシロキサン蒸気5sccm、酸素300sccmとし、真空チャンバ内の圧力を54Paとし、電力250W及び処理時間500秒間とした。また、実施例1の第2成膜工程において、ヘキサメチルジシロキサン蒸気20sccm、真空チャンバ内圧力7Pa、電力150W及び750秒間処理した。その他は実施例1と同様にして現像ローラを製造し、実施例1と同様の測定をした。結果を表1に示す。
実施例1の第1成膜工程において、処理時間を5秒間とした。また、実施例1の第2成膜工程において、処理時間を8秒間とした。その他は実施例1と同様にして現像ローラを製造し、実施例1と同様の測定をした。結果を表1に示す。
実施例1の第1成膜工程において、処理時間を725秒間とした。また、実施例1の第2成膜工程において、処理時間を1360秒間とした。その他は実施例1と同様にして現像ローラを製造し、実施例1と同様の測定をした。結果を表2に示す。
実施例1の第1成膜工程において、ヘキサメチルジシロキサン蒸気20sccm、真空チャンバ内圧力7Paとし、電力150W、処理時間を750秒間とした。また、実施例1の第2成膜工程において、ヘキサメチルジシロキサン蒸気5sccm及び酸素200sccmの混合ガスを真空チャンバ内圧力54Paになるように調整し、250W/500秒間とした。その他は実施例1と同様にして現像ローラを製造し、実施例1と同様の測定をした。結果を表2に示す。
実施例1の第1成膜工程において、ヘキサメチルジシロキサン蒸気3sccm、真空チャンバ内圧力3Paとし、電力250W600秒間とした。また、実施例1の第2成膜工程において、ヘキサメチルジシロキサン蒸気20sccm、真空チャンバ内圧力7Pa、電力150W及び500秒間とした。その他は実施例1と同様にして現像ローラを製造し、実施例1と同様の測定をした。結果を表2に示す。
成膜工程を以下のように3段階とした以外は、実施例1と同様にして現像ローラを製造した。
原料ガスとしてヘキサメチルジシロキサン蒸気10sccm及びトルエン蒸気5sccmの混合ガスを真空チャンバ内圧力が5Paになるように導入した。圧力が一定になった後、周波数13.56MHz、70Wの電力を供給し、電極間にプラズマを発生させ、弾性ローラ1を10rpmで回転させて、900秒間処理した。
次に、ヘキサメチルジシロキサン蒸気5sccm及びトルエン蒸気10sccmの混合ガスを真空チャンバの圧力が5Paになるように導入した。圧力が一定になった後、周波数13.56MHz、70Wの電力を平板電極に供給し、電極間にプラズマを発生させ、弾性ローラ1を10rpmで回転させて、900秒間処理した。
最後に、ヘキサメチルジシロキサン蒸気20sccm及びトルエン蒸気30sccmの混合ガスを真空チャンバ内圧力が13Paになるように導入した。圧力が一定になった後、周波数13.56MHz、200Wの電力を平板電極に供給し、電極間にプラズマを発生させ、弾性ローラ1を10rpmで回転させて、300秒間処理した。その後、真空チャンバより、被覆層が形成された現像ローラを取り出した。得られた現像ローラを実施例1と同様にして測定した。結果を表2に示す。
実施例1の第1成膜工程において、ヘキサメチルジシロキサン蒸気10sccm及び酸素200sccmの混合ガスを真空チャンバ内の圧力39Paになるように導入し、電力200W、処理時間を204秒間とした。また、実施例1の第2成膜工程において、ヘキサメチルジシロキサン蒸気8sccmを真空チャンバ内の圧力4Paになるように導入し、電力200W、処理時間を1120秒間とした。その他は実施例1と同様にして現像ローラを製造し、実施例1と同様の測定をした。結果を表2に示す。
実施例1の第1成膜工程において、ヘキサメチルジシロキサン蒸気20sccm及び酸素100sccmの混合ガスを真空チャンバ内圧力27Paになるように導入し、電力200W、処理時間を105秒間とした。また、実施例1の第2成膜工程において、ヘキサメチルジシロキサン蒸気10sccmを真空チャンバ内圧力が6Paになるように導入し、電力70W、処理時間を2143秒間とした。その他は実施例1と同様にして現像ローラを製造し、実施例1と同様の測定をした。結果を表2に示す。
実施例1の第1成膜工程において、ヘキサメチルジシロキサン蒸気5sccm及び酸素250sccmの混合ガスを真空チャンバ内圧力が46Paになるように導入し、処理時間を750秒間とした。また、実施例1の第2成膜工程において、ヘキサメチルジシロキサン蒸気20sccm及び酸素50sccmの混合ガスを真空チャンバ内圧力が15Paになるように導入し、電力30W、処理時間を904秒間とした。その他は実施例1と同様にして現像ローラを製造し、実施例1と同様の測定をした。結果を表2に示す。
実施例1の第1成膜工程において、処理時間を45秒間とした。また、実施例1の第2成膜工程において、処理時間を80秒間とした。その他は実施例1と同様にして現像ローラを製造し、実施例1と同様の測定をした。結果を表3に示す。
実施例1の第1成膜工程において、処理時間を430秒間とした。また、実施例1の第2の成膜工程において、処理時間を820秒間とした。その他は実施例1と同様にして現像ローラを製造し、実施例1と同様の測定をした。結果を表3に示す。
弾性ローラを、それぞれ製造例2乃至6で作製した弾性ローラ2乃至6とした以外は実施例1と同様にして現像ローラを製造し、以下、実施例1と同様の測定をした。結果を表3に示す。
実施例1の第1成膜工程において、ヘキサメチルジシロキサン蒸気20sccm及び酸素100sccmの混合ガスを空チャンバ内の圧力27Paになるように導入し、電力200W、処理時間を105秒間とした。それ以外は、実施例1と同様にして現像ローラを製造し、実施例1と同様の測定をした。結果を表4に示す。
実施例1の第1成膜工程において、ヘキサメチルジシロキサン蒸気5sccm及び酸素250sccmの混合ガスを真空チャンバ内の圧力46Paになるように導入し、750秒間とした。また、実施例1の第2成膜工程において、ヘキサメチルジシロキサン蒸気30sccmを真空チャンバ内圧力が9Paになるように導入し、電力70W、処理時間を449秒間とした。その他は実施例1と同様にして現像ローラを製造し、実施例1と同様の測定をした。結果を表4に示す。
実施例1の第1成膜工程において、真空チャンバ内圧力72Paとし、電力150W、処理時間を200秒とした。また、実施例1の第2成膜工程において、真空チャンバ内圧力12Paとした。その他は実施例1と同様にして現像ローラを製造し、実施例1と同様の測定をした。結果を表4に示す。
実施例1の第2成膜工程において、ヘキサメチルジシロキサン蒸気30sccmを真空チャンバ内圧力6Paになるように導入し、処理時間を300秒間とした。その他は実施例1と同様にして現像ローラを製造し、実施例1と同様の測定をした。結果を表4に示す。
上記実施例、比較例で得た現像ローラを、電子写真式レーザープリンタ(商品名、Color Laser Jet3600、ヒューレット・パッカード(Hewlett−Packard)社製)の電子写真プロセスカートリッジに現像ローラとして組み込んだ。このカートリッジを温度10℃、湿度30%RHの環境に12時間放置し、その後、温度25℃、湿度70%RHの環境に8時間放置した。更にその後、温度40℃、湿度95%RHの環境に12時間放置し、再び温度25℃、湿度70%RHの環境に8時間放置した。
第1のベタ黒画像及びハーフトーン画像について、現像ローラ被覆層のひび割れに起因するスジを目視により確認し、下記基準で判断した。
A:スジが見当たらない。
B:スジが見られるものの、画像にはひび割れに起因するスジは見られない。
C:スジが見られ、画像にもひび割れに起因するスジが見られる。
ベタ白画像を、フォトボルト反射濃度計「TC−6DS/A」(商品名、東京電色株式会社製)で反射濃度を測定し、非印字部分との差をカブリ(%)とし、下記基準で評価した。
A:1.5%未満。
B:1.5%以上3.0%未満。
C:3.0%以上。
第1のベタ黒画像及びハーフトーン画像について、濃度ムラを目視により観察し、下記基準で評価した。なお、濃度ムラはハーフトーン画像で最も見やすく、ベタ黒画像でも比較的見やすい。
A:いずれの画像でも肉眼では確認されず良好である。
B:ハーフトーン画像に濃度ムラが見られるが、ベタ黒画像には濃度ムラが見られない。
C:いずれの画像にも濃度ムラが見られる。
ベタ白画像の出力終了後、現像ローラの表面をデジタルマイクロスコープ「VH―8000」(商品名、株式会社キーエンス製)にて観察し、被覆層に剥離が見られるか否かを確認し、下記基準で判断した。
A:被覆層に剥離が見られない。
B:被覆層に剥離が若干見られるが、軽微である。
C:被覆層に剥離が明らかにある。
ベタ白画像の出力終了後に、現像ローラの表面を観察し、現像ローラ表面へのトナーの融着(いわゆるフィルミング)の発生状況と、ベタ白画像の観察から、フィルミングを下記基準で評価した。
A:現像ローラ上にフィルミングは見られない。
B:ベタ白画像に問題がないが、現像ローラ上に軽微なフィルミングが発生している。
C:現像ローラ上にフィルミングが見られ、その影響がベタ白画像にもやや発生している。
現像ローラがトナー規制部材と圧接していることから生じるセット及び弾性体からの低分子量物質の染み出しについて、下記のようにして試験した。
A:染み出し物に基づく画像の不具合は見られない。
B:染み出し物に基づく画像の不具合は見られるが、問題がない程度である。
C:染み出し物に基づく画像の不具合が観察される。
11 軸芯体
12 弾性層
13 被覆層
Claims (6)
- 軸芯体、弾性層及び表面層としての被覆層を有する現像ローラであって、
該被覆層は、ケイ素原子と化学結合している炭素原子を含む酸化ケイ素膜を含み、
該酸化ケイ素膜は、
高周波グロー放電発光表面分析法により検出される、ケイ素原子、酸素原子、炭素原子及び水素原子の存在元素数の合計の全検出元素数に対する比率が90%以上であり、
ケイ素原子と化学結合している酸素原子の、ケイ素原子に対する存在比(O/Si)が0.65以上1.95以下であり、
ケイ素原子と化学結合している炭素原子の、ケイ素原子に対する存在比(C/Si)が0.05以上1.65以下であり、
該存在比(C/Si)が該被覆層の深さ方向に変化しており、かつ、該存在比(C/Si)の該被覆層の厚み方向での最大値と最小値の比が1.5乃至33.0である
ことを特徴とする現像ローラ。 - 前記被覆層の表面から10nmの位置における前記存在比(C/Si)の値をAとし、前記被覆層の層厚をXとしたときに、該被覆層の表面から(X−10)nmの位置における前記存在比(C/Si)の値をBとしたとき、下記の式(1)及び(2)を満たしている請求項1に記載の現像ローラ。
式(1):0.90<A≦1.65
式(2):0.05≦B≦0.90 - 前記被覆層の厚さが30nm以上5000nm以下である請求項1又は2に記載の現像ローラ。
- 現像ローラの表面に、トナーを有する現像剤の層を形成し、該現像剤の層を感光体に押圧して、該感光体の表面に該現像剤を供給して、トナー画像を形成させる工程を含む現像方法であって、
該現像ローラが、請求項1〜3のいずれか一項に記載の現像ローラであることを特徴とする現像方法。 - 電子写真画像形成装置の本体に着脱自在である電子写真プロセスカートリッジであって、
該電子写真プロセスカートリッジは、トナーを有する現像剤、該現像剤を収容している現像剤容器、現像剤量規制ブレード、感光体及び該感光体に圧接されている現像ローラを有しており、
該現像ローラが、請求項1〜3の何れかに一項に記載の現像ローラであることを特徴とする電子写真プロセスカートリッジ。 - 感光体と、該感光体に対して圧接されている現像ローラとを有している電子写真画像形成装置であって、
該現像ローラが請求項1〜3の何れかに1項に記載の現像ローラであることを特徴とする電子写真画像形成装置。
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