JP5514657B2 - 配線基板の製造方法 - Google Patents
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(a)Snメッキ層60表面に形成されるSn酸化膜
(b)ソルダーレジスト由来の不純物
(c)フラックス由来の不純物
(d)フラックス洗浄液に溶け込むリン酸銅・硫酸銅
20…コア基板
21…スルーホール導体
22…充填材
30…コア導体層
31、32…導体層
40、41…樹脂絶縁層
42…ソルダーレジスト層
50、51…ビア導体
60…Snメッキ層
61…半田ペースト
L1、L2…配線積層部
P1(P1a、P1b)、P2…金属パッド
Claims (6)
- 誘電体層と導体層とが交互に積層された配線積層部と、前記配線積層部の表面の前記誘電体層に形成された複数の金属パッドと、前記配線積層部の表面を覆い前記複数の金属パッドを露出させる複数の開口部が形成されたソルダーレジスト層とを備えた配線基板の製造方法であって、
前記複数の金属パッドは主部品接続用パッドと副部品接続用パッドとを含んで構成され、
前記ソルダーレジスト層に前記複数の開口部を形成した後、
各々の前記金属パッドの表面をSnメッキ層で被覆するSnメッキ工程と、
前記主部品接続用パッドの前記Snメッキ層の上に半田を供給する半田供給工程と、
前記半田供給工程後に、前記半田を溶融するリフロー工程を実施することにより、前記Snメッキ層で被覆された前記金属パッドを加熱する加熱工程と、
加熱後の前記副部品接続用パッドの前記Snメッキ層の表面を、アミンを含むアルカリ洗浄液により洗浄するアルカリ洗浄工程と、
を実施することを特徴とする配線基板の製造方法。 - 前記アルカリ洗浄工程では、エタノールアミンを含む前記アルカリ洗浄液を用いることを特徴とする請求項1に記載の配線基板の製造方法。
- 前記アルカリ洗浄工程における洗浄時間が3分以上であることを特徴とする請求項2に記載の配線基板の製造方法。
- 前記主部品接続用パッドの前記Snメッキ層の表面にフラックスを供給するフラックス供給工程を、更に実施し、
前記半田供給工程では、前記フラックスが供給された前記Snメッキ層の上に前記半田を供給することを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の配線基板の製造方法。 - 前記リフロー工程後に、フラックスを洗浄するフラックス洗浄工程を、更に実施し、
前記フラックス洗浄工程後に、前記アルカリ洗浄工程を実施することを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の配線基板の製造方法。 - 前記複数の金属パッドはCuからなることを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載の配線基板の製造方法。
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