JP5507429B2 - 疎液性コーティングを表面に形成する方法 - Google Patents
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Description
放射ビームB(例えばUV放射またはDUV放射)を調整するよう構成されている照明系(イルミネータ)ILと、
パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持するよう構成され、いくつかのパラメタに従ってパターニングデバイスMAを正確に位置決めするよう構成されている第1の位置決め装置PMに接続されている支持構造(例えばマスクテーブル)MTと、
基板(例えばレジストで被覆されたウエーハ)Wを保持するよう構成され、いくつかのパラメタに従って基板Wを正確に位置決めするよう構成されている第2の位置決め装置PWに接続されている基板テーブル(例えばウエーハテーブル)WTと、
パターニングデバイスMAにより放射ビームBに付与されたパターンを基板Wの(例えば1つまたは複数のダイからなる)目標部分Cに投影するよう構成されている投影系(例えば屈折投影レンズ系)PSと、を備える。
化学式SiR1R2X2をもつシランまたはシロキサンを前記表面に接触させることを含み、ここでR1、R2、及びXは同一または異なるものであり、R1は疎液性の基であり、R2は離脱基または離脱基をもつ基である方法。
前記表面をUV放射にさらすこと、
前記表面をオゾンにさらすこと、
前記表面をプラズマにさらすこと、
洗浄液を使用して前記表面を洗浄すること、
酸化液を使用して前記表面を洗浄すること、からなるグループから選択される1つまたは複数を含む、特徴9に記載の方法。
Claims (11)
- 疎液性コーティングを酸化基を有する表面に形成する方法であって、前記表面は使用時に液浸液に接触し、前記表面はリソグラフィ装置の構成要素の表面上の既存の疎液性コーティングであり、前記酸化基は前記装置の使用により液浸液及び露光放射にさらされることによって生じる前記既存の疎液性コーティングの劣化を表しており、本方法は、
化学式SiR1R2X2をもつシランまたはシロキサンを前記表面に接触させることを含み、ここでR1、R2、及びXは同一または異なり、R1は疎液性の基であり、R2は離脱基または離脱基をもつ基であり、
前記シランまたはシロキサンと前記酸化基との化学反応により前記構成要素の前記表面の接触角を復元することを含むことを特徴とする方法。 - 疎液性コーティングを酸化基を有する表面に形成する方法であって、前記表面はリソグラフィ装置の構成要素の表面上の既存のコーティングであり、前記酸化基は前記装置の使用により液浸液及び露光放射にさらされることによって生じる前記既存のコーティングの劣化を表しており、本方法は、
化学式SiR1R2X 2 をもつシランまたはシロキサンを前記表面に接触させることを含み、ここでR1、R2、及びXは同一または異なり、R1は疎液性の基であり、R2は離脱基または離脱基をもつ基であり、
前記シランまたはシロキサンと前記酸化基との化学反応により前記構成要素の前記表面の接触角を復元することを含み、
前記表面は、前記表面にあるSi原子の一部が前記酸化基をもつポリシロキサン構造を備えることを特徴とする方法。 - 前記酸化基は、ヒドロキシル基、または自由電子対をもつ酸素原子、またはその両方であることを特徴とする請求項1または2に記載の方法。
- 前記Xのいずれかまたは全部は、離脱基または疎液性基のいずれかであることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の方法。
- 1つまたは両方のXはメチル基またはハロゲンであることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の方法。
- 前記疎液性の基R1は、(CH2)nCH3、(CH2)2(CF2)nF、CF3、F、前記離脱基R2で終端する(Si(CH3)2O)nからなるグループから選択されることを特徴とする請求項1から5のいずれかに記載の方法。
- 前記シランまたはシロキサンを前記表面に接触させる前に、前記表面を準備することをさらに含むことを特徴とする請求項1から6のいずれかに記載の方法。
- 前記シランまたはシロキサンは溶媒に溶かされていることを特徴とする請求項1から7のいずれかに記載の方法。
- 前記シランまたはシロキサンはキャリアガスにより運ばれることを特徴とする請求項1から8のいずれかに記載の方法。
- 前記キャリアガスは窒素であることを特徴とする請求項9に記載の方法。
- 前記既存の疎液性コーティングは、単分子層のコーティングであることを特徴とする請求項1から10のいずれかに記載の方法。
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