JP5503235B2 - 液晶表示素子およびその製造方法 - Google Patents
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Description
図6において、表示エリアに形成されたスペーサ51を介して対向する2枚の基板52、53は、シール材54によって、基板の周辺部(接着部55)のみで互いに接着されている。また、液晶56の分子を配向させるための配向膜57、58が、基板52、53と液晶56との間にそれぞれ設けられている。この液晶表示素子では、シール材54を塗布するためのエリアを確保する必要があり、表示エリア周辺の額縁エリアを広くとる必要がある。
粘着性スペーサを用いて基板同士を接着する技術として、スペーサの先端部のみに接着剤を印刷により塗布し、また、表示エリア周辺の額縁エリアにシール材を塗布して、表示エリアおよび周辺部で基板同士を接着するものが知られている(例えば、特許文献1参照)。
特許文献2のものでは、接着強度を向上させるために接着剤の濃度を高くすると、過剰な接着剤が表示エリア内の配向膜表面に残存して配向不良が発生するので、プロセスマージンが狭くなる恐れがある。また、接着剤を有機溶剤に溶解させる必要があるので、接着剤の分子構造が制限される。さらに、有機溶剤を飛ばすために接着剤溶液を挟み込んだ基板を高温(150℃程度)にさらす必要があるので、熱収縮による影響が発生する恐れがある。
そのため、粘着性スペーサを用いて、表示エリアおよび周辺部で基板同士を接着しながらも、配向不良を発生させることのない液晶表示素子およびその製造方法を得ることができる。
図1(a)は、この発明の実施の形態1に係る液晶表示素子を示す平面図であり、図1(b)は、図1(a)に示した液晶表示素子をI−I線に沿って切断した断面図である。
図1において、この液晶表示素子は、第1基板1と、第2基板2と、液晶3と、スペーサ4と、ウォール5とを備えている。
図2は、この発明の実施の形態1に係る液晶表示素子の製造工程を示す説明図である。なお、以下の説明では、図2に示した工程のうち、この実施の形態1において特徴的な工程のみについて説明する。
また、インクジェット法または印刷法を使って、スペーサ4やウォール5が形成されていない第2基板2上の、第1基板1と重ね合わせたときにスペーサ4やウォール5がくる位置(少なくとも表示エリアと対向する範囲)に、ドット状に接着剤を塗布してもよい。
(1)薄膜で透明であること。
(2)UVと低温とで硬化すること。
(3)十分な接着強度を有すること。
(4)接着剤自身の粘度が低い、または有機溶剤に溶解して低粘度化が可能であること(例えば、室温での粘度が80cp以下)。
(5)ガラス基板への塗布性能が優れていること。
この実施の形態1では、これらの条件を満たす接着剤として、ナガセケミカル製XNR5242を用いた。
図3、4より、従来の液晶表示素子では、シール材を塗布するための広い額縁エリアが必要となるのに対し、この発明の実施の形態1に係る液晶表示素子では、額縁エリアを格段に狭くすることができる。
そのため、粘着性スペーサを用いて、表示エリアおよび周辺部で基板同士を接着しながらも、配向不良を発生させることのない液晶表示素子およびその製造方法を得ることができる。
Claims (7)
- 互いに対向する第1基板および第2基板と、
前記第1基板と前記第2基板との間に封入された、デンドリマーを溶解させた液晶と、
前記第1基板上の表示エリアに形成され、前記第1基板と前記第2基板との間のギャップを維持するスペーサと、
前記第1基板上の前記表示エリア周辺の額縁エリアに形成され、前記液晶を封止するウォールと、を備え、
前記第2基板は、少なくとも前記第1基板の前記表示エリアと対向する範囲に接着剤が塗布され、前記スペーサおよび前記ウォールを介して前記第1基板と接着され、
前記液晶に溶解させたデンドリマーにより、前記液晶の分子が前記第1基板および前記第2基板に対して垂直に自動的に配向される
ことを特徴とする液晶表示素子。 - 前記接着剤は、0.25〜2μmの膜厚で塗布されることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示素子。
- 前記スペーサおよび前記ウォールは、同一のポリマ材料から形成されることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の液晶表示素子。
- 互いに対向する第1基板および第2基板、前記第1基板と前記第2基板との間に封入された、デンドリマーを溶解させた液晶、前記第1基板上の表示エリアに形成され、前記第1基板と前記第2基板との間のギャップを維持するスペーサ、並びに前記第1基板上の前記表示エリア周辺の額縁エリアに形成され、前記液晶を封止するウォールを備えた液晶表示素子の製造方法であって、
前記第1基板上に前記スペーサおよび前記ウォールを形成する形成ステップと、
前記第2基板の、少なくとも前記第1基板の前記表示エリアと対向する範囲に接着剤を塗布する塗布ステップと、
前記スペーサおよび前記ウォールが形成された前記第1基板と前記接着剤が塗布された前記第2基板とを重ね合わせて接着する接着ステップと、
接着された前記第1基板と前記第2基板との間に前記液晶を注入する注入ステップ、または、前記接着ステップの前に、前記スペーサおよび前記ウォールが形成された前記第1基板上に前記液晶を滴下する滴下ステップと、を備え、
前記液晶に溶解させたデンドリマーにより、前記液晶の分子が前記第1基板および前記第2基板に対して垂直に自動的に配向され、
前記接着ステップで、重ね合わせた前記第1基板と前記第2基板とを、加圧環境の下で70℃に加熱して前記接着剤を硬化する
ことを特徴とする液晶表示素子の製造方法。 - 前記塗布ステップにおいて、前記接着剤は、0.25〜2μmの膜厚で、スピンコート法、インクジェット法または印刷法によって塗布されることを特徴とする請求項4に記載の液晶表示素子の製造方法。
- 前記塗布ステップにおいて、前記接着剤は、室温での粘度が80cp以下であることを特徴とする請求項4または請求項5に記載の液晶表示素子の製造方法。
- 前記形成ステップにおいて、前記スペーサおよび前記ウォールは、フォトリソグラフィー法によって同一のポリマ材料から形成されることを特徴とする請求項4から請求項6までの何れか1項に記載の液晶表示素子の製造方法。
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