JP5500101B2 - 塗布膜形成方法及び装置並びに太陽電池及びその製造方法 - Google Patents
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Description
この場合、拡散層2を形成する前に、図2に示したように、反射損失を防止する目的で基板をアルカリ溶液に浸漬するなどして基板1表面に多数の微小凹凸からなるテクスチャ6を形成する。
即ち、本発明は、表面に多数の微細凹凸からなるテクスチャ面を有した太陽電池用の半導体基板に対し液状の塗布剤をスピン塗布し乾燥して上記表面を塗布剤で覆う際、テクスチャ面に液状の塗布剤をスピン塗布した後に、閉空間内で基板の塗布面を下向きにした状態を保持したまま該塗布面に送風が直接当たらないように温風送風して塗布面を乾燥することを特徴とする塗布膜形成方法を提供する。
塗布面を下向きにしても、基板と塗布剤には表面張力が働くため、塗布剤の全てが下方向に移動するわけではなく、一部はテクスチャの凹部に留まる。これにより表面に膜厚が均一な塗布剤7が形成される。
このようにして用意した基板31に対し、拡散剤(塗布剤)を塗布する際、本発明の塗布膜形成方法が利用できる。
厚さ250μm、比抵抗1Ω・cmの、ホウ素ドープ{100}P型アズカットシリコン基板18枚に対し、熱濃水酸化カリウム水溶液によりダメージ層を除去後、水酸化カリウム/2−プロパノール水溶液中に浸漬してテクスチャ形成を行い、引き続き塩酸/過酸化水素混合溶液中で洗浄を行った。
この基板を870℃で熱処理し、エミッタ層を形成した。拡散後、ふっ酸にてガラスを除去し、洗浄、乾燥させた。以上の処理の後、プラズマCVD装置を用いてSiNx膜を受光面反射防止膜として全試料に対し形成した。
作製された太陽電池を25℃、100mW/cm2、スペクトルAM1.5グローバルの擬似太陽光照射時の電気特性測定結果(9枚の平均値)を表1に示す。
2 拡散層
3 反射防止膜
4 電極
5 Al電極
6 テクスチャ
6a 凹部
6b 頂部
7 塗布剤
8 送風乾燥機
11 塗布膜形成装置本体
12 蓋体
13 ステージ
14 モーター
15 回転軸
16 塗布剤吐出ノズル
17 塗布剤供給ポンプ
18 配管
19 塗布剤供給タンク
20 送風乾燥機
21 塗布膜
31 シリコン基板
32 n型層(拡散層)
33 反射防止膜
34 Al層
35 受光面電極
Claims (8)
- 表面に多数の微細凹凸からなるテクスチャ面を有した太陽電池用の半導体基板に対し液状の塗布剤をスピン塗布し乾燥して上記表面を塗布剤で覆う際、テクスチャ面に液状の塗布剤をスピン塗布した後に、閉空間内で基板の塗布面を下向きにした状態を保持したまま該塗布面に送風が直接当たらないように温風送風して塗布面を乾燥することを特徴とする塗布膜形成方法。
- 基板のテクスチャ面を上向きにした状態で該テクスチャ面に液状の塗布剤をスピン塗布した後、この塗布面が下向きとなるように基板を反転させ、塗布面を下向きにした状態を保持したまま塗布面を乾燥することを特徴とする請求項1記載の塗布膜形成方法。
- 基板のテクスチャ面を下向きにした状態で該テクスチャ面に液状の塗布剤をスピン塗布し、引き続きこの塗布面を下向きにした状態を保持したまま塗布面を乾燥することを特徴とする請求項1記載の塗布膜形成方法。
- 50〜80℃に保たれたオーブン内で基板を保持して乾燥することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項記載の塗布膜形成方法。
- テクスチャが形成された太陽電池用基板に請求項1〜4のいずれか1項記載の塗布膜形成方法により拡散剤を塗布する工程を含む太陽電池の製造方法。
- 請求項5記載の製造方法によって作製された太陽電池。
- 表面に多数の微細凹凸からなるテクスチャ面を有した太陽電池用基板をそのテクスチャ面を下向きにして回転可能に保持する基板保持部と拡散剤である液状塗布剤の吐出部を有し、該吐出部の吐出ノズルが基板保持部の下側に配置され、かつ温風送風して塗布された塗布剤を乾燥する乾燥部を基板塗布面と反対面側に有しており、基板保持部が基板のテクスチャ面を下向きにして保持すると共に回転した状態で吐出部から塗布剤を供給してテクスチャ面にスピン塗布し、引き続き基板保持部が基板の塗布面を下向きにした状態を保持したまま基板の塗布面とは反対面側の乾燥部から塗布面に送風が直接当たらないように温風送風して塗布面を乾燥することを特徴とする塗布膜形成装置。
- 塗布面乾燥時に装置内が50〜80℃に保たれるオーブンとなることを特徴とする請求項7記載の塗布膜形成装置。
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