JP5498509B2 - ジニトロトルエンの水素化によるトリレンジアミンの製造方法 - Google Patents
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Description
垂直縦型反応器(1)中で、懸濁触媒の存在下でジニトロトルエンを水素で水素化してトリレンジアミンを製造する方法であって、
前記反応器の上端には、反応器底から抜き出され、外部ループ(3)を経由して来た反応混合物が反応器(1)の上部に噴霧される可動式ジェットノズル(2)が設置され、反応混合物は、前記反応器の長さ方向に設置された中央挿入チューブ(4)中に流入し、該チューブ内を頂部から下向きに流れ、一方で内部ループ運動により挿入チューブ(4)の外側で上向きに流れ、
反応器(1)の内部には、冷却水が流れ、それにより反応熱の一部を吸収する熱交換器(6)を有し、
反応器(1)の上端でジニトロトルエンを供給する供給口と、反応器(1)の下端に水素を供給する供給口とを有し、
反応器(1)の内側に設置された熱交換器(6)に加えて、外部ループにおいて、さらなる熱交換器(W)が使用され、この中で、水が、反応混合物との間接的な熱交換により反応熱の残りを吸収し、且つ
180℃以上の温度でジニトロトルエンのトリレンジアミンへの水素化を行いながら、少なくともゲージ圧で0.4MPa(4bar)の圧力で蒸気を発生させるために、該反応熱を利用することを特徴とする方法により達成される。
−TDA/水蒸留の蒸発機内での水の除去、
−高沸点残渣(蒸留または蒸着)からのTDAの除去、
−TDIの合成段階でのホスゲンまたはHClのストリッピング、
−TDAのホスゲン化の反応器または反応カラムの加熱、
−蒸留機中でのTDIの蒸留、
−ホスゲン化に用いた溶媒の蒸発、および
−全体としてTDI施設内での真空ジェットの運転(スチームの減圧による真空の発生)。
−プロセス排水からの溶媒の蒸発、
−吸収冷蔵機またはスチームジェット冷却器による低温の発生、
−エジェクタの減圧の場合の真空の発生、
− 熱プロセスへのエネルギー源または熱源としての動力の発生、
(タービンまたはORCまたはカリナサイクル中での直接減圧)、
−パイプライン、装置、容器またはタンクの加熱、および
−建物の加熱。
Claims (11)
- 垂直縦型反応器(1)中で、懸濁触媒の存在下でジニトロトルエンを水素で水素化してトリレンジアミンを製造する方法であって、
前記反応器の上端には、反応器底から抜き出され、外部ループ(3)を経由して来た反応混合物が反応器(1)の上部に噴霧される可動式ジェットノズル(2)が設置され、反応混合物は、前記反応器の長さ方向に設置された中央挿入チューブ(4)中に流入し、該チューブ内を頂部から下向きに流れ、一方で内部ループ運動により挿入チューブ(4)の外側で上向きに流れ、
反応器(1)の内部には、冷却水が流れ、それにより反応熱の一部を吸収する熱交換器(6)を有し、
反応器(1)の上端でジニトロトルエンを供給する供給口と、反応器(1)の下端に水素を供給する供給口とを有し、
反応器(1)の内側に設置された熱交換器(6)に加えて、外部ループにおいて、さらなる熱交換器(W)が使用され、この中で、水が、反応混合物との間接的な熱交換により反応熱の残りを吸収し、
180℃以上の温度でジニトロトルエンのトリレンジアミンへの水素化を行いながら、少なくともゲージ圧で0.4MPa(4bar)の圧力で蒸気を発生させるために、該反応熱を利用し、且つ
ジニトロトルエンが、反応器(1)の液体レベルの上の気相中に供給されるか、又はジニトロトルエンが、外壁上の環状のすき間から二本のジェットノズルからなる可動式ジェットノズル(2)に供給されることを特徴とする方法。 - ジニトロトルエンのトリレンジアミンへの水素化が185℃以上の温度で行われる請求項1に記載の方法。
- 前記触媒が、活物質として、不活性の支持体に付着させた、白金、パラジウム、ロジウム、及びルテニウムからなる群から選ばれる金属と、ニッケル、コバルト、鉄、亜鉛からなる群から選ばれる一種以上の他の金属とをともに含む請求項1または2に記載の方法。
- 前記触媒の活物質が、白金及びニッケル、またはパラジウム、ニッケル及びコバルト、またはパラジウム、ニッケル及び鉄を含む請求項3に記載の方法。
- 反応器内側に設けられた熱交換器(6)がフィールドチューブ熱交換器である請求項1〜4のいずれか一項に記載の方法。
- 反応器内側に設けられた熱交換器(6)がコイル型チューブ熱交換器である請求項1〜4のいずれか一項に記載の方法。
- 前記熱交換器(6)がチューブバンドル熱交換器である請求項1〜4のいずれか一項に記載の方法。
- 外部ループ(3)内に設けられた熱交換器(W)がチューブバンドル熱交換器である請求項1〜7のいずれか一項に記載の方法。
- ジニトロトルエンが環状分配管(7)により供給される請求項8に記載の方法。
- 反応器底から外部ループ(3)に流入する反応混合物中の水素濃度が1体積%未満に下がらないように確保されている請求項9に記載の方法。
- 反応器底から外部ループ(3)に流入する反応混合物中の水素濃度の最小値が、反応器(1)の直径または反応器底から出る反応混合物の流速の設計で確保されている請求項10に記載の方法。
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