JP5495094B2 - Contact exposure apparatus and contact exposure method - Google Patents
Contact exposure apparatus and contact exposure method Download PDFInfo
- Publication number
- JP5495094B2 JP5495094B2 JP2009010531A JP2009010531A JP5495094B2 JP 5495094 B2 JP5495094 B2 JP 5495094B2 JP 2009010531 A JP2009010531 A JP 2009010531A JP 2009010531 A JP2009010531 A JP 2009010531A JP 5495094 B2 JP5495094 B2 JP 5495094B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- stage
- work
- contact
- exposure apparatus
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70775—Position control, e.g. interferometers or encoders for determining the stage position
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
- G03F7/70841—Constructional issues related to vacuum environment, e.g. load-lock chamber
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
本発明は、露光装置、特に、マスクとワークを密着させてマスクに形成されているパターンをワーク上に転写するコンタクト露光装置及びコンタクト露光方法に関する。 The present invention relates to an exposure apparatus, and more particularly to a contact exposure apparatus and a contact exposure method for transferring a pattern formed on a mask onto the work by bringing the mask and the work into close contact with each other.
半導体装置、液晶基板、マイクロマシン等のミクロサイズの加工が必要な様々な電気部品等の製造においては、ワーク上に各種電子的素子等を形成するため、パターンを形成したマスクを介して光をワーク上に照射して、ワーク上にマスクパターンを露光する露光装置が知られている。このような露光装置の中には、マスクとワークとを密着させてマスクパターンをワーク上に転写するコンタクト露光装置がある。 In the manufacture of various electrical components that require micro-size processing such as semiconductor devices, liquid crystal substrates, and micromachines, light is transmitted through a pattern-formed mask to form various electronic elements on the workpiece. There is known an exposure apparatus that irradiates a mask pattern on a workpiece by irradiating the mask. Among such exposure apparatuses, there is a contact exposure apparatus that transfers a mask pattern onto a work by bringing the mask and the work into close contact with each other.
図１１は、従来技術に係るコンタクト露光装置の一例を示す断面図である。
同図に示すように、このコンタクト露光装置は、概略、露光光を出射する光照射部１０１、マスク１０２を保持するマスクステージ１０３、露光処理を行うワーク１０４を保持するワークステージ１０５から構成されている。光照射部１０１は、露光光を含む光を放射するランプ１０１１と、ランプ１０１１から放射する光を反射するミラー１０１２を備えている。マスクステージ１０３は、ワーク１０４に転写するパターン（マスクパターン）１０２２が形成されたマスク１０２を保持する。ワークステージ１０５は、マスクパターン１０２２が転写されるワーク１０４を保持する。
FIG. 11 is a cross-sectional view showing an example of a contact exposure apparatus according to the prior art.
As shown in the figure, this contact exposure apparatus is roughly composed of a light irradiation unit 101 that emits exposure light, a mask stage 103 that holds a mask 102, and a work stage 105 that holds a work 104 that performs exposure processing. Yes. The light irradiation unit 101 includes a lamp 1011 that emits light including exposure light, and a mirror 1012 that reflects light emitted from the lamp 1011. The mask stage 103 holds the mask 102 on which a pattern (mask pattern) 1022 to be transferred to the workpiece 104 is formed. The work stage 105 holds the work 104 onto which the mask pattern 1022 is transferred.
ワークステージ１０５の周辺部には、ワーク１０４を載置する部分を取り囲むように、樹脂製の環状のシール部材１０６、例えば、リップシールが取り付けられている。シール部材１０６は、例えば、ワークステージ１０５と接する部分に真空グリス１０７を塗り、ねじ１０８により固定されている。シール部材１０６の先端は、後述するように、露光時にはマスクステージ１０３の下面と接触し閉空間を形成する。また、マスクステージ１０３には、マスク１０２とマスクステージ１０３とワーク１０４とワークステージ１０５とシール部材１０６により形成される閉空間を減圧するための真空配管１０９が設けられている。 An annular seal member 106 made of resin, for example, a lip seal is attached to the periphery of the work stage 105 so as to surround a portion on which the work 104 is placed. For example, the seal member 106 is applied with vacuum grease 107 on a portion in contact with the work stage 105 and is fixed by a screw 108. As will be described later, the front end of the seal member 106 contacts the lower surface of the mask stage 103 during exposure to form a closed space. Further, the mask stage 103 is provided with a vacuum pipe 109 for decompressing a closed space formed by the mask 102, the mask stage 103, the work 104, the work stage 105, and the seal member 106.
また、ワークステージ１０５には、ワークステージ駆動機構１１０が取り付けられており、ワークステージ駆動機構１１０はワークステージ１０５をＸ方向（例えば、紙面の左右方向）、Ｙ方向（例えば、紙面に対して垂直方向）、Ｚ方向（例えば、紙面の上下方向）に移動させるとともに、ワークステージ１０５をワーク面に垂直な軸を中心として回転（この回転をθ方向移動という）させる機能を有する。なお、マスク１０２とワーク１０４には、両者の位置を合わせを行うために、それぞれにアライメントマーク１０２１、１０４１が形成されている。 In addition, a work stage drive mechanism 110 is attached to the work stage 105, and the work stage drive mechanism 110 moves the work stage 105 in the X direction (for example, the left-right direction of the paper surface) and the Y direction (for example, perpendicular to the paper surface). Direction) and the Z direction (for example, the vertical direction of the paper surface), and also has a function of rotating the work stage 105 around an axis perpendicular to the work surface (this rotation is referred to as θ direction movement). Note that alignment marks 1021 and 1041 are formed on the mask 102 and the workpiece 104, respectively, in order to align the positions of the mask 102 and the workpiece 104.
図１２ないし図１４は、図１１に示したコンタクト露光装置の露光過程を示す図である。なお、図１２ないし図１４には、図１１に示した光照射部１０１やワークステージ駆動機構１１０は省略されている。
図１１ないし図１４を用いて、コンタクト露光装置の露光過程について説明する。
図１１において、不図示の搬送機構により、ワーク１０４がワークステージ１０５上に置かれ保持される。なお、ワーク１０４の表面には露光光により反応する不図示のレジストが塗布されている。
12 to 14 are views showing an exposure process of the contact exposure apparatus shown in FIG. 12 to 14, the light irradiation unit 101 and the work stage driving mechanism 110 shown in FIG. 11 are omitted.
The exposure process of the contact exposure apparatus will be described with reference to FIGS.
In FIG. 11, a workpiece 104 is placed on and held on a workpiece stage 105 by a conveyance mechanism (not shown). The surface of the work 104 is coated with a resist (not shown) that reacts with exposure light.
次に、図１２に示すように、不図示のワークステージ駆動機構１１０が動作し、ワークステージ１０５は、マスク１０２とワーク１０４の間隔が、あらかじめ設定されているアライメント・ギャップ（位置合せ間隙）になるまで上昇（Ｚ方向移動）する。アライメント・ギャップ（位置合せ間隙）は、例えば、１００μｍである。次に、マスク１０２と不図示の光照射部１０１との間にアライメント顕微鏡１１１を挿入し、マスク１０２に形成されているマスク・アライメントマーク（マスクマーク）１０２１と、ワーク１０４に形成されているワーク・アライメントマーク（ワークマーク）１０４１を同時に検出する。このように、アライメント顕微鏡１１１は、マスクマーク１０２１とワークマーク１０４１を同時に検出するので、アライメント・ギャップ（位置合わせ間隙）は、アライメント顕微鏡１１１の焦点深度に依存する。最近は、アライメント（位置合わせ）精度を上げるために、精度の高い、つまり焦点深度の浅い顕微鏡が使用されるようになってきている。 Next, as shown in FIG. 12, a work stage drive mechanism 110 (not shown) is operated, and the work stage 105 has a gap between the mask 102 and the work 104 set to a preset alignment gap (alignment gap). Ascends (moves in Z direction) until The alignment gap (alignment gap) is, for example, 100 μm. Next, an alignment microscope 111 is inserted between the mask 102 and a light irradiation unit 101 (not shown), and a mask / alignment mark (mask mark) 1021 formed on the mask 102 and a work formed on the work 104 The alignment mark (work mark) 1041 is detected at the same time. Thus, since the alignment microscope 111 detects the mask mark 1021 and the work mark 1041 simultaneously, the alignment gap (positioning gap) depends on the depth of focus of the alignment microscope 111. Recently, in order to increase alignment (positioning) accuracy, a microscope with high accuracy, that is, a shallow depth of focus has been used.
両者のアライメントマーク１０２１、１０４１が一致するように（又は所定の位置関係になるように）、ワークステージ駆動機構１１０によりワークステージ１０５をＸＹθ方向に移動させ、マスク１０２とワーク１０４の位置合わせ（アライメント）を行う。なお、マスク１０２とワーク１０４の位置合せは、マスクステージ１０３を移動させて行っても良いし、ワークステージ１０５とマスクステージ１０３の両方を移動させて行っても良い。 The work stage 105 is moved in the XYθ direction by the work stage driving mechanism 110 so that the alignment marks 1021 and 1041 of the two coincide (or have a predetermined positional relationship), and the mask 102 and the work 104 are aligned (alignment). )I do. The alignment of the mask 102 and the workpiece 104 may be performed by moving the mask stage 103, or may be performed by moving both the workpiece stage 105 and the mask stage 103.
次に、図１３に示すように、アライメント終了後、ワークステージ１０５を上昇させ、マスク１０２とワーク１０５を接触させる。ワークステージ１０５の周囲に設けられた環状のシール部材１０６全体が、ワーク１０４を載置した部分を取り囲んで、がマスクステージ１０３の下面に隙間なく接触し、マスク１０２、マスクステージ１０３、ワーク１０４、ワークステージ１０５、シール部材１０６によりシールされた閉空間が形成される。この状態でマスクステージ１０３に設けられた真空配管１０９に真空を供給し、前記シール空間を減圧する。シール空間が減圧されると、マスク１０２はワーク１０４に押し付けられ、マスク１０２とワーク１０４は全面に渡って密着する。なお、このときワークステージ１０５に形成されている不図示の真空吸着孔からエアを吹き出して（バックブローともいう）をワーク１０２をマスク１０４に押し付けるようにしてもよい。 Next, as shown in FIG. 13, after the alignment is completed, the work stage 105 is raised, and the mask 102 and the work 105 are brought into contact with each other. The entire annular seal member 106 provided around the work stage 105 surrounds the part on which the work 104 is placed, but is in contact with the lower surface of the mask stage 103 without a gap, and the mask 102, the mask stage 103, the work 104, A closed space sealed by the work stage 105 and the seal member 106 is formed. In this state, a vacuum is supplied to the vacuum pipe 109 provided on the mask stage 103 to decompress the seal space. When the seal space is depressurized, the mask 102 is pressed against the workpiece 104, and the mask 102 and the workpiece 104 are in close contact with each other. At this time, air may be blown out from a vacuum suction hole (not shown) formed in the work stage 105 (also referred to as back blow) to press the work 102 against the mask 104.
ここで、シール空間を減圧する理由は、マスク１０２とワーク１０４の間に空気溜まりが残るのを防ぎ、マスク１０２とワーク１０４を全面に渡って密着させるためである。マスク１０２とワーク１０４を単に接触させただけでは、マスク１０２やワーク１０４に反りや微小な凹凸等がある場合、マスク１０２とワーク１０４を全面に渡って密着させることができず、マスク１０２とワーク１０４との間に隙間が生じ、露光精度が悪くなるからである。シール空間を減圧しマスク１０２とワーク１０４を密着させた状態で、不図示の光照射部１０１から露光光を、マスク１０２を介してワーク１０４に照射すると、ワーク１０４上にマスクパターンが転写される。 Here, the reason for reducing the pressure of the seal space is to prevent an air reservoir from remaining between the mask 102 and the workpiece 104 and to bring the mask 102 and the workpiece 104 into close contact with each other. If the mask 102 and the workpiece 104 are simply brought into contact with each other and the mask 102 and the workpiece 104 are warped or have minute irregularities, the mask 102 and the workpiece 104 cannot be brought into close contact with each other. This is because a gap is generated between the exposure area 104 and the exposure accuracy. In a state where the seal space is decompressed and the mask 102 and the work 104 are brought into close contact with each other, when the exposure light is irradiated from the light irradiation unit 101 (not shown) to the work 104 via the mask 102, the mask pattern is transferred onto the work 104. .
図１４に示すように、露光光の照射が終わると、不図示のワークステージ駆動機構１１０が動作し、ワークステージ１０５が下降する。その後、不図示の搬送機構により、ワーク１０４がワークステージ１０５から露光装置外に搬出される。 As shown in FIG. 14, when the exposure light irradiation ends, the work stage drive mechanism 110 (not shown) operates, and the work stage 105 is lowered. Thereafter, the work 104 is carried out of the exposure apparatus from the work stage 105 by a conveyance mechanism (not shown).
このように、マスク１０２とワーク１０４を密着させるとともに、マスクステージ１０３とワークステージ１０５の間を減圧して露光することをハードコンタクト露光と呼ぶこともある。このようなハードコンタクト露光の例としては、例えば、特許文献１や特許文献２に示されている。 As described above, the exposure with the mask 102 and the work 104 in close contact with each other while reducing the pressure between the mask stage 103 and the work stage 105 may be referred to as hard contact exposure. Examples of such hard contact exposure are shown in Patent Document 1 and Patent Document 2, for example.
なお、図１１ないし図１４においては、シール部材１０６として、市販されているリップシールと呼ばれているものの断面形状を模式的に示している。リップシールの場合、具体的にはその先端部分１０６１がマスクステージ１０３の下面に接触する。即ち、環状のリップシール全体が、その先端部分１０６１においてワーク１０４を取り囲んでマスクステージ１０３の下面に接触し、減圧空間を形成する。しかし、実際の装置において、市販されているリップシールをそのまま用いると、リップシールは柔軟な樹脂製であることが多いので、先端部分１０６１の一部が重力で垂れて、リップシールの高さが揃わないことがある。リップシールの先端部分１０６１の高さが揃わないと、図１３において、マスク１０２とワーク１０４を接触させる時、環状に設けたリップシールの先端部分１０６１の一部がマスクステージ１０３の下面に接触できず、マスク１０２とワーク１０４の間にリークが生じ減圧できないことがある。 In addition, in FIG. 11 thru | or FIG. 14, the cross-sectional shape of what is called the lip seal marketed as the sealing member 106 is shown typically. In the case of a lip seal, specifically, the tip portion 1061 contacts the lower surface of the mask stage 103. That is, the entire annular lip seal surrounds the workpiece 104 at the tip portion 1061 and contacts the lower surface of the mask stage 103 to form a decompression space. However, in an actual apparatus, when a commercially available lip seal is used as it is, the lip seal is often made of a flexible resin, so that a part of the tip portion 1061 hangs down due to gravity, and the height of the lip seal is increased. It may not be complete. If the height of the tip part 1061 of the lip seal is not aligned, when the mask 102 and the workpiece 104 are brought into contact with each other in FIG. 13, a part of the tip part 1061 of the lip seal provided in an annular shape can contact the lower surface of the mask stage 103. In other words, a leak may occur between the mask 102 and the workpiece 104, and the pressure cannot be reduced.
なお、図１５は、シール部材１０６として、リップシールを用いた場合のリークを防ぐために、本件発明者等が改良して使用してたシール部材１１２の構成を示す図であり、図１５（ａ）はシール部材１１２の斜視図、図１５（ｂ）はシール部材１１２の一部断面図である。
これらの図に示すように、シール部材１１２は、先端部分の高さを揃えるために、環状の第１の樹脂部分１１２１の上部に、環状の薄い金属の板状部材（ステンレスリング）１１２３を取り付け、その環状の板状部材１１２３の上面に、環状で突起状の第２の樹脂部分１１２２が形成されている。また、第１の樹脂部分１１２１が、環状の板状部材１１２３の重みで変形しないように、板状部材１１２３の複数箇所に、例えば、板ばね等からなるばね部材１１２４が取り付けられている。ばね部材１１２４の板状部材１１２３に取り付けられる側とは反対側は、ワークステージ１０５に固定される。これにより、板状部材１１２３は、ばね部材１１２４の弾性により、マスクステージ１０３の方向に付勢される。環状の板状部材１１２３の上に形成した環状の第２の樹脂部分１１２２は、先端部分１１２２１においてマスクステージ１０３の下面と接する。このように環状の板状部材１１２３の上にマスクステージ１０３と接する第２の樹脂製部分１１２２が形成されているので、環状の板状部材１１２３が第２の樹脂部分１１２２の先端部分１１２２１の高さを揃える働きをし、マスクステージ１０３と接する第２の樹脂部分１１２２の先端部分１１２２１の一部が垂れるというようなことがなくなり、シール部材１１２の先端部分の高さを揃えることができる。
FIG. 15 is a diagram showing a configuration of the seal member 112 that the present inventors have improved and used in order to prevent leakage when a lip seal is used as the seal member 106. FIG. ) Is a perspective view of the seal member 112, and FIG. 15B is a partial cross-sectional view of the seal member 112.
As shown in these drawings, the seal member 112 has an annular thin metal plate member (stainless ring) 1123 attached to the upper portion of the annular first resin portion 1121 in order to align the height of the tip portion. On the upper surface of the annular plate-like member 1123, an annular and projecting second resin portion 1122 is formed. Also, spring members 1124 made of, for example, leaf springs are attached to a plurality of locations of the plate-like member 1123 so that the first resin portion 1121 is not deformed by the weight of the annular plate-like member 1123. The side of the spring member 1124 opposite to the side attached to the plate-like member 1123 is fixed to the work stage 105. Accordingly, the plate-like member 1123 is urged toward the mask stage 103 by the elasticity of the spring member 1124. An annular second resin portion 1122 formed on the annular plate-like member 1123 is in contact with the lower surface of the mask stage 103 at the distal end portion 11221. Thus, since the second resin portion 1122 in contact with the mask stage 103 is formed on the annular plate-like member 1123, the annular plate-like member 1123 has a height higher than the tip portion 11221 of the second resin portion 1122. The portion of the tip portion 11221 of the second resin portion 1122 in contact with the mask stage 103 does not hang down and the height of the tip portion of the seal member 112 can be made uniform.
図１５に示したシール部材１１２も、マスクステージ１０３とワークステージ１０５間の空間を減圧するために利用される。そのため、ワークステージ１０５を上昇させ、ワーク１０４をマスク１０２に密着させた状態で、シール部材１１２の先端部分１１２２１がマスクステージ１０３の下面に接していなければならない。しかし、シール部材１１２の高さ（長さ）を、ワーク１０４をマスク１０２に密着させたとき、その先がマスクステージ１０３の下面に十分に接するような高さ（長さ）にすると、図１２に示した、マスク１０２とワーク１０４の位置合せを行う時も、マスク１０２とワーク１０４の間隔は、上記したように１００μｍと小さいため、シール部材１１２の先端部分１１２２１がマスクステージ１０３の下面に接触してしまう。前述のごとく、最近は、焦点深度の浅い精度の高いアライメント顕微鏡１１１が使用されるようになってきており、アライメントギャップ（位置合わせ間隙）はますます狭くなる傾向にある。一般にシール部材１１２は樹脂製であり、μｍオーダーで高さを正確に加工製作することは困難である。マスク１０２とワーク１０４の位置合せは、マスクステージ１０３又はワークステージ１０４のいずれか、又はその両方を移動させて行う。移動距離は、通常５０〜２００μｍ程度であるが、露光処理全体にかかる時間（タクト）の短縮のために、できるだけ早くスムーズに移動しなければならない。しかし、シール部材１１２がマスクステージ１０３の下面に接していると、樹脂製であるシール部材１１２の弾性により、マスクステージ１０３やワークステージ１０５がスムーズに移動できなかったり、移動した後引き戻されたりして、位置合せに時間がかかつたり、位置合せ精度が悪くなったりする。つまり、図１１に示したシール部材１０６を使用した場合でも、又図１５に示したシール部材１１２を使用した場合でも、同様の問題を生じる。 The seal member 112 shown in FIG. 15 is also used to depressurize the space between the mask stage 103 and the work stage 105. Therefore, the tip portion 11221 of the seal member 112 must be in contact with the lower surface of the mask stage 103 in a state where the workpiece stage 105 is raised and the workpiece 104 is in close contact with the mask 102. However, when the height (length) of the seal member 112 is set to such a height (length) that the tip of the workpiece 104 is sufficiently in contact with the lower surface of the mask stage 103 when the work 104 is brought into close contact with the mask 102, FIG. When the alignment between the mask 102 and the workpiece 104 shown in FIG. 5 is performed, since the distance between the mask 102 and the workpiece 104 is as small as 100 μm as described above, the tip portion 11221 of the seal member 112 contacts the lower surface of the mask stage 103. Resulting in. As described above, recently, the high-precision alignment microscope 111 having a shallow depth of focus has been used, and the alignment gap (positioning gap) tends to become narrower. Generally, the seal member 112 is made of resin, and it is difficult to accurately process and manufacture the height on the order of μm. The alignment of the mask 102 and the work 104 is performed by moving either the mask stage 103 or the work stage 104 or both. The moving distance is usually about 50 to 200 μm, but it must be moved smoothly and as quickly as possible in order to shorten the time (tact) required for the entire exposure process. However, if the seal member 112 is in contact with the lower surface of the mask stage 103, the mask stage 103 and the work stage 105 may not move smoothly due to the elasticity of the resin seal member 112, or may be pulled back after moving. As a result, the alignment takes time, and the alignment accuracy deteriorates. That is, even when the seal member 106 shown in FIG. 11 is used or when the seal member 112 shown in FIG. 15 is used, the same problem occurs.
本発明の目的は、上記の問題点に鑑みて、ワークステージの周辺にシール部材を備え、マスクとワークを密着し、マスクステージとワークステージの間を減圧して露光を行う際に、マスクとワークの位置合せを行っているときには、シール部材が、マスクステージに接しないようにしたコンタクト露光装置又はコンタクト露光方法を提供することにある。 In view of the above problems, the object of the present invention is to provide a seal member around the work stage, closely contact the mask and the work, and reduce the pressure between the mask stage and the work stage when performing exposure. It is an object of the present invention to provide a contact exposure apparatus or a contact exposure method in which a seal member is not in contact with a mask stage when a workpiece is aligned.
本発明は、上記の課題を解決するために、次のような手段を採用した。
第１の手段は、ワークステージに固定されて弾性変形が可能な環状の第１の樹脂部分と、該第１の樹脂部材の上部に取り付けられた環状の板状部材と、該板状部材の上面に形成された環状の第２の樹脂部分と、一端が前記板状部材に他端が前記ワークステージに固定されて前記板状部材を前記マスクステージの方向に付勢するばねと、一端が前記板状部材に他端が前記ワークステージに固定されて内部に真空が供給されることにより前記ワークステージの方向に吸着する蛇腹部を有するシール部材移動機構を備え、前記ワークステージの周辺部に環状に取り付けられることを特徴とするコンタクト露光装置用シール部材である。
第２の手段は、マスクステージに固定されて弾性変形が可能な環状の第１の樹脂部分と、該第１の樹脂部材の上部に取り付けられた環状の板状部材と、該板状部材の上面に形成された環状の第２の樹脂部分と、一端が前記板状部材に他端が前記マスクステージに固定されて前記板状部材を前記ワークステージの方向に付勢するばねと、一端が前記板状部材に他端が前記マスクステージに固定されて内部に真空が供給されることにより前記マスクステージの方向に吸着する蛇腹部を有するシール部材移動機構を備え、前記マスクステージの周辺部に環状に取り付けられることを特徴とするコンタクト露光装置用シール部材である。
第３の手段は、パターンが形成されたマスクと、該マスクを保持するマスクステージと、ワークを載置するワークステージとを備え、前記ワーククステージの周辺部に、第１手段に記載のコンタクト露光装置用シール部材を取り付け、前記ワークステージに載置された前記ワークを前記マスクと接触させ、前記マスクと前記マスクステージと前記ワークと前記ワークステージと前記コンタクト露光装置用シール部材により形成される空間を減圧した状態で、露光光を前記マスクを介して前記ワークに照射することを特徴とするコンタクト露光装置である。
第４の手段は、パターンが形成されたマスクと、該マスクを保持するマスクステージと、ワークを載置するワークステージとを備え、前記マスクステージの周辺部に、第２の手段に記載のコンタクト露光装置用シール部材を取り付け、前記ワークステージに載置された前記ワークを前記マスクと接触させ、前記マスクと前記マスクステージと前記ワークと前記ワークステージと前記コンタクト露光装置用シール部材により形成される空間を減圧した状態で、露光光を前記マスクを介して前記ワークに照射することを特徴とするコンタクト露光装置である。
第５の手段は、パターンが形成されたマスクと、該マスクを保持するマスクステージと、ワークを載置するワークステージとを備え、前記ワークステージの周辺部に、先端部全体が上下移動する第１の手段に記載のコンタクト露光装置用シール部材を取り付け、前記マスクと前記ワークの位置合せを行った後、前記マスクと前記ワークを接触させ、露光光を前記マスクを介して前記ワークに照射するコンタクト露光方法において、前記マスクと前記ワークの位置合わせを行う時は、前記コンタクト露光装置用シール部材の先端部は、前記コンタクト露光装置用シール部材が取り付けられている前記ワークステージ側に退避し、露光光が前記マスクを介して前記ワークに照射される時は、前記コンタクト露光装置用シール部材の先端部は、対向する前記マスクステージの方向に移動して、前記マスクステージと接触し、前記マスクと前記マスクステージと前記ワークと前記ワークステージと前記コンタクト露光装置用シール部材により形成される空間が減圧されるようにしたことを特徴とするコンタクト露光方法である。
第６の手段は、パターンが形成されたマスクと、該マスクを保持するマスクステージと、ワークを載置するワークステージとを備え、前記マスクステージの周辺部に、先端部全体が上下移動する第２の手段に記載のコンタクト露光装置用シール部材を取り付け、前記マスクと前記ワークの位置合せを行った後、前記マスクと前記ワークを接触させ、露光光を前記マスクを介して前記ワークに照射するコンタクト露光方法において、前記マスクと前記ワークの位置合わせを行う時は、前記コンタクト露光装置用シール部材の先端部は、前記コンタクト露光装置用シール部材が取り付けられている前記マスクステージ側に退避し、露光光が前記マスクを介して前記ワークに照射される時は、前記コンタクト露光装置用シール部材の先端部は、対向する前記ワークステージの方向に移動して、前記ワークステージと接触し、前記マスクと前記マスクステージと前記ワークと前記ワークステージと前記コンタクト露光装置用シール部材により形成される空間が減圧されるようにしたことを特徴とするコンタクト露光方法である。
第７の手段は、ワークステージにワークを載置する第１の工程と、第１の手段に記載のコンタクト露光装置用シール部材の先端部を該コンタクト露光装置用シール部材が取り付けられているワークステージ側に退避させ、ワークステージを位置合せ位置にまで移動させる第２の工程と、マスクに形成されたアライメントマークと前記ワークに形成されたアライメントマークを検出し位置合せを行う第３の工程と、前記コンタクト露光装置用シール部材の先端部を対向する前記マスクステージに向かって移動させ、前記ワークステージを露光位置にまで移動させる第４の工程と、前記マスクと前記マスクステージと前記ワークと前記ワークステージと先端部が前記マスクステージと接触した前記コンタクト露光装置用シール部材により形成される空間を減圧する第５の工程と、露光光を前記マスクを介して前記ワークに照射する第６の工程と、露光した前記ワークを前記ワークステージから搬出する第７の工程とを含むことを特徴とするコンタクト露光方法である。
第８の手段は、ワークステージにワークを載置する第１の工程と、第２の手段に記載のコンタクト露光装置用シール部材の先端部を該コンタクト露光装置用シール部材が取り付けられているマスクステージ側に退避させ、ワークステージを位置合せ位置にまで移動させる第２の工程と、マスクに形成されたアライメントマークと前記ワークに形成されたアライメントマークを検出し位置合せを行う第３の工程と、前記コンタクト露光装置用シール部材の先端部を対向する前記ワークステージに向かって移動させ、前記ワークステージを露光位置にまで移動させる第４の工程と、前記マスクと前記マスクステージと前記ワークと前記ワークステージと先端部が前記ワークステージと接触した前記コンタクト露光装置用シール部材により形成される空間を減圧する第５の工程と、露光光を前記マスクを介して前記ワークに照射する第６の工程と、露光した前記ワークを前記ワークステージから搬出する第７の工程とを含むことを特徴とするコンタクト露光方法である。
The present invention employs the following means in order to solve the above problems.
First means includes a first resin portion that is elastically deformable annular fixed to word Kusute di, an annular plate-like member attached to the upper portion of the first resin member, the plate-like member a second resin portion of the annular formed on the upper surface of a spring having one end biasing the plate-like member is fixed and the other end to said workpiece stage to the plate-like member in the direction of the mask stage , with a seal member moving mechanism having a bellows portion that adsorbed to the direction of the workpiece stage by one end and the other end to the plate-like member is vacuum is supplied to the inside is fixed to the work stage, the work A seal member for a contact exposure apparatus, wherein the seal member is annularly attached to a peripheral portion of a stage.
The second means includes an annular first resin portion fixed to the mask stage and capable of elastic deformation, an annular plate-like member attached to an upper portion of the first resin member, and the plate-like member. An annular second resin portion formed on the upper surface, a spring having one end fixed to the plate member and the other end fixed to the mask stage, and urging the plate member toward the work stage, and one end A seal member moving mechanism having a bellows part that is adsorbed in the direction of the mask stage when the other end of the plate member is fixed to the mask stage and a vacuum is supplied to the inside; A seal member for a contact exposure apparatus, wherein the seal member is attached in a ring shape .
The third means includes a mask on which a pattern is formed, a mask stage for holding the mask, and a work stage on which the work is placed, and the contact described in the first means is provided around the work stage. An exposure apparatus seal member is attached, the work placed on the work stage is brought into contact with the mask, and formed by the mask, the mask stage, the work, the work stage, and the contact exposure apparatus seal member. In the contact exposure apparatus , the work is irradiated with exposure light through the mask while the space is decompressed .
The fourth means includes a mask on which a pattern is formed, a mask stage for holding the mask, and a work stage on which the work is placed. The contact described in the second means is provided on the periphery of the mask stage. An exposure apparatus seal member is attached, the work placed on the work stage is brought into contact with the mask, and formed by the mask, the mask stage, the work, the work stage, and the contact exposure apparatus seal member. In the contact exposure apparatus , the work is irradiated with exposure light through the mask while the space is decompressed .
The fifth means includes a mask on which a pattern is formed, a mask stage for holding the mask, and a work stage on which the work is placed, and the entire front end portion moves up and down around the work stage. After the contact exposure apparatus seal member described in the first means is attached and the mask and the workpiece are aligned, the mask and the workpiece are brought into contact with each other, and exposure light is irradiated onto the workpiece through the mask. In the contact exposure method, when the mask and the workpiece are aligned, the tip of the contact exposure apparatus seal member is retracted to the work stage side to which the contact exposure apparatus seal member is attached, When exposure light is applied to the workpiece through the mask, the tip of the seal member for the contact exposure device faces So that the space formed by the mask, the mask stage, the workpiece, the work stage, and the contact exposure apparatus seal member is depressurized. This is a contact exposure method characterized by the above.
The sixth means includes a mask on which a pattern is formed, a mask stage for holding the mask, and a work stage on which the work is placed, and the entire front end portion moves up and down around the mask stage. After attaching the contact exposure apparatus sealing member described in the means 2 and aligning the mask and the workpiece, the mask and the workpiece are brought into contact with each other, and the workpiece is irradiated with exposure light through the mask. In the contact exposure method, when the mask and the workpiece are aligned, the tip of the contact exposure apparatus seal member is retracted to the mask stage side to which the contact exposure apparatus seal member is attached, When exposure light is applied to the workpiece through the mask, the tip of the seal member for the contact exposure device faces So that the space formed by the mask, the mask stage, the work, the work stage, and the contact exposure apparatus sealing member is depressurized. This is a contact exposure method characterized by the above.
The seventh means includes a first step of placing the work on the work stage, and a work in which the contact exposure apparatus seal member is attached to the tip of the contact exposure apparatus seal member described in the first means. A second step of retracting to the stage side and moving the work stage to the alignment position; and a third step of detecting and aligning the alignment mark formed on the mask and the alignment mark formed on the workpiece; A fourth step of moving the tip of the seal member for contact exposure apparatus toward the opposing mask stage and moving the work stage to an exposure position, the mask, the mask stage, the work, and the work The work stage and the tip are formed by the contact exposure apparatus seal member in contact with the mask stage. A fifth step of decompressing the space; a sixth step of irradiating the workpiece with exposure light through the mask; and a seventh step of unloading the exposed workpiece from the workpiece stage. This is a contact exposure method.
The eighth means is a mask in which the contact exposure apparatus seal member is attached to the tip of the first step of placing the work on the work stage and the contact exposure apparatus seal member described in the second means. A second step of retracting to the stage side and moving the work stage to the alignment position; and a third step of detecting and aligning the alignment mark formed on the mask and the alignment mark formed on the workpiece; A fourth step of moving the tip of the seal member for contact exposure device toward the opposing work stage and moving the work stage to an exposure position, the mask, the mask stage, the work, and the work The work stage and the tip are formed by the contact exposure apparatus seal member in contact with the work stage. A fifth step of decompressing the space; a sixth step of irradiating the workpiece with exposure light through the mask; and a seventh step of unloading the exposed workpiece from the workpiece stage. This is a contact exposure method.
本発明によれば、マスクとワークの位置合せ時には、シール部材が環状方向について全体が下降しているので、シール部材のシール空間を形成するための先端部分がマスクステージの下面（シール部材がマスクステージ側に設けられている場合は、ワークステージの上面）に接触することがないので、ステージの移動が、時間がかかったり引き戻されたりすることがなく、位置合せ精度が低下することもなく、マスクステージやワークステージ又は両方の移動をスムーズに行うことができる。 According to the present invention, when the mask and the workpiece are aligned, since the whole seal member is lowered in the annular direction, the tip portion for forming the seal space of the seal member is the lower surface of the mask stage (the seal member is the mask). If it is provided on the stage side, it will not touch the upper surface of the work stage), so the stage movement will not take time or be pulled back, and the alignment accuracy will not decrease, The mask stage and work stage or both can be moved smoothly.
本発明の第１の実施形態を図１ないし図５を用いて説明する。
図１は、本実施形態の発明に係るコンタクト露光装置の構成を示す断面図である。
同図に示すように、このコンタクト露光装置は、露光光を出射する光照射部１、パターンが形成されたマスク２を保持するマスクステージ３、露光処理を行うワーク４を保持するワークステージ５を備えている。光照射部１は、露光光を含む光を放射するランプ１１と、ランプ１１から放射される光を反射するミラー１２を備えている。マスクステージ３は、ワーク４に転写するパターン（マスクパターン）２２が形成されたマスク２を保持する。ワークステージ５は、マスクパターン２２が転写されるワーク４を保持する。
A first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a configuration of a contact exposure apparatus according to the invention of this embodiment.
As shown in the figure, this contact exposure apparatus includes a light irradiation unit 1 that emits exposure light, a mask stage 3 that holds a mask 2 on which a pattern is formed, and a work stage 5 that holds a workpiece 4 that performs exposure processing. I have. The light irradiation unit 1 includes a lamp 11 that emits light including exposure light, and a mirror 12 that reflects light emitted from the lamp 11. The mask stage 3 holds the mask 2 on which a pattern (mask pattern) 22 to be transferred to the workpiece 4 is formed. The work stage 5 holds the work 4 to which the mask pattern 22 is transferred.
ワークステージ５の周辺部には、ワーク４を載置する部分を取り囲むように、環状のシール部材６が取り付けられている。シール部材６は、例えば、ワークステージ５と接する部分に真空グリスを塗り、ねじにより固定している。シール部材６の第２の樹脂部分６２の先端部全体は、後述するように、露光時にはワーク１０４を載置する部分を、環状に取り囲んでマスクステージ３の下面と隙間なく接触し閉空間を形成する。又、マスクステージ３には、マスク２とマスクステージ３とワーク４とワークステージ５とシール部材６により形成される閉空間を減圧するための真空配管７が設けられている。なお、環状のシール部材６は、ワーク４を載置する部分を取り囲むように設けられるものであって、環状の形態は、輪状に限定されず、例えば、ワーク形状に合わせて角形状に形成したものも含まれる。 An annular seal member 6 is attached to the periphery of the work stage 5 so as to surround a portion on which the work 4 is placed. The seal member 6 is, for example, coated with vacuum grease on a portion in contact with the work stage 5 and fixed with screws. As will be described later, the entire tip of the second resin portion 62 of the seal member 6 surrounds the portion on which the workpiece 104 is placed at the time of exposure so as to form a closed space by contacting the lower surface of the mask stage 3 without a gap. To do. Further, the mask stage 3 is provided with a vacuum pipe 7 for depressurizing a closed space formed by the mask 2, the mask stage 3, the work 4, the work stage 5, and the seal member 6. The annular seal member 6 is provided so as to surround a part on which the workpiece 4 is placed, and the annular shape is not limited to a ring shape, and is formed in a square shape according to the workpiece shape, for example. Also included.
更に、ワークステージ５には、ワークステージ駆動機構８が取り付けられており、ワークステージ駆動機構８はワークステージ５をＸ方向（例えば、紙面の左右方向）、Ｙ方向（例えば、紙面に対して垂直方向）、Ｚ方向（例えば、紙面の上下方向）に移動させるとともに、ワークステージ５をワーク面に垂直な軸を中心として回転（この回転をθ方向移動という）させる機能を有する。なお、マスク２とワーク４には、両者の位置を合わせるために、それぞれにアライメントマーク２１、４１が形成されている。 Furthermore, a work stage drive mechanism 8 is attached to the work stage 5, and the work stage drive mechanism 8 moves the work stage 5 in the X direction (for example, the left-right direction on the paper surface) and the Y direction (for example, perpendicular to the paper surface). Direction) and Z direction (for example, the vertical direction of the paper surface), and also has a function of rotating the work stage 5 about an axis perpendicular to the work surface (this rotation is referred to as θ direction movement). Note that alignment marks 21 and 41 are respectively formed on the mask 2 and the work 4 in order to align the positions of both.
シール部材６は、マスクステージ３の下面と接触する先端部分の環状方向の高さを揃えるために、環状の第１の樹脂部分６１の上部に、環状の薄い金属の板状部材（ステンレスリング）６３が取り付けられ、環状の板状部材６３の上面には、先端部である環状で突起状の第２の樹脂部分６２が形成されている。また、第１の樹脂部分６１が、環状の板状部材６３の重みで変形しないように、板状部材６３の複数箇所に、例えば、板ばね等からなるばね部材６４が取り付けられている。ばね部材６４の板状部材６３に取り付けられる側とは反対側は、ワークステージ５に固定される。これにより、板状部材６３は、ばね部材６４の弾性により、マスクステージ３の方向に付勢される。環状の板状部材６３の上に形成した環状の第２の樹脂部分６２の先端部が、マスクステージ３の下面と接する部分である。環状の板状部材６３の上にマスクステージ３と接する第２の樹脂製部分６２が形成されているので、環状の板状部材６３がシール部材６の先端の高さを揃える働きをし、マスクステージ３と接するシール部材６の先端の環状方向の一部が垂れ、リークが生じるというようなことがなくなる。 The seal member 6 has an annular thin metal plate-like member (stainless steel ring) on the upper portion of the annular first resin portion 61 in order to align the height in the annular direction of the tip portion contacting the lower surface of the mask stage 3. 63 is attached, and on the upper surface of the annular plate-like member 63, an annular and projecting second resin portion 62 which is a tip portion is formed. In addition, spring members 64 made of, for example, leaf springs are attached to a plurality of locations of the plate-like member 63 so that the first resin portion 61 is not deformed by the weight of the annular plate-like member 63. The side of the spring member 64 opposite to the side attached to the plate-like member 63 is fixed to the work stage 5. Thereby, the plate-like member 63 is urged toward the mask stage 3 by the elasticity of the spring member 64. The tip of the annular second resin portion 62 formed on the annular plate member 63 is a portion in contact with the lower surface of the mask stage 3. Since the second resin portion 62 in contact with the mask stage 3 is formed on the annular plate member 63, the annular plate member 63 functions to align the height of the tip of the seal member 6, and the mask. A portion in the annular direction at the tip of the seal member 6 in contact with the stage 3 hangs down and no leak occurs.
更に、ワークステージ５には、シール部材移動機構９が設けられている。シール部材移動機構９は、具体的には吸着パッドで構成されており、シール部材６の周囲に３ないし４個所取り付けられる。図５は、シール部材移動機構（吸着パッド）９の斜視図である。シール部材移動機構（吸着パッド）９、主に、支柱９１と樹脂製の蛇腹部９２から構成され、蛇腹部９２の上部に吸着部９３が設けられる。支柱９１には真空が供給される真空経路９４が形成され、この真空経路９４に真空が供給されると、蛇腹部９２にも真空が供給される。蛇腹部９２に真空が供給された状態で吸着部９３に被吸着物である環状の板状部材６３が吸着されると、蛇腹部９２内部が減圧されて蛇腹部９２は下方に縮む。支柱９１がワークステージ３に固定されているので、蛇腹部９２が縮むことにより吸着部９３に吸着された環状の板状部材６３は下方に移動する。 Further, the work stage 5 is provided with a seal member moving mechanism 9. Specifically, the seal member moving mechanism 9 is constituted by a suction pad, and is attached at three or four locations around the seal member 6. FIG. 5 is a perspective view of the seal member moving mechanism (suction pad) 9. The seal member moving mechanism (suction pad) 9 is mainly composed of a support column 91 and a resin bellows portion 92, and a suction portion 93 is provided above the bellows portion 92. A vacuum path 94 for supplying a vacuum is formed in the support column 91, and when a vacuum is supplied to the vacuum path 94, a vacuum is also supplied to the bellows portion 92. When the annular plate-like member 63 that is an object to be adsorbed is adsorbed to the adsorbing portion 93 in a state where a vacuum is supplied to the bellows portion 92, the inside of the bellows portion 92 is decompressed and the bellows portion 92 contracts downward. Since the support column 91 is fixed to the work stage 3, the annular plate-like member 63 adsorbed by the adsorbing part 93 moves downward when the bellows part 92 contracts.
図２ないし図４は、図１に示したコンタクト露光装置の露光過程を示す図である。なお、図２ないし図４には、図１に示した光照射部１やワークステージ駆動機構８は省略されている。
図１ないし４を用いて、本発明のコンタクト露光装置の露光過程について説明する。
図１において、不図示の搬送機構により、ワーク４がワークステージ５上に置かれ保持される。なお、ワーク４の表面には露光光により反応する不図示のレジストが塗布されている。シール部材移動機構（吸着パッド）９は、シール部材６の周囲に３ないし４箇所設けられた吸着部９３がシール部材６の第１の樹脂部分６１の上部に取り付けられた環状の板状部材６３の底面と対向するように設ける。シール部材移動機構（吸着パッド）９の支柱９１はワークステージ５に固定されている。シール部材移動機構（吸着パッド）９には、マスクステージ３とワークステージ５の間を真空にする真空配管７とは別に、真空配管１０が接続され、任意のタイミングでシール部材移動機構（吸着パッド）９に真空を供給する。なお、シール部材移動機構（吸着パッド）９には真空は供給されていない状態を示しているが、真空を供給していても良い。
2 to 4 are views showing an exposure process of the contact exposure apparatus shown in FIG. 2 to 4, the light irradiation unit 1 and the work stage driving mechanism 8 shown in FIG. 1 are omitted.
The exposure process of the contact exposure apparatus of the present invention will be described with reference to FIGS.
In FIG. 1, a work 4 is placed and held on a work stage 5 by a transport mechanism (not shown). The surface of the work 4 is coated with a resist (not shown) that reacts with exposure light. The seal member moving mechanism (suction pad) 9 includes an annular plate member 63 in which suction portions 93 provided at three or four locations around the seal member 6 are attached to the upper portion of the first resin portion 61 of the seal member 6. It is provided so as to face the bottom surface of. The support column 91 of the seal member moving mechanism (suction pad) 9 is fixed to the work stage 5. A vacuum pipe 10 is connected to the seal member moving mechanism (suction pad) 9 in addition to the vacuum pipe 7 for evacuating the space between the mask stage 3 and the work stage 5, and the seal member moving mechanism (suction pad) at any timing. ) Supply vacuum to 9. Although the vacuum is not supplied to the seal member moving mechanism (suction pad) 9, a vacuum may be supplied.
図２において、不図示のワークステージ駆動機構８により、ワークステージ５を、アライメント・ギャップ（位置合せ間隙、例えば１００μｍ）になるまで上昇（Ｚ方向移動）する。それとともに、真空配管１０よりシール部材移動機構（吸着パッド）９に真空を供給する。シール部材移動機構（吸着パッド）９の吸着部９３は、対向するシール部材６の環状の板状部材６３の底面を吸着し蛇腹部９２が縮む。蛇腹部９２が縮むことにより、環状の板状部材６３には、シール部材６の環状の板状部材６３より下の第１の樹脂部分６１が変形し、その結果、シール部材６の第２の樹脂部分６２の先端部は環状方向について全体が下降する（マスクステージ３から離れる方向に退避移動する）。次に、光照射部１とマスク２との間にアライメント顕微鏡１１を挿入し、マスク・アライメントマーク２１とワーク・アライメントマーク４１を検出する。両者のアライメントマーク２１、４１が一致するように（又は所定の位置関係になるように）、ワークステージ駆動機構８によりワークステージ５をＸＹθ方向に移動させ、マスク２とワーク４の位置合わせ（アライメント）を行う。 In FIG. 2, the work stage drive mechanism 8 (not shown) raises the work stage 5 until it reaches an alignment gap (positioning gap, for example, 100 μm) (moves in the Z direction). At the same time, vacuum is supplied from the vacuum pipe 10 to the seal member moving mechanism (suction pad) 9. The suction portion 93 of the seal member moving mechanism (suction pad) 9 sucks the bottom surface of the annular plate-like member 63 of the opposing seal member 6 and the bellows portion 92 contracts. By contracting the bellows portion 92, the first resin portion 61 below the annular plate-like member 63 of the seal member 6 is deformed in the annular plate-like member 63. As a result, the second resin member 61 of the seal member 6 is deformed. The entire tip of the resin portion 62 descends in the annular direction (retreats away from the mask stage 3). Next, the alignment microscope 11 is inserted between the light irradiation unit 1 and the mask 2 to detect the mask alignment mark 21 and the work alignment mark 41. The work stage 5 is moved in the XYθ direction by the work stage drive mechanism 8 so that the alignment marks 21 and 41 of the two coincide (or have a predetermined positional relationship), and the mask 2 and the work 4 are aligned (alignment). )I do.
シール部材６の第２の樹脂部分６２の先端部は、環状方向について全体がシール部材移動機構（吸着パッド）９により下降退避しているので、マスクステージ３の下面に接触することがなく、ワークステージ５をスムーズに移動させることができる。したがって、マスク２とワーク４の位置合せを短時間で行うことができる。また、シール部材６の弾性によりワークステージ５が移動後引き戻されるようなこともないので、位置合せ精度が低下することもない。 Since the tip of the second resin portion 62 of the seal member 6 is entirely retracted and retracted by the seal member moving mechanism (suction pad) 9 in the annular direction, it does not come into contact with the lower surface of the mask stage 3 and the workpiece The stage 5 can be moved smoothly. Therefore, the mask 2 and the workpiece 4 can be aligned in a short time. Further, since the work stage 5 is not pulled back after moving due to the elasticity of the seal member 6, the alignment accuracy is not lowered.
なお、本実施形態において、マスク２とワーク４の位置合せは、ワークステージ５を移動させて行う例を示したが、マスクステージ３を移動させて行っても良いし、又、ワークステージ５とマスクステージ３の両方を移動させて行っても良い。このように、マスクステージ３又はマスクステージ３とワークステージ５の両方を移動させる場合であっても、シール部材６の先端が、マスクステージ３の下面に接触しないので、マスク２とワーク４の位置合せをスムーズに行うことができ、位置合せに時間がかかったり位置合せ精度が悪くなったりすることがない。 In this embodiment, the mask 2 and the work 4 are aligned by moving the work stage 5. However, the mask stage 3 may be moved or the work stage 5 may be moved. You may carry out by moving both of the mask stages 3. As described above, even when the mask stage 3 or both the mask stage 3 and the work stage 5 are moved, the tip of the seal member 6 does not contact the lower surface of the mask stage 3. Alignment can be performed smoothly, and alignment does not take time and alignment accuracy does not deteriorate.
図３において、アライメント終了後、ワークステージ５を上昇させ、マスク２とワーク４を接触させる。それとともに、シール部材移動機構（吸着パッド）９に供給していた真空を止める。シール部材移動機構（吸着パッド）９の吸着部９３による、シール部材６の環状の板状部材６３の吸着が解除され、板状部材６３に加わっていた下側に移動させる力がなくなる。シール部材６は板ばね６４の弾性により元の高さに戻り、マスクステージ３に付勢され、シール部材６の第２の樹脂部分６２の先端部は、環状方向について全体が対向するマスクステージ３の方向に移動し、マスクステージ３の下面に隙間なく接触し、マスク２、マスクステージ３、ワーク４、ワークステージ５、シール部材６によりシール空間が形成される。シール部材移動機構（吸着パッド）９の蛇腹部９２も元に戻る。マスクステージ３に設けられた真空配管７に真空を供給し上記シール空間を減圧する。シール空間が減圧されると、マスク２はワーク４に押し付けられ、マスク２とワーク４は全面に渡って密着する。不図示の光照射部１から露光光を、マスク２を介してワーク４に照射する。よって、不図示のマスクパターン２２がワーク４上に転写される。 In FIG. 3, after completing the alignment, the work stage 5 is raised and the mask 2 and the work 4 are brought into contact with each other. At the same time, the vacuum supplied to the seal member moving mechanism (suction pad) 9 is stopped. The adsorption of the annular plate-like member 63 of the seal member 6 by the adsorption portion 93 of the seal member moving mechanism (adsorption pad) 9 is released, and the force to move downward on the plate-like member 63 is lost. The seal member 6 returns to its original height due to the elasticity of the leaf spring 64 and is urged by the mask stage 3, and the tip of the second resin portion 62 of the seal member 6 is entirely opposed to the mask stage 3 in the annular direction. The mask 2, the mask stage 3, the work 4, the work stage 5, and the seal member 6 form a seal space. The bellows portion 92 of the seal member moving mechanism (suction pad) 9 also returns. A vacuum is supplied to the vacuum pipe 7 provided on the mask stage 3 to depressurize the seal space. When the seal space is depressurized, the mask 2 is pressed against the workpiece 4 and the mask 2 and the workpiece 4 are in close contact with each other. The work 4 is irradiated with exposure light from a light irradiation unit 1 (not shown) through a mask 2. Therefore, a mask pattern 22 (not shown) is transferred onto the work 4.
図４において、不図示のワークステージ駆動機構８が動作し、ワークステージ５が下降する。次いで、不図示の搬送機構により、ワーク４がワークステージ５からコンタクト露光装置外に搬出される。なお、本実施形態においては、シール部材６をワークステージ５側に取り付けて構成したが、マスクステージ３側に取り付けてもよい。 In FIG. 4, the work stage drive mechanism 8 (not shown) operates and the work stage 5 is lowered. Next, the work 4 is carried out of the contact exposure apparatus from the work stage 5 by a transport mechanism (not shown). In this embodiment, the seal member 6 is attached to the work stage 5 side, but may be attached to the mask stage 3 side.
本発明の第２の実施形態を図６及び図７を用いて説明する。
図６及び図７は、本実施形態の発明に係るコンタクト露光装置の露光過程を示す断面図である。なお、これらの図においては、図１に示した光照射部１やワークステージ駆動機構８は省略されている。
同図に示すように、シール部材６とシール部材移動機構（吸着パッド）９が、マスクステージ３側に取り付けられている。
A second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
6 and 7 are sectional views showing the exposure process of the contact exposure apparatus according to the invention of this embodiment. In these drawings, the light irradiation unit 1 and the work stage drive mechanism 8 shown in FIG. 1 are omitted.
As shown in the figure, a seal member 6 and a seal member moving mechanism (suction pad) 9 are attached to the mask stage 3 side.
図６は、マスク２とワーク４の位置合せを行っている状態を示す図であり、シール部材移動機構（吸着パッド）９に真空が供給され、シール部材移動機構（吸着パッド）９の吸着部９３はシール部材６の環状の板状部材６３の底面を吸着し蛇腹部９２が縮む。板ばね６４が縮むとともに、第１の樹脂部分６１が変形し、その結果、シール部材６の第２の樹脂部分６２の先端部は、環状方向について全体がワークステージ５から離れる方向に退避移動する。アライメント顕微鏡１１が挿入され、マスク・アライメントマーク２１とワーク・アライメントマーク４１を検出する。両者のアライメントマーク２１、４１が一致するように（又は所定の位置関係になるように）、ワークステージ５又はマスクステージ３を移動し、マスク２とワーク４の位置合わせ（アライメント）を行う。 FIG. 6 is a view showing a state in which the mask 2 and the workpiece 4 are aligned, and a vacuum is supplied to the seal member moving mechanism (suction pad) 9, and the suction part of the seal member moving mechanism (suction pad) 9. 93 adsorbs the bottom surface of the annular plate-like member 63 of the seal member 6 and the bellows portion 92 contracts. As the leaf spring 64 contracts, the first resin portion 61 deforms, and as a result, the tip of the second resin portion 62 of the seal member 6 retreats in the direction away from the work stage 5 in the annular direction. . The alignment microscope 11 is inserted, and the mask alignment mark 21 and the work alignment mark 41 are detected. The work stage 5 or the mask stage 3 is moved so that the alignment marks 21 and 41 of the two coincide (or have a predetermined positional relationship), and the mask 2 and the work 4 are aligned (aligned).
図７は、ワークの露光を行っている状態を示す図である。ワークステージ５が上昇し、マスク２とワーク４が接触する。それとともに、シール部材移動機構（吸着パッド）９に供給していた真空を止める。シール部材６は板ばね６４の弾性により元の高さに戻り、シール部材６の第２の樹脂部分６２の先端部は、環状方向について全体が対向するワークステージ５の方向に移動してワークステージ５の上面に隙間なく接触し、マスク２、マスクステージ３、ワーク４、ワークステージ５、シール部材６によりシール空間が形成される。マスクステージ３に設けられた真空配管７に真空を供給し上記シール空間を減圧する。マスク２とワーク４は全面に渡って密着し、不図示の光照射部１から露光光を、マスク２を介してワーク４に照射する。よって、不図示のマスクパターン２２がワーク４上に転写される。なお、本実施形態においては、シール部材移動機構９として図５に示すような吸着パッドを用いたが、シール部材移動機構９は、他の構成を採用してもよい。 FIG. 7 is a diagram illustrating a state in which the workpiece is being exposed. The work stage 5 rises and the mask 2 and the work 4 come into contact with each other. At the same time, the vacuum supplied to the seal member moving mechanism (suction pad) 9 is stopped. The sealing member 6 returns to its original height due to the elasticity of the leaf spring 64, and the tip of the second resin portion 62 of the sealing member 6 moves in the direction of the work stage 5 facing the whole in the annular direction. The mask 2, the mask stage 3, the work 4, the work stage 5, and the seal member 6 form a seal space. A vacuum is supplied to the vacuum pipe 7 provided on the mask stage 3 to depressurize the seal space. The mask 2 and the work 4 are in close contact with each other, and the work 4 is irradiated with exposure light from the light irradiation unit 1 (not shown) through the mask 2. Therefore, a mask pattern 22 (not shown) is transferred onto the work 4. In the present embodiment, the suction pad as shown in FIG. 5 is used as the seal member moving mechanism 9, but the seal member moving mechanism 9 may adopt another configuration.
本発明の第３の実施形態を図８を用いて説明する。
図８は、本実施形態の発明に係るコンタクト露光装置の構成を示す断面図である。なお、同図においては、図１に示した光照射部１やワークステージ駆動機構８は省略されている。
同図に示すように、このコンタクト露光装置は、雌ねじ１２１と雌ねじ１２１を回転させるモータ１２３とから構成されたシール部材移動機構１２を備える。モータ１２３は、同図上下方向に直立した雄ねじ１２２を、回転軸を中心にして回転させる。雄ねじ１２２は、シール部材６の環状の板状部材６３を貫通している。雄ねじ１２２が貫通する環状の板状部材６３の上下には、雌ねじ１２１が取り付けられており、雄ねじ１２２は、雌ねじ１２１と噛み合っている。雄ねじ１２１がモータ１２３により回転すると、シール部材６の環状の板状部材６３は上下し、これによりシール部材６の第２の樹脂部分６２の先端部も環状方向について全体が上下する。マスク２とワーク４の位置合せ時には、モータ１２３は、雄ねじ１２２を、環状の板状部材６３を下降する方向に回転させる。また、露光時は、モータ１２３は、雄ねじ１２２を、環状の板状部材６３が上昇する方向に回転させる。その結果、シール部材６の第２の樹脂部分６２の先端部は、対向するマスクステージ３の方向に移動してマスクステージ３の上面に接触し、マスク２、マスクステージ３、ワーク４、ワークステージ５、シール部材６によりシール空間が形成される。
A third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
FIG. 8 is a cross-sectional view showing the configuration of the contact exposure apparatus according to the invention of this embodiment. In the figure, the light irradiation unit 1 and the work stage drive mechanism 8 shown in FIG. 1 are omitted.
As shown in the figure, the contact exposure apparatus includes a seal member moving mechanism 12 including a female screw 121 and a motor 123 that rotates the female screw 121. The motor 123 rotates a male screw 122 upright in the vertical direction of the drawing around the rotation axis. The male screw 122 passes through the annular plate member 63 of the seal member 6. A female screw 121 is attached to the upper and lower sides of the annular plate-like member 63 through which the male screw 122 passes. The male screw 122 meshes with the female screw 121. When the male screw 121 is rotated by the motor 123, the annular plate-like member 63 of the seal member 6 is moved up and down, so that the tip of the second resin portion 62 of the seal member 6 is also moved up and down in the annular direction. When aligning the mask 2 and the workpiece 4, the motor 123 rotates the male screw 122 in a direction in which the annular plate member 63 is lowered. Further, at the time of exposure, the motor 123 rotates the male screw 122 in the direction in which the annular plate member 63 rises. As a result, the tip of the second resin portion 62 of the seal member 6 moves in the direction of the opposing mask stage 3 and comes into contact with the upper surface of the mask stage 3, so that the mask 2, mask stage 3, work 4, and work stage 5. A seal space is formed by the seal member 6.
本発明の第４の実施形態を図９を用いて説明する。
図９（ａ）は、本実施形態の発明に係るコンタクト露光装置に用いられるシール部材６の構成を示す断面図である。
図９（ａ）に示すように、シール部材６は、環状の金属製のベローズ状の部材（ベローズ部材）６５で構成され、上部にはマスクステージ３と接する先端部である樹脂６６が環状に取り付けられている。ベローズ部材６５は円環状であるが、図９（ａ）においては、ベローズ部材６５を半分に切った状態を示しており、同図に示すように、内部は中空である。不図示のワークステージ５に取り付けられて、中空の内部に、空気又は真空を供給できるように構成されている。
A fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
FIG. 9A is a cross-sectional view showing the configuration of the seal member 6 used in the contact exposure apparatus according to the invention of this embodiment.
As shown in FIG. 9A, the seal member 6 is composed of an annular metal bellows-like member (bellows member) 65, and a resin 66, which is a tip portion in contact with the mask stage 3, is annularly formed on the upper portion. It is attached. Although the bellows member 65 has an annular shape, FIG. 9A shows a state in which the bellows member 65 is cut in half, and the inside is hollow as shown in FIG. It is attached to a work stage 5 (not shown) so that air or vacuum can be supplied into the hollow interior.
図９（ｂ）に示すように、位置合せ時には、ベローズ部材６５の内部を真空にすると、蛇腹が縮み、先端部の樹脂６６が環状方向について全体にワークステージ５の方向に下降退避する。又、図９（ｃ）に示すように、露光時は、ベローズ部材６５の内部に空気を送り込むと、ベローズ部材６５の蛇腹が伸びて、先端部の樹脂６６がマスクステージ３の方向に移動し、マスクステージ３の下面に接触する。その結果、シール部材６の先端部の樹脂６６は、環状方向について全体に対向するマスクステージ３の上面に接触し、マスク２、マスクステージ３、ワーク４、ワークステージ５、シール部材６によりシール空間が形成される。 As shown in FIG. 9B, at the time of alignment, if the inside of the bellows member 65 is evacuated, the bellows is contracted, and the resin 66 at the tip portion is lowered and retracted in the direction of the work stage 5 as a whole in the annular direction. Further, as shown in FIG. 9C, at the time of exposure, when air is sent into the bellows member 65, the bellows of the bellows member 65 extends, and the resin 66 at the tip moves toward the mask stage 3. Then, it contacts the lower surface of the mask stage 3. As a result, the resin 66 at the tip of the seal member 6 comes into contact with the upper surface of the mask stage 3 facing the whole in the annular direction, and is sealed by the mask 2, mask stage 3, work 4, work stage 5, and seal member 6. Is formed.
本発明の第４の実施形態を図１０を用いて説明する。
図１０（ａ）は、本実施形態の発明に係るコンタクト露光装置に用いられるシール部材６の構成を示す断面図である。
図１０（ａ）に示すように、シール部材６は、樹脂製の環状のダイヤフラム状の部材（ダイヤフラム部材）６７で構成されている。このダイヤフラム部材６７は円環状であるが、図１０（ａ）においては、ダイヤフラム部材６７を半分に切った状態を示しており、同図に示すように、ダイヤフラム６７の内部は中空であり、不図示のワークステージ５に取り付けられて、中空の内部に、空気又は真空を供給できるように構成されている。
A fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
FIG. 10A is a cross-sectional view showing the configuration of the seal member 6 used in the contact exposure apparatus according to the invention of this embodiment.
As shown in FIG. 10A, the seal member 6 is composed of an annular diaphragm-shaped member (diaphragm member) 67 made of resin. Although this diaphragm member 67 is annular, FIG. 10A shows a state in which the diaphragm member 67 is cut in half. As shown in FIG. It is attached to the illustrated work stage 5 so that air or vacuum can be supplied into the hollow interior.
図１０（ｂ）に示すように、位置合せ時には、ダイヤフラム部材６７の内部を真空にすると、ダイヤフラム部材６７がしぼみ、ダイヤフラム部材６７の上部（先端部）６７１がワークステージ５の方向に下降退避する。又、図１０（ｃ）に示すように、露光時は、ダイヤフラム部材６７の内部に空気を送り込むと、ダイヤフラム部材６７が膨れて、ダイヤフラム部材６７の上部（先端部）６７１がマスクステージ３の方向に移動し、ダイヤフラム部材６７の上部（先端部）６７１は、環状方向について全体がマスクステージ３の下面に接触し、マスク２、マスクステージ３、ワーク４、ワークステージ５、シール部材６によりシール空間が形成される。 As shown in FIG. 10B, at the time of alignment, when the inside of the diaphragm member 67 is evacuated, the diaphragm member 67 is deflated, and the upper portion (tip portion) 671 of the diaphragm member 67 is lowered and retracted toward the work stage 5. . Also, as shown in FIG. 10C, during exposure, when air is sent into the diaphragm member 67, the diaphragm member 67 expands, and the upper part (tip portion) 671 of the diaphragm member 67 is directed to the mask stage 3. The entire upper portion (tip portion) 671 of the diaphragm member 67 is in contact with the lower surface of the mask stage 3 in the annular direction, and is sealed by the mask 2, the mask stage 3, the work 4, the work stage 5, and the seal member 6. Is formed.
なお、図８、図９、図１０において示した、シール部材６は、いずれもワークステージ５側に取り付ける例を示したが、上述のごとく、マスクステージ３側に取り付けてもよい。 8, 9, and 10, the seal member 6 is attached to the work stage 5 side. However, as described above, the seal member 6 may be attached to the mask stage 3 side.
１ 光照射部
１１ ランプ
１２ ミラー
２ マスク
２１ アライメントマーク
２２ パターン
３ マスクステージ
４ ワーク
４１ アライメントマーク
５ ワークステージ
６ シール部材
６１ 第１の樹脂部分
６２ 第２の樹脂部分
６３ 板状部材
６４ ばね部材
６５ ベローズ部材
６６ 樹脂
６７ ダイヤフラム部材
６７１ 上部（先端部）
７ 真空配管
８ ワークステージ駆動機構
９ シール部材移動機構
９１ 支柱
９２ 蛇腹部
９３ 吸着部
９４ 真空経路
１０ 真空配管
１１ アライメント顕微鏡
１２ シール部材移動機構
１２１ 雌ねじ
１２２ 雄ねじ
１２３ モータ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Light irradiation part 11 Lamp 12 Mirror 2 Mask 21 Alignment mark 22 Pattern 3 Mask stage 4 Work piece 41 Alignment mark 5 Work stage 6 Seal member 61 1st resin part 62 2nd resin part 63 Plate-like member 64 Spring member 65 Bellows Member 66 Resin 67 Diaphragm member 671 Upper part (tip part)
7 Vacuum piping 8 Work stage drive mechanism 9 Seal member moving mechanism 91 Strut 92 Bellows portion 93 Suction portion 94 Vacuum path 10 Vacuum piping 11 Alignment microscope 12 Seal member moving mechanism 121 Female screw 122 Male screw 123 Motor
Claims (8)
前記マスクと前記ワークの位置合わせを行う時は、前記コンタクト露光装置用シール部材の先端部は、前記コンタクト露光装置用シール部材が取り付けられている前記ワークステージ側に退避し、露光光が前記マスクを介して前記ワークに照射される時は、前記コンタクト露光装置用シール部材の先端部は、対向する前記マスクステージの方向に移動して、前記マスクステージと接触し、前記マスクと前記マスクステージと前記ワークと前記ワークステージと前記コンタクト露光装置用シール部材により形成される空間が減圧されるようにしたことを特徴とするコンタクト露光方法。When aligning the mask and the workpiece, the tip of the contact exposure apparatus seal member is retracted to the work stage side to which the contact exposure apparatus seal member is attached, and exposure light is transferred to the mask. When the workpiece is irradiated through the contact exposure apparatus, the tip of the seal member for contact exposure apparatus moves in the direction of the mask stage facing the mask stage, and contacts the mask stage. A contact exposure method, wherein a space formed by the work, the work stage, and the contact exposure device sealing member is decompressed.
前記マスクと前記ワークの位置合わせを行う時は、前記コンタクト露光装置用シール部材の先端部は、前記コンタクト露光装置用シール部材が取り付けられている前記マスクステージ側に退避し、露光光が前記マスクを介して前記ワークに照射される時は、前記コンタクト露光装置用シール部材の先端部は、対向する前記ワークステージの方向に移動して、前記ワークステージと接触し、前記マスクと前記マスクステージと前記ワークと前記ワークステージと前記コンタクト露光装置用シール部材により形成される空間が減圧されるようにしたことを特徴とするコンタクト露光方法。When aligning the mask and the workpiece, the tip of the contact exposure apparatus seal member is retracted to the mask stage side to which the contact exposure apparatus seal member is attached, and exposure light is transferred to the mask. When the work is irradiated via the contact exposure apparatus, the tip of the seal member for the contact exposure apparatus moves in the direction of the work stage facing to contact the work stage, and the mask, the mask stage, A contact exposure method, wherein a space formed by the work, the work stage, and the contact exposure device sealing member is decompressed.
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009010531A JP5495094B2 (en) | 2009-01-21 | 2009-01-21 | Contact exposure apparatus and contact exposure method |
| TW098138430A TW201028796A (en) | 2009-01-21 | 2009-11-12 | Contact exposure apparatus and contact exposure method |
| KR1020100000833A KR20100085838A (en) | 2009-01-21 | 2010-01-06 | Contact exposure apparatus and contact exposure method |
| CN201010004497A CN101782724A (en) | 2009-01-21 | 2010-01-21 | Contact exposure apparatus and contact exposure method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009010531A JP5495094B2 (en) | 2009-01-21 | 2009-01-21 | Contact exposure apparatus and contact exposure method |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2010171094A JP2010171094A (en) | 2010-08-05 |
| JP5495094B2 true JP5495094B2 (en) | 2014-05-21 |
Family
ID=42522772
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2009010531A Expired - Fee Related JP5495094B2 (en) | 2009-01-21 | 2009-01-21 | Contact exposure apparatus and contact exposure method |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5495094B2 (en) |
| KR (1) | KR20100085838A (en) |
| CN (1) | CN101782724A (en) |
| TW (1) | TW201028796A (en) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI448842B (en) * | 2012-09-20 | 2014-08-11 | Univ Nat Cheng Kung | Pattern-transferring substrate apparatus and pattern-transferring substrate thereof |
| CN103616803B (en) * | 2013-11-25 | 2015-09-09 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | Grating scale vacuum reproduction exposure equipment |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62230537A (en) * | 1986-03-31 | 1987-10-09 | Canon Inc | 2-plate separator |
| JPH01139237U (en) * | 1988-03-15 | 1989-09-22 | ||
| JPH02103919A (en) * | 1988-10-13 | 1990-04-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Aligner |
| JP2000081707A (en) * | 1998-09-03 | 2000-03-21 | Adtec Engineeng Co Ltd | Aligner |
| KR20020071841A (en) * | 1999-09-01 | 2002-09-13 | 산에이 기껜 가부시키가이샤 | Substrate supporting table of exposure system |
-
2009
- 2009-01-21 JP JP2009010531A patent/JP5495094B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2009-11-12 TW TW098138430A patent/TW201028796A/en unknown
-
2010
- 2010-01-06 KR KR1020100000833A patent/KR20100085838A/en not_active Application Discontinuation
- 2010-01-21 CN CN201010004497A patent/CN101782724A/en active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW201028796A (en) | 2010-08-01 |
| KR20100085838A (en) | 2010-07-29 |
| CN101782724A (en) | 2010-07-21 |
| JP2010171094A (en) | 2010-08-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2016085439A (en) | Exposure method and exposure device | |
| TWI743614B (en) | Substrate processing device and substrate processing method | |
| JP2001125275A (en) | Contact exposure device having means for setting spacing between mask and work | |
| KR20170114933A (en) | Processing apparatus, and method of manufacturing article | |
| JP5186123B2 (en) | Transfer apparatus and transfer method | |
| JP4857239B2 (en) | Wafer holding device | |
| JP5305012B2 (en) | Work stage and exposure apparatus equipped with the work stage | |
| JP5495094B2 (en) | Contact exposure apparatus and contact exposure method | |
| WO2013035854A1 (en) | Contact exposure device and contact exposure method | |
| JP2020120137A (en) | Substrate processing device | |
| JP4608638B2 (en) | Pellicle mounting apparatus, pellicle mounting method, and pattern substrate manufacturing method | |
| JP2007036101A (en) | Work stage of exposure machine and exposure method | |
| JP2015065298A (en) | Suction stage, bonding device and bonding method | |
| JP2008111969A (en) | Exposure apparatus | |
| JP4616812B2 (en) | Positioning device, stage and inspection or processing device | |
| JP2015018007A (en) | Film mask correction device | |
| JP2015070014A (en) | Substrate holding method and device, and exposure method and device | |
| JP2018026415A (en) | Bonding device and bonding system | |
| JP2010140921A (en) | Device and method for mounting ball, and apparatus for manufacturing electronic component | |
| JP2008276040A (en) | Mask stage | |
| JP2008251944A (en) | Exposure apparatus | |
| WO2018235459A1 (en) | Substrate processing apparatus and substrate processing method | |
| JP6844804B1 (en) | Exposure device and exposure method | |
| JP2006350192A (en) | Alignment device of exposure machine and alignment method of exposure machine | |
| KR101367852B1 (en) | apparatus and method for making etching area on substrate |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110922 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20121031 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121106 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121130 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130612 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130709 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140207 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140220 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5495094 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |