JP5483154B2 - タンタル容器の浸炭処理方法及びタンタル容器 - Google Patents
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Description
図1に示すチャンバー3を用いて、タンタル容器1を浸炭処理した。タンタル容器1としては、図3に示す外径dが約160mm、高さhが約60mm、厚みtが約3mmのものを用いた。タンタル容器1は、金属タンタルを板金加工することにより作製した。
図8は、本比較例における浸炭処理を説明するための断面図である。
1a…タンタル容器の底面部
1b…タンタル容器の側壁部
1c…タンタル容器の側壁部の端部
1d…タンタル容器の開口部
2…蓋
2a…蓋の上面部
2b…蓋の側壁部
3…チャンバー
3a…チャンバー容器
3b…チャンバー蓋
5…支持台
6…支持棒
7…黒鉛ブロック
8…SUS製の真空容器
9…断熱材
10…排気口
11…黒鉛電極
12…カーボンヒーター
13…断熱材によって覆われた空間
Claims (7)
- 底面部と、前記底面部から略垂直方向に延びる側壁部とを有し、前記側壁部の端部によって開口部が形成されているタンタルまたはタンタル合金からなるタンタル容器に、該容器の表面から内部に向って炭素を浸透させる浸炭処理を施すための方法であって、
炭素源が存在するチャンバー内に、前記タンタル容器の前記開口部が下方になるように、前記タンタル容器を配置する工程と、
前記チャンバー内を減圧し加熱することにより、前記炭素源からの炭素を前記タンタル容器の表面から浸透させて浸炭処理を施す工程とを備えることを特徴とするタンタル容器の浸炭処理方法。 - 前記タンタル容器の前記側壁部端部の下方に隙間が形成されるように、前記タンタル容器が前記チャンバー内に配置されていることを特徴とする請求項1に記載のタンタル容器の浸炭処理方法。
- 前記タンタル容器内側の前記底面部を支持することによって、前記タンタル容器が前記チャンバー内で支持されていることを特徴とする請求項1または2に記載のタンタル容器の浸炭処理方法。
- 前記チャンバー内に設けられた支持部材によって、前記タンタル容器内側の前記底面部が支持されていることを特徴とする請求項3に記載のタンタル容器の浸炭処理方法。
- 前記チャンバーが、前記炭素源として機能することを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のタンタル容器の浸炭処理方法。
- 前記支持部材が前記炭素源として機能することを特徴とする請求項4または5に記載のタンタル容器の浸炭処理方法。
- 請求項1〜6のいずれか1項に記載の方法により、浸炭処理がなされたことを特徴とするタンタル容器。
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