JP5476539B2 - モザイク荷電膜及びその製造方法 - Google Patents
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Description
株式会社島津製作所製レーザ回折式粒度分布測定装置「SALD−2200」を用いて測定した。得られた粒度分布について、常用対数スケール上での平均値を求め、平均粒子径とした。
拡散透析試験の前処理として、測定試料を0.1Nの塩酸に一晩浸漬し、その後、1×10−4MのKCl水溶液中に保存した。モザイク荷電膜中のカチオン基として1級アンモニウム基を用いているため、酸性条件下に置くことにより、1級アンモニウム基がアミノ基と水素イオンに解離するのを防止し、カチオン性重合体の正電荷を維持するためである。
(装置)
・ポンプ:日本分光株式会社製「PU−980 Intelligent HPLC PUMP」
・検出器:日本分光株式会社製「RI−2031 Plus Intelligent RI Detector」
・オートサンプラー:日本分光株式会社製「AS−2055 Plus Intelligent Sampler」
・カラムオーブン:日本分光株式会社製「860−CO Column Oven」
・カラム:和光純薬工業株式会社製「WAKO−Sil II 3C18AR」
(測定条件)
・溶離液:超純水
・液流速:0.4mL/min
・カラム温度:40℃
Ji=VI×ΔCI i/(S×Δt)×10―7
KCl及びスクロースの透過係数PKCl及びPSUCは、次式により算出した。
Pi=Ji×d/(CII i−CI i)×10―1
・Ji:成分iの流束[mol・cm−2・s−1]
・Pi:成分iの透過係数[cm2・s−1]
・VI:セルI内のイオン交換水量[mL]
・S:モザイク荷電膜の膜有効面積[m2]
・d:モザイク荷電膜の膜厚[μm]
・ΔCI i:セルI内の成分iの濃度[mol/L]
・CI i:セルI内の成分iの初期濃度[mol/L]
・CII i:セルII内の成分iの初期濃度[mol/L]
・Δt:透過時間[s]
α=PKCl/PSUC
JIS規格のポンチを用いて、モザイク荷電膜を幅2mm、長さ3cmのダンベル状に切り抜いて測定試料を作製した。株式会社島津製作所製小型卓上試験機「EZ−Test500N」を用いて測定した。評点間距離を2cmとし、25℃の温度下で測定を行った。最大破断応力は下式により算出した。
最大破断応力[MPa]
=破断点の応力[MPa]×初期断面積[m2]/破断断面積[m2]
熱処理後のモザイク荷電膜について測定試料を作製し、乾燥質量を測定した。該測定試料にグルタルアルデヒドによる架橋処理を行った後、脱イオン水に浸漬して膨潤平衡に達してから、該測定試料の湿潤質量を測定した。膜含水率(H)は下式により算出した。
H=[(Ww−Dw)/1.0]/[(Ww−Dw)/1.0+(Dw/1.3)]
ここで1.0と1.3はそれぞれ水とポリマーの比重を示している。
・H:膜含水率[−]
・Dw:膜の乾燥質量[g]
・Ww:膜の湿潤質量[g]
株式会社TECLOCK製ダイヤルシックネスゲージ「SM−114」を用いて測定した。
蒸留水に浸漬したモザイク荷電膜を一辺1cmの正方形に切り出して測定試料を作製した。この測定試料を、株式会社ニコン製光学顕微鏡「OPTIPHOT−2」を用いて観察し、測定試料中の粒子群についての拡大画像を得た。得られた画像について、三谷商事株式会社製画像処理ソフト「WINROOF」を用いて画像処理を行い、各々の粒子の最大粒子径を求めた。最大粒子径が5μm未満の粒子は考慮に入れず、約400個の粒子について最大粒子径を求めた。最大粒子径の累積頻度が50%である粒子径を求め、モザイク荷電膜中の粒子の平均粒子径とした。
結晶化度の測定は、以下に記載の測定装置及び測定方法を用いて行った。
〈測定装置及び測定条件〉
測定装置:ブルカーエイエックスエス社・「D8 Discover with GADDS」
X線源:CuKα線 λ=0.15418nm
検出器:HiSTAR (二次元PSPC)
サンプルセット方法:モザイク荷電膜の粒子部分をターゲットとし、コリメーター径を0.03mmに設定し、X線の入射角が11°になるようゴニオメーターω角を11°にセットした。
検出器位置:2θ=22°
管電圧:45kV
電流:110mA
カメラ距離:15cm
露光時間:300sec
上記装置及び条件によって得られた2次元像を、以下の方法を用いてX線回折強度曲線に変換した。
データ変換ソフトウェア:ブルカーエイエックスエス社製「Bruker Analytical X−ray Systems GADDS for WNT 4.1.23」
2θ範囲:5〜35°
χ範囲:−150〜−30°
ステップ幅:0.02°
強度規格化法:「Bin normalized」
(i)2θ=5°の回折強度と2θ=35°の回折強度を直線で結び、ベースラインとした。
(ii)非晶ピークとして、2θ=18°を中心に、非対称のピークを設定した。形定数=0.35、非対称=−0.6、半価幅=9と入力し、2θ=15〜17°と30〜35°付近で実測カーブに接するように高さ調節を行った。
(iii)結晶ピークとして、2θ=11.5°、16°、20°、23°、28°、32°の位置に左右対称なピークを設定し、高さ・半価幅・形定数を可変としてフィッティングした。
(iv)非晶ピークの高さ・半価幅・形定数・非対称を可変としてフィッティングした。
(v)各ピークについて、2θを可変としてフィッティングした。
(vi)(iii)〜(v)を繰り返してフィッティングした。
(vii)得られた非晶ピークの面積(Aa)と結晶ピークの面積(Ac)より結晶化度(Ac/(Aa+Ac))を算出した。
(アニオン性重合体AP−2の合成)
攪拌機、温度センサー、滴下漏斗及び還流冷却管を備え付けた6Lセパラブルフラスコに、酢酸ビニル2340g、メタノール640g、及び2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸ナトリウムを25質量%含有するメタノール溶液25.7gを仕込み、攪拌下に系内を窒素置換した後、内温を60℃まで上げた。この系に2,2’−アゾビスイソブチロニトリルを1.2g含有するメタノール20gを添加し、重合反応を開始した。重合開始時点より2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸ナトリウムを25質量%含有するメタノール溶液193.2gを系内に添加しながら、2.5時間重合反応を行った後、重合反応を停止した。重合反応を停止した時点における系内の固形分濃度、すなわち、重合反応スラリー全体に対する固形分の含有率は31.0質量%であった。ついで、系内にメタノール蒸気を導入することにより、未反応の酢酸ビニル単量体を追い出し、ビニルエステル共重合体を35質量%含有するメタノール溶液を得た。
このようにして得られたAP−2を16メッシュサイズのふるいを通過するまで粉砕した後、NIPPON PNEUMATIC MFG製ラボジェットミル「NPK EXCENT FEEDER(TYPE AF S−14−01)」を用いて、圧力5.5kgf/cm2、供給量100〜200g/hの条件で微粉化し、結晶性のアニオン性重合体AP−2の粉末を得た。上記方法により、得られたAP−2の粉末の平均粒子径を測定したところ、150μmであった。
200mL三角フラスコに、90mLの脱イオン水を入れ、ポリビニルアルコール(PVA)3.3gと、ポリアリルアミン塩酸塩(PAAm)0.37gを加えてから、100℃のウォーターバスの中で加熱撹拌し、これらの重合体を溶解させた。ここで、PVAとしては、株式会社クラレ製「PVA:145H」を用いた。当該「PVA:145H」の重合度は4500、ビニルアルコール単位のけん化度は99.2モル%である。また、PAAmとしては、日東紡績株式会社製「PAAm:PAA−HCL−10S」を用いた。当該「PAAm」の重量平均分子量は約8万である。
このようにして作製したモザイク荷電膜を、一辺が5cmの正方形に裁断し、測定試料を作製した。得られた測定試料を用い、上記方法にしたがって、拡散透析試験を行い、KClの流束JKCl、スクロースの流束JSUC、KClの透過係数PKCl、スクロースの透過係数PSUC、及びスクロースに対するKClの電解質選択透過係数αを算出した。また、得られたモザイク荷電膜について、上記方法にしたがって、最大破断応力、膜含水率、及び膜厚を測定した。また、上記方法に従って、モザイク荷電膜中の重合体粒子の結晶化度を測定した。得られた結果を表1に示す。上記方法にしたがって測定したモザイク荷電膜中の粒子の平均粒子径は85μmであった。
実施例1において、アニオン性重合体AP−2の粉末及びPVAの配合量を表1に示すように変更した以外は、実施例1と同様にしてモザイク荷電膜を作製し、拡散透析試験を行うとともに、最大破断応力、膜厚、モザイク荷電膜中の重合体粒子の平均粒子径、及び該粒子の結晶化度を測定した。実施例2〜6については、膜含水率も測定した。得られた結果を表1にまとめて示す。
実施例6において、アニオン性重合体AP−2の粉末の平均粒子径、皮膜作製後の熱処理温度、及び膜厚を表1に示すように変更した以外は、実施例6と同様にしてモザイク荷電膜を作製し、拡散透析試験を行うとともに、最大破断応力、膜含水率、膜厚、モザイク荷電膜中の重合体粒子の平均粒子径、及び該粒子の結晶化度を測定した。得られた結果を表1にまとめて示す。
実施例1において、PVAとPAAmが溶解した水溶液にアニオン性重合体AP−2の粉末が分散した分散液の代わりに、AP−2、PVA及びPAAmが全て溶解した水溶液を用いて、モザイク荷電膜を作製した。すなわち、三角フラスコに、90mLの脱イオン水を入れ、AP−2を3.7g投入し、100℃のウォーターバスの中で加熱撹拌し、AP−2を脱イオン水に溶解させた以外は、実施例1と同様にしてモザイク荷電膜を作製し、膜含水率を測定した。得られた結果を表1に示す。該モザイク荷電膜中には、凝集物による粒子が観察された。また、上記方法にしたがって測定したモザイク荷電膜中の当該粒子の平均粒子径は2μmであった。
比較例1において、アニオン重合体AP−2の粉末及びPVAの配合量を表1に示すように変えたこと以外は、比較例1と同様にしてモザイク荷電膜を作製し、拡散透析試験を行うとともに、最大破断応力、膜含水率、膜厚、及びモザイク荷電膜中の粒子の結晶化度を測定した。得られた結果を表1にまとめて示す。
比較例1において、PAAm及びAP−2を配合せず、PVAの配合量を7.4gに変えた以外は、比較例1と同様にしてモザイク荷電膜を作製し、拡散透析試験を行うとともに、膜含水率、膜厚、及びモザイク荷電膜中の粒子の結晶化度を測定した。得られた結果を表1に示す。
Claims (7)
- カチオン性重合体又はアニオン性重合体の粒子が、逆電荷を有する重合体のマトリックス中に分散したモザイク荷電膜であって;
前記粒子が結晶性重合体からなり、
カチオン性重合体が、カチオン基を含有するポリビニルアルコール、又はカチオン基を含有する重合体とカチオン基を含有しないポリビニルアルコールとの混合物であり、かつ
アニオン性重合体が、アニオン基を含有するポリビニルアルコール、又はアニオン基を含有する重合体とアニオン基を含有しないポリビニルアルコールとの混合物であることを特徴とするモザイク荷電膜。 - 前記粒子の平均粒子径が30〜200μmである請求項1記載のモザイク荷電膜。
- 前記粒子の結晶化度が20〜70%である請求項1又は2記載のモザイク荷電膜。
- カチオン性重合体又はアニオン性重合体の粒子が、逆電荷を有する重合体のマトリックス中に分散したモザイク荷電膜の製造方法であって;
カチオン性重合体又はアニオン性重合体からなる結晶性重合体の粒子が分散し、逆電荷を有する重合体が溶解した液から溶媒を除去して皮膜を形成し、
カチオン性重合体が、カチオン基を含有するポリビニルアルコール、又はカチオン基を含有する重合体とカチオン基を含有しないポリビニルアルコールとの混合物であり、かつ
アニオン性重合体が、アニオン基を含有するポリビニルアルコール、又はアニオン基を含有する重合体とアニオン基を含有しないポリビニルアルコールとの混合物であることを特徴とするモザイク荷電膜の製造方法。 - 平均粒子径が30〜500μmの粒子からなる粉末を液に投入して分散させる請求項4記載のモザイク荷電膜の製造方法。
- 前記皮膜を形成した後に、熱処理及び/又は架橋処理を施す請求項4又は5記載のモザイク荷電膜の製造方法。
- 前記粒子の結晶化度が20〜70%である請求項4〜6のいずれか記載のモザイク荷電膜の製造方法。
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