JP5461553B2 - Ｅｍｍ−１２を用いるアルキル芳香族化合物の製造方法 - Google Patents
Ｅｍｍ−１２を用いるアルキル芳香族化合物の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5461553B2 JP5461553B2 JP2011521171A JP2011521171A JP5461553B2 JP 5461553 B2 JP5461553 B2 JP 5461553B2 JP 2011521171 A JP2011521171 A JP 2011521171A JP 2011521171 A JP2011521171 A JP 2011521171A JP 5461553 B2 JP5461553 B2 JP 5461553B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- spacing
- emm
- range
- molecular sieve
- maximum
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- -1 alkyl aromatic compound Chemical class 0.000 title claims description 31
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 16
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 99
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 73
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 claims description 68
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 68
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 41
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 36
- 238000005804 alkylation reaction Methods 0.000 claims description 33
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 claims description 31
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 claims description 21
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 16
- 239000002168 alkylating agent Substances 0.000 claims description 15
- 229940100198 alkylating agent Drugs 0.000 claims description 15
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 11
- KVNYFPKFSJIPBJ-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1CC KVNYFPKFSJIPBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 10
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical compound CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N butene Natural products CC=CC IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- ODLMAHJVESYWTB-UHFFFAOYSA-N propylbenzene Chemical compound CCCC1=CC=CC=C1 ODLMAHJVESYWTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 claims description 6
- HYFLWBNQFMXCPA-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-2-methylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1C HYFLWBNQFMXCPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- BFIMMTCNYPIMRN-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,5-tetramethylbenzene Chemical compound CC1=CC(C)=C(C)C(C)=C1 BFIMMTCNYPIMRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- FYGHSUNMUKGBRK-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-trimethylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC(C)=C1C FYGHSUNMUKGBRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- QNLZIZAQLLYXTC-UHFFFAOYSA-N 1,2-dimethylnaphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=C(C)C(C)=CC=C21 QNLZIZAQLLYXTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- HILAULICMJUOLK-UHFFFAOYSA-N 1,3-diethyl-5-methylbenzene Chemical compound CCC1=CC(C)=CC(CC)=C1 HILAULICMJUOLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- AFZZYIJIWUTJFO-UHFFFAOYSA-N 1,3-diethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC(CC)=C1 AFZZYIJIWUTJFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- DSNHSQKRULAAEI-UHFFFAOYSA-N 1,4-Diethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=C(CC)C=C1 DSNHSQKRULAAEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- MEMBJMDZWKVOTB-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-2,4-dimethylbenzene Chemical group CCC1=CC=C(C)C=C1C MEMBJMDZWKVOTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- QPUYECUOLPXSFR-UHFFFAOYSA-N 1-methylnaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(C)=CC=CC2=C1 QPUYECUOLPXSFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- OGVRJXPGSVLDRD-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylanthracene Chemical compound C1=CC=C2C=C(C=C(C(C)=C3)C)C3=CC2=C1 OGVRJXPGSVLDRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- GKYWZUBZZBHZKU-UHFFFAOYSA-N 3-methylphenanthrene Chemical compound C1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1 GKYWZUBZZBHZKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- VPUGDVKSAQVFFS-UHFFFAOYSA-N coronene Chemical compound C1=C(C2=C34)C=CC3=CC=C(C=C3)C4=C4C3=CC=C(C=C3)C4=C2C3=C1 VPUGDVKSAQVFFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- QUEBYVKXYIKVSO-UHFFFAOYSA-N m-propyltoluene Chemical compound CCCC1=CC=CC(C)=C1 QUEBYVKXYIKVSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N phenanthrene Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C=CC2=C1 YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000008096 xylene Substances 0.000 claims description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- JREJWHNDQOGSQT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,5-pentaethylbenzene Chemical compound CCC1=CC(CC)=C(CC)C(CC)=C1CC JREJWHNDQOGSQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- FEWANSQOXSIFOK-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4-tetraethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=C(CC)C(CC)=C1CC FEWANSQOXSIFOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- WNLWIOJSURYFIB-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-triethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=C(CC)C(CC)=C1 WNLWIOJSURYFIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- OAPCPUDMDJIBOQ-UHFFFAOYSA-N 1-butyl-3-methylbenzene Chemical compound CCCCC1=CC=CC(C)=C1 OAPCPUDMDJIBOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- SBBKUBSYOVDBBC-UHFFFAOYSA-N 1-butyl-4-methylbenzene Chemical compound CCCCC1=CC=C(C)C=C1 SBBKUBSYOVDBBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- JRLPEMVDPFPYPJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-4-methylbenzene Chemical compound CCC1=CC=C(C)C=C1 JRLPEMVDPFPYPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ZMXIYERNXPIYFR-UHFFFAOYSA-N 1-ethylnaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(CC)=CC=CC2=C1 ZMXIYERNXPIYFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- KANLOADZXMMCQA-UHFFFAOYSA-N 3-methylphenanthrene Natural products C1=CC=C2C3=CC=C(C)C=C3C=CC2=C1 KANLOADZXMMCQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- JUEORGSHIXFSSI-UHFFFAOYSA-N 9,10-dimethylphenanthrene Chemical compound C1=CC=C2C(C)=C(C)C3=CC=CC=C3C2=C1 JUEORGSHIXFSSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ZFBBPVJBVIJQCE-UHFFFAOYSA-N 9-ethylanthracene Chemical compound C1=CC=C2C(CC)=C(C=CC=C3)C3=CC2=C1 ZFBBPVJBVIJQCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000001350 alkyl halides Chemical class 0.000 claims description 2
- RJTJVVYSTUQWNI-UHFFFAOYSA-N beta-ethyl naphthalene Natural products C1=CC=CC2=CC(CC)=CC=C21 RJTJVVYSTUQWNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- BEZDDPMMPIDMGJ-UHFFFAOYSA-N pentamethylbenzene Chemical compound CC1=CC(C)=C(C)C(C)=C1C BEZDDPMMPIDMGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 claims description 2
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- IFLREYGFSNHWGE-UHFFFAOYSA-N tetracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC4=CC=CC=C4C=C3C=C21 IFLREYGFSNHWGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- GYMFBYTZOGMSQJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylanthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC(C)=CC=C3C=C21 GYMFBYTZOGMSQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 claims 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 claims 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 claims 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 39
- RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N cumene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1 RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 38
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 37
- 239000000463 material Substances 0.000 description 29
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 22
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 21
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 20
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 19
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 230000029936 alkylation Effects 0.000 description 18
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 18
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 18
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 16
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 15
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 15
- 239000000047 product Substances 0.000 description 15
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 14
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 13
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 12
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 11
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 10
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 10
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 10
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 9
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 8
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 8
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 8
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 7
- 241000894007 species Species 0.000 description 7
- GFYHSKONPJXCDE-UHFFFAOYSA-N sym-collidine Natural products CC1=CN=C(C)C(C)=C1 GFYHSKONPJXCDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000010555 transalkylation reaction Methods 0.000 description 7
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HOPRXXXSABQWAV-UHFFFAOYSA-N anhydrous collidine Natural products CC1=CC=NC(C)=C1C HOPRXXXSABQWAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UTBIMNXEDGNJFE-UHFFFAOYSA-N collidine Natural products CC1=CC=C(C)C(C)=N1 UTBIMNXEDGNJFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 6
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 5
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 5
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 5
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 5
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 5
- 229910052680 mordenite Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O ammonium group Chemical group [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 4
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 4
- ZJMWRROPUADPEA-UHFFFAOYSA-N sec-butylbenzene Chemical compound CCC(C)C1=CC=CC=C1 ZJMWRROPUADPEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HHVIBTZHLRERCL-UHFFFAOYSA-N sulfonyldimethane Chemical compound CS(C)(=O)=O HHVIBTZHLRERCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 3
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N ZrO2 Inorganic materials O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 3
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 3
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 3
- ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N butyric aldehyde Natural products CCCC=O ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 3
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 3
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 3
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 3
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 3
- 238000001027 hydrothermal synthesis Methods 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 3
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- HGBOYTHUEUWSSQ-UHFFFAOYSA-N valeric aldehyde Natural products CCCCC=O HGBOYTHUEUWSSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GWHJZXXIDMPWGX-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-trimethylbenzene Chemical compound CC1=CC=C(C)C(C)=C1 GWHJZXXIDMPWGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKIRBHVFJGXOIS-UHFFFAOYSA-N 1,2-di(propan-2-yl)benzene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1C(C)C OKIRBHVFJGXOIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VSIKJPJINIDELZ-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6,8,8-octakis-phenyl-1,3,5,7,2,4,6,8-tetraoxatetrasilocane Chemical compound O1[Si](C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)O[Si](C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)O[Si](C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)O[Si]1(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VSIKJPJINIDELZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BWZVCCNYKMEVEX-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-Trimethylpyridine Chemical compound CC1=CC(C)=NC(C)=C1 BWZVCCNYKMEVEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LTEQMZWBSYACLV-UHFFFAOYSA-N Hexylbenzene Chemical compound CCCCCCC1=CC=CC=C1 LTEQMZWBSYACLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBBJYMSMWIIQGU-UHFFFAOYSA-N Propionic aldehyde Chemical compound CCC=O NBBJYMSMWIIQGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 230000002152 alkylating effect Effects 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- ZSIQJIWKELUFRJ-UHFFFAOYSA-N azepane Chemical compound C1CCCNCC1 ZSIQJIWKELUFRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OCKPCBLVNKHBMX-UHFFFAOYSA-N butylbenzene Chemical compound CCCCC1=CC=CC=C1 OCKPCBLVNKHBMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 229930007927 cymene Natural products 0.000 description 2
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 2
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SQNZJJAZBFDUTD-UHFFFAOYSA-N durene Chemical compound CC1=CC(C)=C(C)C=C1C SQNZJJAZBFDUTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002524 electron diffraction data Methods 0.000 description 2
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 2
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 2
- HTDJPCNNEPUOOQ-UHFFFAOYSA-N hexamethylcyclotrisiloxane Chemical compound C[Si]1(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 HTDJPCNNEPUOOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 2
- NNPPMTNAJDCUHE-UHFFFAOYSA-N isobutane Chemical compound CC(C)C NNPPMTNAJDCUHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N mesitylene Substances CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- HMMGMWAXVFQUOA-UHFFFAOYSA-N octamethylcyclotetrasiloxane Chemical compound C[Si]1(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 HMMGMWAXVFQUOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 2
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 2
- HFPZCAJZSCWRBC-UHFFFAOYSA-N p-cymene Chemical compound CC(C)C1=CC=C(C)C=C1 HFPZCAJZSCWRBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 2
- JIRNEODMTPGRGV-UHFFFAOYSA-N pentadecylbenzene Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1 JIRNEODMTPGRGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N pentene Chemical compound CCCC=C YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 2
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000000634 powder X-ray diffraction Methods 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 2
- 239000012265 solid product Substances 0.000 description 2
- 239000002594 sorbent Substances 0.000 description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- AQRLNPVMDITEJU-UHFFFAOYSA-N triethylsilane Chemical compound CC[SiH](CC)CC AQRLNPVMDITEJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WSWCOQWTEOXDQX-MQQKCMAXSA-M (E,E)-sorbate Chemical compound C\C=C\C=C\C([O-])=O WSWCOQWTEOXDQX-MQQKCMAXSA-M 0.000 description 1
- VIDOPANCAUPXNH-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC(CC)=C1CC VIDOPANCAUPXNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BNXNQXKAEVKUJG-UHFFFAOYSA-N 1-Methyl-2-n-hexylbenzene Chemical compound CCCCCCC1=CC=CC=C1C BNXNQXKAEVKUJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFWCMGCRMGJXDK-UHFFFAOYSA-N 1-chlorobutane Chemical compound CCCCCl VFWCMGCRMGJXDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SQCZQTSHSZLZIQ-UHFFFAOYSA-N 1-chloropentane Chemical compound CCCCCCl SQCZQTSHSZLZIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQAHWOUEBKVMQH-UHFFFAOYSA-N 1-dodecyl-2-methylbenzene Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1C PQAHWOUEBKVMQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOCOMEGNVMCRMP-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6,8,8-octaethyl-1,3,5,7,2,4,6,8-tetraoxatetrasilocane Chemical compound CC[Si]1(CC)O[Si](CC)(CC)O[Si](CC)(CC)O[Si](CC)(CC)O1 XOCOMEGNVMCRMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VCYDUTCMKSROID-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexakis-phenyl-1,3,5,2,4,6-trioxatrisilinane Chemical compound O1[Si](C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)O[Si](C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)O[Si]1(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VCYDUTCMKSROID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KNQHBAFIWGORKW-UHFFFAOYSA-N 2,3-diamino-3-oxopropanoic acid Chemical compound NC(=O)C(N)C(O)=O KNQHBAFIWGORKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAWQVTBBRAZDMG-UHFFFAOYSA-N 2-(3-bromo-2-fluorophenyl)acetic acid Chemical compound OC(=O)CC1=CC=CC(Br)=C1F PAWQVTBBRAZDMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNXIYYFOYIUJIW-UHFFFAOYSA-N 3-methylbutylbenzene Chemical compound CC(C)CCC1=CC=CC=C1 XNXIYYFOYIUJIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUMOGCZUNXXYRP-UHFFFAOYSA-N 4-methylpentylbenzene Chemical compound CC(C)CCCC1=CC=CC=C1 SUMOGCZUNXXYRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N Adamantane Natural products C1C(C2)CC3CC1CC2C3 ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004438 BET method Methods 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMSXQFUHVRWGNA-UHFFFAOYSA-N Decamethylcyclopentasiloxane Chemical compound C[Si]1(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 XMSXQFUHVRWGNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005727 Friedel-Crafts reaction Methods 0.000 description 1
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N Isobutene Chemical group CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000446313 Lamella Species 0.000 description 1
- 241000053208 Porcellio laevis Species 0.000 description 1
- 102000001708 Protein Isoforms Human genes 0.000 description 1
- 108010029485 Protein Isoforms Proteins 0.000 description 1
- 238000003991 Rietveld refinement Methods 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] Chemical compound [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFCGDEUVHLPRCZ-UHFFFAOYSA-N [dimethyl(trimethylsilyloxy)silyl]oxy-dimethyl-trimethylsilyloxysilane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C YFCGDEUVHLPRCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N acetaldehyde Chemical compound [14CH]([14CH3])=O IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N 0.000 description 1
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 1
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 1
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 1
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 150000001343 alkyl silanes Chemical class 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- JYIBXUUINYLWLR-UHFFFAOYSA-N aluminum;calcium;potassium;silicon;sodium;trihydrate Chemical compound O.O.O.[Na].[Al].[Si].[K].[Ca] JYIBXUUINYLWLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPTYUNKZVDYXLP-UHFFFAOYSA-N aluminum;trihydroxy(trihydroxysilyloxy)silane;hydrate Chemical compound O.[Al].[Al].O[Si](O)(O)O[Si](O)(O)O HPTYUNKZVDYXLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 238000003705 background correction Methods 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 239000000440 bentonite Substances 0.000 description 1
- 229910000278 bentonite Inorganic materials 0.000 description 1
- SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N bentoquatam Chemical compound O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLDASNSMGOEMX-UHFFFAOYSA-N benzene benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1 XDLDASNSMGOEMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CCDWGDHTPAJHOA-UHFFFAOYSA-N benzylsilicon Chemical compound [Si]CC1=CC=CC=C1 CCDWGDHTPAJHOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTPBRCUWZOMYOC-UHFFFAOYSA-N beryllium oxide Inorganic materials O=[Be] LTPBRCUWZOMYOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 150000001639 boron compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- 238000007385 chemical modification Methods 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- NEHMKBQYUWJMIP-NJFSPNSNSA-N chloro(114C)methane Chemical compound [14CH3]Cl NEHMKBQYUWJMIP-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- HRYZWHHZPQKTII-UHFFFAOYSA-N chloroethane Chemical compound CCCl HRYZWHHZPQKTII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- 229910001603 clinoptilolite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000536 complexating effect Effects 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 238000002447 crystallographic data Methods 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- UZILCZKGXMQEQR-UHFFFAOYSA-N decyl-Benzene Chemical compound CCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1 UZILCZKGXMQEQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N dialuminum;dioxosilane;oxygen(2-);hydrate Chemical compound O.[O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3].O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001649 dickite Inorganic materials 0.000 description 1
- ZMAPKOCENOWQRE-UHFFFAOYSA-N diethoxy(diethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(CC)OCC ZMAPKOCENOWQRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004177 diethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N dihydroxy(oxo)silane Chemical compound O[Si](O)=O IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- OIKHZBFJHONJJB-UHFFFAOYSA-N dimethyl(phenyl)silicon Chemical compound C[Si](C)C1=CC=CC=C1 OIKHZBFJHONJJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNMQEEKYCVKGBD-UHFFFAOYSA-N dimethylacetylene Natural products CC#CC XNMQEEKYCVKGBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N disilane Chemical compound [SiH3][SiH3] PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWKXNDCHNDYVRT-UHFFFAOYSA-N dodecylbenzene Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1 KWKXNDCHNDYVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- DKQVJMREABFYNT-UHFFFAOYSA-N ethene Chemical group C=C.C=C DKQVJMREABFYNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIHIPCDUFKZOSL-UHFFFAOYSA-N ethenyl(methyl)silicon Chemical compound C[Si]C=C HIHIPCDUFKZOSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960003750 ethyl chloride Drugs 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005816 fluoropropyl group Chemical group [H]C([H])(F)C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000002737 fuel gas Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 150000002291 germanium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910001683 gmelinite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical group 0.000 description 1
- 229910052621 halloysite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- DEQLTFPCJRGSHW-UHFFFAOYSA-N hexadecylbenzene Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1 DEQLTFPCJRGSHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NEXSMEBSBIABKL-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilane Chemical compound C[Si](C)(C)[Si](C)(C)C NEXSMEBSBIABKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 125000004356 hydroxy functional group Chemical group O* 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- 239000000411 inducer Substances 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 239000001282 iso-butane Substances 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 229910052622 kaolinite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- JCCNYMKQOSZNPW-UHFFFAOYSA-N loratadine Chemical compound C1CN(C(=O)OCC)CCC1=C1C2=NC=CC=C2CCC2=CC(Cl)=CC=C21 JCCNYMKQOSZNPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 125000001827 mesitylenyl group Chemical group [H]C1=C(C(*)=C(C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 229910052901 montmorillonite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNMVRZFUUCLYTO-UHFFFAOYSA-N n-propyl chloride Chemical compound CCCCl SNMVRZFUUCLYTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIXVMPBOGDCSRM-UHFFFAOYSA-N nonylbenzene Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=CC=C1 LIXVMPBOGDCSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CXQXSVUQTKDNFP-UHFFFAOYSA-N octamethyltrisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C CXQXSVUQTKDNFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006259 organic additive Substances 0.000 description 1
- 150000002903 organophosphorus compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005453 pelletization Methods 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N phenylbenzene Natural products C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000286 phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 229920001921 poly-methyl-phenyl-siloxane Polymers 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000006207 propylation Effects 0.000 description 1
- WHFQAROQMWLMEY-UHFFFAOYSA-N propylene dimer Chemical group CC=C.CC=C WHFQAROQMWLMEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 229940075554 sorbate Drugs 0.000 description 1
- 238000002336 sorption--desorption measurement Methods 0.000 description 1
- 239000012798 spherical particle Substances 0.000 description 1
- 238000001694 spray drying Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- VCZQFJFZMMALHB-UHFFFAOYSA-N tetraethylsilane Chemical compound CC[Si](CC)(CC)CC VCZQFJFZMMALHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N titanium dioxide Inorganic materials O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005389 trialkylsiloxy group Chemical group 0.000 description 1
- KXFSUVJPEQYUGN-UHFFFAOYSA-N trimethyl(phenyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C1=CC=CC=C1 KXFSUVJPEQYUGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J29/00—Catalysts comprising molecular sieves
- B01J29/04—Catalysts comprising molecular sieves having base-exchange properties, e.g. crystalline zeolites
- B01J29/06—Crystalline aluminosilicate zeolites; Isomorphous compounds thereof
- B01J29/70—Crystalline aluminosilicate zeolites; Isomorphous compounds thereof of types characterised by their specific structure not provided for in groups B01J29/08 - B01J29/65
- B01J29/72—Crystalline aluminosilicate zeolites; Isomorphous compounds thereof of types characterised by their specific structure not provided for in groups B01J29/08 - B01J29/65 containing iron group metals, noble metals or copper
- B01J29/76—Iron group metals or copper
- B01J29/7676—MWW-type, e.g. MCM-22, ERB-1, ITQ-1, PSH-3 or SSZ-25
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J29/00—Catalysts comprising molecular sieves
- B01J29/04—Catalysts comprising molecular sieves having base-exchange properties, e.g. crystalline zeolites
- B01J29/06—Crystalline aluminosilicate zeolites; Isomorphous compounds thereof
- B01J29/70—Crystalline aluminosilicate zeolites; Isomorphous compounds thereof of types characterised by their specific structure not provided for in groups B01J29/08 - B01J29/65
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J29/00—Catalysts comprising molecular sieves
- B01J29/04—Catalysts comprising molecular sieves having base-exchange properties, e.g. crystalline zeolites
- B01J29/06—Crystalline aluminosilicate zeolites; Isomorphous compounds thereof
- B01J29/70—Crystalline aluminosilicate zeolites; Isomorphous compounds thereof of types characterised by their specific structure not provided for in groups B01J29/08 - B01J29/65
- B01J29/7038—MWW-type, e.g. MCM-22, ERB-1, ITQ-1, PSH-3 or SSZ-25
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J29/00—Catalysts comprising molecular sieves
- B01J29/04—Catalysts comprising molecular sieves having base-exchange properties, e.g. crystalline zeolites
- B01J29/06—Crystalline aluminosilicate zeolites; Isomorphous compounds thereof
- B01J29/70—Crystalline aluminosilicate zeolites; Isomorphous compounds thereof of types characterised by their specific structure not provided for in groups B01J29/08 - B01J29/65
- B01J29/72—Crystalline aluminosilicate zeolites; Isomorphous compounds thereof of types characterised by their specific structure not provided for in groups B01J29/08 - B01J29/65 containing iron group metals, noble metals or copper
- B01J29/7276—MWW-type, e.g. MCM-22, ERB-1, ITQ-1, PSH-3 or SSZ-25
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J29/00—Catalysts comprising molecular sieves
- B01J29/04—Catalysts comprising molecular sieves having base-exchange properties, e.g. crystalline zeolites
- B01J29/06—Crystalline aluminosilicate zeolites; Isomorphous compounds thereof
- B01J29/70—Crystalline aluminosilicate zeolites; Isomorphous compounds thereof of types characterised by their specific structure not provided for in groups B01J29/08 - B01J29/65
- B01J29/72—Crystalline aluminosilicate zeolites; Isomorphous compounds thereof of types characterised by their specific structure not provided for in groups B01J29/08 - B01J29/65 containing iron group metals, noble metals or copper
- B01J29/74—Noble metals
- B01J29/7476—MWW-type, e.g. MCM-22, ERB-1, ITQ-1, PSH-3 or SSZ-25
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B39/00—Compounds having molecular sieve and base-exchange properties, e.g. crystalline zeolites; Their preparation; After-treatment, e.g. ion-exchange or dealumination
- C01B39/02—Crystalline aluminosilicate zeolites; Isomorphous compounds thereof; Direct preparation thereof; Preparation thereof starting from a reaction mixture containing a crystalline zeolite of another type, or from preformed reactants; After-treatment thereof
- C01B39/46—Other types characterised by their X-ray diffraction pattern and their defined composition
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B39/00—Compounds having molecular sieve and base-exchange properties, e.g. crystalline zeolites; Their preparation; After-treatment, e.g. ion-exchange or dealumination
- C01B39/02—Crystalline aluminosilicate zeolites; Isomorphous compounds thereof; Direct preparation thereof; Preparation thereof starting from a reaction mixture containing a crystalline zeolite of another type, or from preformed reactants; After-treatment thereof
- C01B39/46—Other types characterised by their X-ray diffraction pattern and their defined composition
- C01B39/48—Other types characterised by their X-ray diffraction pattern and their defined composition using at least one organic template directing agent
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2/00—Preparation of hydrocarbons from hydrocarbons containing a smaller number of carbon atoms
- C07C2/54—Preparation of hydrocarbons from hydrocarbons containing a smaller number of carbon atoms by addition of unsaturated hydrocarbons to saturated hydrocarbons or to hydrocarbons containing a six-membered aromatic ring with no unsaturation outside the aromatic ring
- C07C2/64—Addition to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
- C07C2/66—Catalytic processes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2/00—Preparation of hydrocarbons from hydrocarbons containing a smaller number of carbon atoms
- C07C2/74—Preparation of hydrocarbons from hydrocarbons containing a smaller number of carbon atoms by addition with simultaneous hydrogenation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2229/00—Aspects of molecular sieve catalysts not covered by B01J29/00
- B01J2229/30—After treatment, characterised by the means used
- B01J2229/42—Addition of matrix or binder particles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2529/00—Catalysts comprising molecular sieves
- C07C2529/04—Catalysts comprising molecular sieves having base-exchange properties, e.g. crystalline zeolites, pillared clays
- C07C2529/06—Crystalline aluminosilicate zeolites; Isomorphous compounds thereof
- C07C2529/70—Crystalline aluminosilicate zeolites; Isomorphous compounds thereof of types characterised by their specific structure not provided for in groups C07C2529/08 - C07C2529/65
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
- C07C2601/12—Systems containing only non-condensed rings with a six-membered ring
- C07C2601/14—The ring being saturated
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Description
関連出願の相互参照
この出願は2008年７月28日に出願された米国仮特許出願第61/084,166号（これが参考として本明細書にそのまま含まれる）の利益を主張する。
本開示はEMM-12（これは特異なXRD特徴を有するMCM-22ファミリー物質である）と称されるモレキュラーシーブ組成物を使用する、アルキル芳香族化合物、特にモノ-アルキル芳香族化合物、例えば、エチルベンゼン、クメン及びsec-ブチルベンゼンの製造方法に関する。
この出願は2008年７月28日に出願された米国仮特許出願第61/084,166号（これが参考として本明細書にそのまま含まれる）の利益を主張する。
本開示はEMM-12（これは特異なXRD特徴を有するMCM-22ファミリー物質である）と称されるモレキュラーシーブ組成物を使用する、アルキル芳香族化合物、特にモノ-アルキル芳香族化合物、例えば、エチルベンゼン、クメン及びsec-ブチルベンゼンの製造方法に関する。
天然及び合成の両方の、モレキュラーシーブ物質は、種々の型の炭化水素変換のための触媒特性を有することが過去に実証されていた。触媒作用に適用があるモレキュラーシーブとして、天然産又は合成の結晶性モレキュラーシーブのあらゆるものが挙げられる。これらのゼオライトの例として、大きい孔のゼオライト、中間の孔サイズのゼオライト、及び小さい孔のゼオライトが挙げられる。これらのゼオライト及びそれらのイソ型が“ゼオライトフレームワーク型のアトラス”, W. H. Meier、D. H. Olson 及びCh. Baerlocher編集, Elsevier, 第５編, 2001に記載されており、これが参考として本明細書に含まれる。大きい孔のゼオライトは一般に少なくとも約７Åの孔サイズを有し、LTL、VFI、MAZ、FAU、OFF、*BEA、及びMOR フレームワーク型ゼオライト (IUPAC Commission of Zeolite Nomenclature)を含む。大きい孔のゼオライトの例として、マザイト、オフレット沸石、ゼオライトＬ、VPI-5、ゼオライトＹ、ゼオライトＸ、オメガ、及びベータが挙げられる。中間の孔サイズのゼオライトは一般に約５Åから約７Å未満までの孔サイズを有し、例えば、MFI、MEL、EUO、MTT、MFS、AEL、AFO、HEU、FER、MWW、及びTON フレームワーク型ゼオライト (IUPAC Commission of Zeolite Nomenclature)を含む。中間の孔サイズのゼオライトの例として、ZSM-5、ZSM-11、ZSM-22、MCM-22、シリカライト１、及びシリカライト２が挙げられる。小さい孔サイズのゼオライトは約３Åから約5.0Å未満までの孔サイズを有し、例えば、CHA、ERI、KFI、LEV、SOD、及びLTA フレームワーク型ゼオライト (IUPAC Commission of Zeolite Nomenclature)を含む。小さい孔のゼオライトの例として、ZK-4、ZSM-2、SAPO-34、SAPO-35、ZK-14、SAPO-42、ZK-21、ZK-22、ZK-5、ZK-20、ゼオライトＡ、カバザイト、ゼオライトＴ、グメリン沸石、ALPO-17、及びクリノプチロライトが挙げられる。
米国特許第4,439,409 号はPSH-3 と称されるものの結晶性モレキュラーシーブ組成物及びMCM-56 (米国特許第5,362,697号)の合成のための誘導剤として作用する有機化合物である、ヘキサメチレンイミンを含む水熱反応のための反応混合物からのその合成を言及している。ヘキサメチレンイミンはまた結晶性モレキュラーシーブMCM-22 (米国特許第4,954,325号) 及びMCM-49 (米国特許第5,236,575号)の合成における使用につき教示されている。ゼオライトSSZ-25と称されるもののモレキュラーシーブ組成物 (米国特許第4,826,667号) はアダマンタン四級アンモニウムイオンを含む水熱反応のための反応混合物から合成される。米国特許第6,077,498号はITQ-1 と称されるものの結晶性モレキュラーシーブ組成物及び一種又は多種の有機添加剤を含む水熱反応のための反応混合物からのその合成を言及している。
米国特許出願第11/823,129 号はその合成されたままの形態で、13.18±0.25 Å及び12.33±0.23 Åのd-間隔最大を含むＸ線回折パターン（13.18±0.25 Åにおけるそのd-間隔最大のピーク強さは12.33±0.23 Åのd-間隔最大のピーク強さの少なくとも90％程度に大きい）を有する、EMM-10-Pと称されるモレキュラーシーブ組成物を開示している。米国特許出願第11/824,742 号はそのアンモニウム交換された形態又はその焼成された形態で、MWWトポロジーを有する単位セルを含む、EMM-10と称されるモレキュラーシーブ組成物を開示しており、前記結晶性モレキュラーシーブはｃ方向の単位セル配置からの回折ストリーキングを特徴とする。その結晶性モレキュラーシーブは更に電子回折パターンのアーク状hk0 パターンを特徴とする。その結晶性モレキュラーシーブは更にc* 方向に沿った電子回折パターン中のストリークを特徴とする。米国特許出願第11/827,953 号はその合成されたままの形態で、12.33±0.23 Åのd-間隔最大におけるピーク、12.57 〜約14.17 Åのd-間隔最大における区別できるピーク及び8.8〜11.0Åのd-間隔最大における区別できない(non-discrete)ピークを含むＸ線回折パターンを有する結晶性MCM-22ファミリーモレキュラーシーブを開示しており、12.57〜約14.17Åのd-間隔最大のピーク強さは12.33±0.23 Åのd-間隔最大のピーク強さの90％未満である。
米国特許出願第11/823,129 号はその合成されたままの形態で、13.18±0.25 Å及び12.33±0.23 Åのd-間隔最大を含むＸ線回折パターン（13.18±0.25 Åにおけるそのd-間隔最大のピーク強さは12.33±0.23 Åのd-間隔最大のピーク強さの少なくとも90％程度に大きい）を有する、EMM-10-Pと称されるモレキュラーシーブ組成物を開示している。米国特許出願第11/824,742 号はそのアンモニウム交換された形態又はその焼成された形態で、MWWトポロジーを有する単位セルを含む、EMM-10と称されるモレキュラーシーブ組成物を開示しており、前記結晶性モレキュラーシーブはｃ方向の単位セル配置からの回折ストリーキングを特徴とする。その結晶性モレキュラーシーブは更に電子回折パターンのアーク状hk0 パターンを特徴とする。その結晶性モレキュラーシーブは更にc* 方向に沿った電子回折パターン中のストリークを特徴とする。米国特許出願第11/827,953 号はその合成されたままの形態で、12.33±0.23 Åのd-間隔最大におけるピーク、12.57 〜約14.17 Åのd-間隔最大における区別できるピーク及び8.8〜11.0Åのd-間隔最大における区別できない(non-discrete)ピークを含むＸ線回折パターンを有する結晶性MCM-22ファミリーモレキュラーシーブを開示しており、12.57〜約14.17Åのd-間隔最大のピーク強さは12.33±0.23 Åのd-間隔最大のピーク強さの90％未満である。
本明細書に使用される“MCM-22 ファミリー物質”(又は“MCM-22 ファミリーの物質”もしくは“MCM-22 ファミリーのモレキュラーシーブ”)という用語は、
(i) 普通の第一級(first degree)結晶性ビルディングブロック“MWWフレームワークトポロジーを有する単位セル”からつくられたモレキュラーシーブ。単位セルは原子の空間配置であり、これは三次元空間中でタイルにされて“ゼオライトフレームワーク型のアトラス”, 第五編, 2001（その全内容が参考として含まれる）に記載された結晶を記載する；
(ii) “一つの単位セル厚さ、好ましくは一つのc-単位セル厚さの単層”を形成する、このようなMWWフレームワーク型単位セルの２次元のタイリング(tiling)である、普通の第二級(second degree)ビルディングブロックからつくられたモレキュラーシーブ；
(iii) “一つ以上の単位セル厚さの層”である、普通の第二級ビルディングブロックからつくられたモレキュラーシーブ（一つより多い単位セル厚さの層がMWWフレームワークトポロジーを有する単位セルの一単位セル厚さの少なくとも二つの単層を積み重ね、充填し、又は結合することからつくられる。このような第二級ビルディングブロックの積み重ねは規則的な様式、不規則な様式、ランダム様式、又はこれらのあらゆる組み合わせであってもよい）；又は
(iv) MWWフレームワークトポロジーを有する単位セルのあらゆる規則的又はランダムな２次元又は３次元の組み合わせによりつくられたモレキュラーシーブ
を含む。
(i) 普通の第一級(first degree)結晶性ビルディングブロック“MWWフレームワークトポロジーを有する単位セル”からつくられたモレキュラーシーブ。単位セルは原子の空間配置であり、これは三次元空間中でタイルにされて“ゼオライトフレームワーク型のアトラス”, 第五編, 2001（その全内容が参考として含まれる）に記載された結晶を記載する；
(ii) “一つの単位セル厚さ、好ましくは一つのc-単位セル厚さの単層”を形成する、このようなMWWフレームワーク型単位セルの２次元のタイリング(tiling)である、普通の第二級(second degree)ビルディングブロックからつくられたモレキュラーシーブ；
(iii) “一つ以上の単位セル厚さの層”である、普通の第二級ビルディングブロックからつくられたモレキュラーシーブ（一つより多い単位セル厚さの層がMWWフレームワークトポロジーを有する単位セルの一単位セル厚さの少なくとも二つの単層を積み重ね、充填し、又は結合することからつくられる。このような第二級ビルディングブロックの積み重ねは規則的な様式、不規則な様式、ランダム様式、又はこれらのあらゆる組み合わせであってもよい）；又は
(iv) MWWフレームワークトポロジーを有する単位セルのあらゆる規則的又はランダムな２次元又は３次元の組み合わせによりつくられたモレキュラーシーブ
を含む。
MCM-22ファミリー物質は12.4±0.25Å、3.57±0.07Å及び3.42±0.07 Åのd-間隔最大を含むＸ線回折パターンを有することを特徴とする（焼成されて、又は合成されたままで）。MCM-22ファミリー物質はまた12.4±0.25Å、6.9±0.15Å、3.57±0.07Å及び3.42±0.07Åのd-間隔最大を含むＸ線回折パターンを有することを特徴とし得る（焼成されて、又は合成されたままで）。そのモレキュラーシーブを特性決定するのに使用されるＸ線回折データは通常の技術により入射放射線としての銅のK-α二重線及び収集システムとしてのシンチレーションカウンター及び関連コンピュータを備えたディフラクトメーターを使用して得られる。MCM-22ファミリーに属する物質として、MCM-22 (米国特許第4,954,325号に記載されている)、PSH-3 (米国特許第4,439,409号に記載されている)、SSZ-25 (米国特許第4,826,667号に記載されている)、ERB-1 (欧州特許第0293032号に記載されている)、ITQ-1 (米国特許第6,077,498号に記載されている), ITQ-2 (国際特許公開WO97/17290に記載されている)、ITQ-30（国際特許公開WO2005118476に記載されている）、MCM-36 (米国特許第5,250,277号に記載されている)、MCM-49 (米国特許第5,236,575号に記載されている)、MCM-56 (米国特許第5,362,697号に記載されている)、EMM-10-P（米国特許出願第11/823,129号に記載されている）及びEMM-10（米国特許出願第11/824,742号に記載されている）が挙げられる。これらの特許の全内容が参考として本明細書に含まれる。
上記MCM-22ファミリーのモレキュラーシーブはMCM-22物質がモレキュラーシーブの10員環内部孔系と連通しない12員環表面ポケットを有する点で通常の大きい孔のゼオライトアルキル化触媒、例えば、モルデナイトとは区別されることが理解されるべきである。
MWWトポロジーのものであるIZA-SCにより表示されるゼオライト物質は10員環及び12員環の両方の存在から生じる二つの孔系を有する多層物質である。ゼオライトフレームワーク型のアトラスはこの同じトポロジーを有する５種の異なる名称の物質：MCM-22、ERB-1、ITQ-1、PSH-3、及びSSZ-25を分類する。
上記MCM-22ファミリーのモレキュラーシーブはMCM-22物質がモレキュラーシーブの10員環内部孔系と連通しない12員環表面ポケットを有する点で通常の大きい孔のゼオライトアルキル化触媒、例えば、モルデナイトとは区別されることが理解されるべきである。
MWWトポロジーのものであるIZA-SCにより表示されるゼオライト物質は10員環及び12員環の両方の存在から生じる二つの孔系を有する多層物質である。ゼオライトフレームワーク型のアトラスはこの同じトポロジーを有する５種の異なる名称の物質：MCM-22、ERB-1、ITQ-1、PSH-3、及びSSZ-25を分類する。
MCM-22ファミリーのモレキュラーシーブは種々の炭化水素変換方法に有益であるとわかった。MCM-22ファミリーのモレキュラーシーブの例はMCM-22、MCM-49、MCM-56、ITQ-1、PSH-3、SSZ-25、及びERB-1である。このようなモレキュラーシーブは芳香族化合物のアルキル化に有益である。例えば、米国特許第6,936,744 号はポリアルキル化芳香族化合物を少なくとも部分液相条件下かつトランスアルキル化触媒の存在下でアルキル化可能な芳香族化合物と接触させてモノ-アルキル芳香族化合物を生成する工程を含む、モノ-アルキル芳香族化合物、特にクメンの製造方法を開示しており、そのトランスアルキル化触媒は少なくとも２種の異なる結晶性モレキュラーシーブの混合物を含み、モレキュラーシーブの夫々がゼオライトベータ、ゼオライトＹ、モルデナイト並びに12.4±0.25Å、6.9±0.15Å、3.57±0.07Å及び3.42±0.07Åのd-間隔最大を含むＸ線回折パターンを有する物質から選ばれる。
2007年に北京での15 IZA会議におけるJ. Ruan、P. Wu、B. Slater、L. Wu、J. Xiao、Y. Liu、M. He、O. Terasaki による報告はISE-MWW 物質及びISE-FER 物質を開示し、前者は出発物質としてのMCM-22-P 物質からつくられた。Tatsumiらの米国特許出願公開第2005/0158238 号はMWW 型ゼオライト物質を開示していた。Oguchiらの米国特許出願公開2004/0092757 号は結晶性MWW 型チタノシリケート触媒を開示していた。W. Fan、P. Wu、S. Namba、及びT. Tatsumi による論文(J. Catalyst 243 (2006) 183-191) はMWW型ラメラ前駆体に似ている構造を有する新規チタノシリケートモレキュラーシーブを開示していた。J. Ruan、P. Wu B. Slater 及びO. Terasaki はISE-MWW と同様のTi-YNU-1 の詳細な構造を開示していた(Angew. Chem. Int. Ed., 2005, 44, 6719) 。
これらの密接に関連する物質は合成されたままの物質及び焼成された物質の両方について(002)、(100)、(101) 及び (102) 反射に相当するd-間隔最大についてのXRD回折パターンを比較することにより更に区別し得る。(002) 反射に相当するd-間隔最大は典型的には14.17 Åから12.57 Åまでの範囲である(約6.15-7.05 °2-θ Cu Kα放射線)。(100) 反射に相当するd-間隔最大は典型的には12.1 Åから12.56 Åまでの範囲である(約7.3-7.05 °2-θ)。(101) 反射に相当するd-間隔最大は典型的には10.14 Åから12.0 Åまでの範囲である (8.7-7.35 °2-θ)。(102) 反射に相当するd-間隔最大は典型的には8.66 Åから10.13 Åまでの範囲である(10.2-8.7 °2-θ)。下記の表 (表1) は合成されたままの物質及び焼成された物質の両方につき(002)、(100)、(101) 及び(102) 反射に相当するd-間隔最大についてのXRD回折パターンの存在及び／又は特徴に基づいてMCM-22、MCM-49、EMM-10、MCM-56及びTatsumiらにより報告されたチタノシリケート物質の間の差異を要約する。
表１
2007年に北京での15 IZA会議におけるJ. Ruan、P. Wu、B. Slater、L. Wu、J. Xiao、Y. Liu、M. He、O. Terasaki による報告はISE-MWW 物質及びISE-FER 物質を開示し、前者は出発物質としてのMCM-22-P 物質からつくられた。Tatsumiらの米国特許出願公開第2005/0158238 号はMWW 型ゼオライト物質を開示していた。Oguchiらの米国特許出願公開2004/0092757 号は結晶性MWW 型チタノシリケート触媒を開示していた。W. Fan、P. Wu、S. Namba、及びT. Tatsumi による論文(J. Catalyst 243 (2006) 183-191) はMWW型ラメラ前駆体に似ている構造を有する新規チタノシリケートモレキュラーシーブを開示していた。J. Ruan、P. Wu B. Slater 及びO. Terasaki はISE-MWW と同様のTi-YNU-1 の詳細な構造を開示していた(Angew. Chem. Int. Ed., 2005, 44, 6719) 。
これらの密接に関連する物質は合成されたままの物質及び焼成された物質の両方について(002)、(100)、(101) 及び (102) 反射に相当するd-間隔最大についてのXRD回折パターンを比較することにより更に区別し得る。(002) 反射に相当するd-間隔最大は典型的には14.17 Åから12.57 Åまでの範囲である(約6.15-7.05 °2-θ Cu Kα放射線)。(100) 反射に相当するd-間隔最大は典型的には12.1 Åから12.56 Åまでの範囲である(約7.3-7.05 °2-θ)。(101) 反射に相当するd-間隔最大は典型的には10.14 Åから12.0 Åまでの範囲である (8.7-7.35 °2-θ)。(102) 反射に相当するd-間隔最大は典型的には8.66 Åから10.13 Åまでの範囲である(10.2-8.7 °2-θ)。下記の表 (表1) は合成されたままの物質及び焼成された物質の両方につき(002)、(100)、(101) 及び(102) 反射に相当するd-間隔最大についてのXRD回折パターンの存在及び／又は特徴に基づいてMCM-22、MCM-49、EMM-10、MCM-56及びTatsumiらにより報告されたチタノシリケート物質の間の差異を要約する。
表１
（表１続き）
（表１続き）
結晶形態、サイズ及び凝集／アグロメレーション、又は新しいＸ線回折が、特に触媒活性及び安定性に関して、触媒挙動に影響し得ることが知られている。
アルキル芳香族化合物、例えば、エチルベンゼン及びクメンは、スチレンモノマーの製造並びにフェノール及びアセトンの夫々の同時製造のために工業上使用される有益な商品化学薬品である。実際に、フェノールの製造に普通の経路はクメンを製造するためのプロピレンによるベンゼンのアルキル化、続いて相当するヒドロペルオキシドへのクメンの酸化、次いで等モル量のフェノール及びアセトンを製造するためのヒドロペルオキシドの開裂を伴なう方法を含む。エチルベンゼンは幾つかの異なる化学方法により製造されてもよい。かなりの程度の商業上の成功を達成していた一つの方法は固体の、酸性ZSM-5ゼオライト触媒の存在下のエチレンによるベンゼンの気相アルキル化である。このようなエチルベンゼン製造方法の例が米国特許第3,751,504 号(Keown)、同第4,547,605 号(Kresge) 及び同第4,016,218 号(Haag)に記載されている。
かなりの商業上の成功を達成していた別の方法はベンゼン及びエチレンからのエチルベンゼンの液相製造方法である。何とならば、それが気相相対方法よりも低い温度で作業し、それ故、副生物の一層低い収率を生じる傾向があるからである。例えば、米国特許第4,891,458 号(Innes) はゼオライトベータによるエチルベンゼンの液相合成を記載し、一方、米国特許第5,334,795 号(Chu) はエチルベンゼンの液相合成におけるMCM-22 の使用を記載している。
アルキル芳香族化合物、例えば、エチルベンゼン及びクメンは、スチレンモノマーの製造並びにフェノール及びアセトンの夫々の同時製造のために工業上使用される有益な商品化学薬品である。実際に、フェノールの製造に普通の経路はクメンを製造するためのプロピレンによるベンゼンのアルキル化、続いて相当するヒドロペルオキシドへのクメンの酸化、次いで等モル量のフェノール及びアセトンを製造するためのヒドロペルオキシドの開裂を伴なう方法を含む。エチルベンゼンは幾つかの異なる化学方法により製造されてもよい。かなりの程度の商業上の成功を達成していた一つの方法は固体の、酸性ZSM-5ゼオライト触媒の存在下のエチレンによるベンゼンの気相アルキル化である。このようなエチルベンゼン製造方法の例が米国特許第3,751,504 号(Keown)、同第4,547,605 号(Kresge) 及び同第4,016,218 号(Haag)に記載されている。
かなりの商業上の成功を達成していた別の方法はベンゼン及びエチレンからのエチルベンゼンの液相製造方法である。何とならば、それが気相相対方法よりも低い温度で作業し、それ故、副生物の一層低い収率を生じる傾向があるからである。例えば、米国特許第4,891,458 号(Innes) はゼオライトベータによるエチルベンゼンの液相合成を記載し、一方、米国特許第5,334,795 号(Chu) はエチルベンゼンの液相合成におけるMCM-22 の使用を記載している。
クメンは長年にわたってフリーデル-クラフツ触媒、特に固体リン酸又は塩化アルミニウム上のプロピレンによるベンゼンの液相アルキル化により商業的に製造されていた。しかしながら、更に最近、ゼオライトをベースとする触媒系がクメンへのベンゼンのプロピル化に一層活性かつ選択的であることがわかった。例えば、米国特許第4,992,606 号(Kushnerick) はプロピレンによるベンゼンの液相アルキル化におけるMCM-22の使用を記載している。
アルキル芳香族化合物、例えば、エチルベンゼン及びクメンを製造するための既存のアルキル化方法は、本来、ポリアルキル化種だけでなく、所望のモノアルキル化生成物を製造する。それ故、そのポリアルキル化種をアルキル化反応器に循環することにより、又は、更に頻繁に、ポリアルキル化種を別のトランスアルキル化反応器に供給することにより、ポリアルキル化種を追加の芳香族供給原料、例えば、ベンゼンでトランスアルキル化して追加のモノアルキル化生成物、例えば、エチルベンゼン又はクメンを製造することが通常である。芳香族種のアルキル化、例えば、エチレン又はプロピレンによるベンゼンのアルキル化、またポリアルキル化種、例えば、ポリエチルベンゼン及びポリイソプロピルベンゼンのトランスアルキル化に使用されていた触媒の例が、米国特許第5,557,024 号(Cheng) にリストされており、MCM-49、MCM-22、PSH-3、SSZ-25、ゼオライトＸ、ゼオライトＹ、ゼオライトベータ、酸脱アルミニウム化モルデナイト及びTEA-モルデナイトを含む。また、TEA-モルデナイトの小結晶(<0.5 ミクロン) 形態によるトランスアルキル化が米国特許第6,984,764 号(Roth ら)に開示されている。
アルキル化工程が液相中で行なわれる場合、トランスアルキル化工程を液相条件下で行なうことがまた望ましい。しかしながら、比較的低い温度で作業することにより、液相方法は、特に嵩高のポリアルキル化種が望ましくない副生物を生じないで追加のモノアルキル化生成物に変換される必要があるトランスアルキル化工程で触媒に増大された要件を課する。これは既存の触媒が所望の活性を欠き、又はかなりの量の副生物、例えば、エチルベンゼン及びn-プロピルベンゼンの製造をもたらしていたクメン製造の場合に重大な問題であることが判明していた。
アルキル芳香族化合物、例えば、エチルベンゼン及びクメンを製造するための既存のアルキル化方法は、本来、ポリアルキル化種だけでなく、所望のモノアルキル化生成物を製造する。それ故、そのポリアルキル化種をアルキル化反応器に循環することにより、又は、更に頻繁に、ポリアルキル化種を別のトランスアルキル化反応器に供給することにより、ポリアルキル化種を追加の芳香族供給原料、例えば、ベンゼンでトランスアルキル化して追加のモノアルキル化生成物、例えば、エチルベンゼン又はクメンを製造することが通常である。芳香族種のアルキル化、例えば、エチレン又はプロピレンによるベンゼンのアルキル化、またポリアルキル化種、例えば、ポリエチルベンゼン及びポリイソプロピルベンゼンのトランスアルキル化に使用されていた触媒の例が、米国特許第5,557,024 号(Cheng) にリストされており、MCM-49、MCM-22、PSH-3、SSZ-25、ゼオライトＸ、ゼオライトＹ、ゼオライトベータ、酸脱アルミニウム化モルデナイト及びTEA-モルデナイトを含む。また、TEA-モルデナイトの小結晶(<0.5 ミクロン) 形態によるトランスアルキル化が米国特許第6,984,764 号(Roth ら)に開示されている。
アルキル化工程が液相中で行なわれる場合、トランスアルキル化工程を液相条件下で行なうことがまた望ましい。しかしながら、比較的低い温度で作業することにより、液相方法は、特に嵩高のポリアルキル化種が望ましくない副生物を生じないで追加のモノアルキル化生成物に変換される必要があるトランスアルキル化工程で触媒に増大された要件を課する。これは既存の触媒が所望の活性を欠き、又はかなりの量の副生物、例えば、エチルベンゼン及びn-プロピルベンゼンの製造をもたらしていたクメン製造の場合に重大な問題であることが判明していた。
それ故、アルキル芳香族化合物、特にモノアルキル芳香族化合物を結晶性モレキュラーシーブで製造する新規方法についての要望がある。
或る実施態様において、この開示はEMM-12モレキュラーシーブを含む触媒を使用してモノアルキル芳香族化合物を製造するアルキル化方法に関するものであり、そのEMM-12モレキュラーシーブは、その合成されたままの形態及び焼成された形態で、14.17 〜12.57 Å(約6.15-7.05 °2-θ Cu Kα)の範囲のd-間隔最大、12.1 〜12.56 Å(約7.3-7.05 °2-θ Cu Kα)の範囲のd-間隔最大、及び約8.66〜10.14 Åの区別できない散乱を有するピークを含むＸ線回折パターンを有し、又は10.14 〜12.0 Å(8.7-7.35 °2-θ Cu Kα)の範囲のd-間隔最大及び8.66 〜10.13 Å(10.2-8.7 °2-θ)の範囲のd-間隔最大を有するピークの間に谷を示すが、最低位置でバックグラウンドについて修正された測定強さが10.14 〜12.0 Å(8.7-7.35 °2-θ Cu Kα)の範囲及び8.66 〜10.13 Å(10.2-8.7 °2-θ Cu Kα)の範囲の最大を連結する線上の同じXRDd-間隔における位置の強度の50％以上である。
その他の実施態様において、この開示はEMM-12モレキュラーシーブを含む触媒を使用してモノアルキル芳香族化合物を製造するアルキル化方法に関するものであり、そのEMM-12モレキュラーシーブは、その合成されたままの形態及び焼成された形態で、13.5±0.25、12.33±0.23のd-間隔最大のピーク、及び約8.66〜12.0Åの間の区別できない散乱を含むＸ線回折パターンを有し、又は11.05±0.3 Å及び9.31±0.3Åのピークの間に谷を示すが、最低位置でバックグラウンドについて修正された測定強さが11.05±0.18Å及び9.31±0.13Å付近の最大を連結する線上の同じXRDd-間隔における位置の強度の50％以上である。
更に別の実施態様において、モノアルキル芳香族化合物がエチルベンゼン、クメン及びsec-ブチルベンゼンの少なくとも一種を含む。
更に別の実施態様において、この開示の方法がアルキル化剤をEMM-12を含む触媒の存在下でアルキル化条件下でアルキル化可能な芳香族化合物と接触させてモノアルキル芳香族化合物を生成することを含む。
本発明のこれらの特徴及びその他の特徴が以下の詳細な説明、図面、及び特許請求の範囲から明らかになるべきである。
その他の実施態様において、この開示はEMM-12モレキュラーシーブを含む触媒を使用してモノアルキル芳香族化合物を製造するアルキル化方法に関するものであり、そのEMM-12モレキュラーシーブは、その合成されたままの形態及び焼成された形態で、13.5±0.25、12.33±0.23のd-間隔最大のピーク、及び約8.66〜12.0Åの間の区別できない散乱を含むＸ線回折パターンを有し、又は11.05±0.3 Å及び9.31±0.3Åのピークの間に谷を示すが、最低位置でバックグラウンドについて修正された測定強さが11.05±0.18Å及び9.31±0.13Å付近の最大を連結する線上の同じXRDd-間隔における位置の強度の50％以上である。
更に別の実施態様において、モノアルキル芳香族化合物がエチルベンゼン、クメン及びsec-ブチルベンゼンの少なくとも一種を含む。
更に別の実施態様において、この開示の方法がアルキル化剤をEMM-12を含む触媒の存在下でアルキル化条件下でアルキル化可能な芳香族化合物と接触させてモノアルキル芳香族化合物を生成することを含む。
本発明のこれらの特徴及びその他の特徴が以下の詳細な説明、図面、及び特許請求の範囲から明らかになるべきである。
序論
本明細書で引用された全ての特許、特許出願、試験操作（例えば、ASTM方法、UL方法等）、優先権書類、文献、刊行物、マニュアル、及びその他の書類はこのような開示が本発明と不一致ではない程度に、またこのような組み込みが許されるあらゆる司法権のために参考として完全に含まれる。
数的下限及び数的上限が本明細書にリストされる場合、あらゆる下限からあらゆる上限までの範囲が意図される。開示の例示実施態様が特殊性でもって記載されたが、種々のその他の変更が開示の精神及び範囲から逸脱しないで当業者に明らかであり、当業者により直ぐになし得ることが理解されるであろう。それ故、特許請求の範囲は本明細書に示された実施例及び記載に限定されることは意図されないが、むしろ請求項は開示が関係する当業者によりその均等物として処理される全ての特徴を含む、本開示にある特許可能な新規性の全ての特徴を含むと見なされることが意図される。
この明細書に使用される“フレームワーク型”という用語は“ゼオライトフレームワーク型のアトラス” 2001に記載された意味で使用される。
本明細書に使用される周期律表の族についてのナンバリングスキームはChemical and Engineering News, 63(5), 27 (1985)に使用されるとおりである。
本明細書で引用された全ての特許、特許出願、試験操作（例えば、ASTM方法、UL方法等）、優先権書類、文献、刊行物、マニュアル、及びその他の書類はこのような開示が本発明と不一致ではない程度に、またこのような組み込みが許されるあらゆる司法権のために参考として完全に含まれる。
数的下限及び数的上限が本明細書にリストされる場合、あらゆる下限からあらゆる上限までの範囲が意図される。開示の例示実施態様が特殊性でもって記載されたが、種々のその他の変更が開示の精神及び範囲から逸脱しないで当業者に明らかであり、当業者により直ぐになし得ることが理解されるであろう。それ故、特許請求の範囲は本明細書に示された実施例及び記載に限定されることは意図されないが、むしろ請求項は開示が関係する当業者によりその均等物として処理される全ての特徴を含む、本開示にある特許可能な新規性の全ての特徴を含むと見なされることが意図される。
この明細書に使用される“フレームワーク型”という用語は“ゼオライトフレームワーク型のアトラス” 2001に記載された意味で使用される。
本明細書に使用される周期律表の族についてのナンバリングスキームはChemical and Engineering News, 63(5), 27 (1985)に使用されるとおりである。
Ｘ線粉末回折パターン
格子面間隔、ｄは、オングストローム単位（Å）で計算され、また線の相対強さ、I/Io（この場合、バックグラウンド、Ioより上の最も強い線の強さが、100とカウントされる）は、プロフィールフィッティングルーチン（又は二次微分アルゴリズム）の使用により誘導された。強さはローレンツ効果及び偏光効果について修正されない。相対強さは記号VS=非常に強い (60より大きく、100まで), S=強い (40より大きく、60まで)、M=中間(20より大きく、40まで) 及びW=弱い(0 から20まで)に関して示される。単一線としてリストされた回折データは多くの重なり線（これらは結晶学的変化の差の如き或る条件下で解像され、又は部分的に解像された線として見えるかもしれない）からなってもよいことが理解されるべきである。典型的には、結晶学的変化として、単位セルパラメーターの微小変化及び／又は結晶シンメトリーの変化（構造の変化を含まない）が挙げられる。相対強さの変化を含む、これらの微小効果は、また陽オン含量、フレームワーク組成、孔充填の性質及び程度、並びに熱履歴及び／又は水熱履歴の差異の結果として生じ得る。回折パターンのその他の変化が物質間の重要な差異を示すことができ、これはMCM-22を同様の物質、例えば、MCM-49、MCM-56、及びPSH-3と比較するための場合である。
格子面間隔、ｄは、それらがピーク最大から基準線までの50％強さ値と測定された半分の高さで約1.5°以上のピーク幅を示す場合に広いと考えられた。
本明細書に使用される“XRD区別可能なピーク”という用語は明らかに特定されたピーク最大（これは平均バックグラウンドノイズレベルの少なくとも２倍である）を有するXRDピークと定義される。
本明細書に使用されるXRD中の“区別できない”ピーク（また、“解像されない”ピーク）という用語はそれらの間のモノトーンのプロフィール（ノイズ内の一貫して増大し（又は平らに留まり）、又は減少する（又は平らに留まる）連続点）を有するピークを意味する。
本明細書に使用されるXRD中の“区別できる”ピーク（また“解像された”ピーク）という用語は区別できない（解像されない）ことはない一つ以上のXRDピークを意味する。
図１は実施例１の生成物の５〜11°2-θ のXRDパターンを図示する。10.14 〜12.0 Åの範囲のd-間隔最大と8.66Åから10.13Åまでのd-間隔最大の間の最低位置におけるバックグラウンドについて修正された測定強さ（Ｂと表される）は、最低位置（位置ａ）と最低位置（位置ａ）の同じXRDd-間隔におけるバックグラウンド修正線の線上の位置（位置ｂ）の間の距離である。位置ｂと最低位置の同じXRDd-間隔における10.14〜12.0Åの範囲及び8.66〜10.13の範囲のd-間隔最大を連結する線上の位置（位置ｃ）の間の距離がＡと表される。
格子面間隔、ｄは、オングストローム単位（Å）で計算され、また線の相対強さ、I/Io（この場合、バックグラウンド、Ioより上の最も強い線の強さが、100とカウントされる）は、プロフィールフィッティングルーチン（又は二次微分アルゴリズム）の使用により誘導された。強さはローレンツ効果及び偏光効果について修正されない。相対強さは記号VS=非常に強い (60より大きく、100まで), S=強い (40より大きく、60まで)、M=中間(20より大きく、40まで) 及びW=弱い(0 から20まで)に関して示される。単一線としてリストされた回折データは多くの重なり線（これらは結晶学的変化の差の如き或る条件下で解像され、又は部分的に解像された線として見えるかもしれない）からなってもよいことが理解されるべきである。典型的には、結晶学的変化として、単位セルパラメーターの微小変化及び／又は結晶シンメトリーの変化（構造の変化を含まない）が挙げられる。相対強さの変化を含む、これらの微小効果は、また陽オン含量、フレームワーク組成、孔充填の性質及び程度、並びに熱履歴及び／又は水熱履歴の差異の結果として生じ得る。回折パターンのその他の変化が物質間の重要な差異を示すことができ、これはMCM-22を同様の物質、例えば、MCM-49、MCM-56、及びPSH-3と比較するための場合である。
格子面間隔、ｄは、それらがピーク最大から基準線までの50％強さ値と測定された半分の高さで約1.5°以上のピーク幅を示す場合に広いと考えられた。
本明細書に使用される“XRD区別可能なピーク”という用語は明らかに特定されたピーク最大（これは平均バックグラウンドノイズレベルの少なくとも２倍である）を有するXRDピークと定義される。
本明細書に使用されるXRD中の“区別できない”ピーク（また、“解像されない”ピーク）という用語はそれらの間のモノトーンのプロフィール（ノイズ内の一貫して増大し（又は平らに留まり）、又は減少する（又は平らに留まる）連続点）を有するピークを意味する。
本明細書に使用されるXRD中の“区別できる”ピーク（また“解像された”ピーク）という用語は区別できない（解像されない）ことはない一つ以上のXRDピークを意味する。
図１は実施例１の生成物の５〜11°2-θ のXRDパターンを図示する。10.14 〜12.0 Åの範囲のd-間隔最大と8.66Åから10.13Åまでのd-間隔最大の間の最低位置におけるバックグラウンドについて修正された測定強さ（Ｂと表される）は、最低位置（位置ａ）と最低位置（位置ａ）の同じXRDd-間隔におけるバックグラウンド修正線の線上の位置（位置ｂ）の間の距離である。位置ｂと最低位置の同じXRDd-間隔における10.14〜12.0Åの範囲及び8.66〜10.13の範囲のd-間隔最大を連結する線上の位置（位置ｃ）の間の距離がＡと表される。
EMM-12の組成物
或る実施態様において、EMM-12の組成物は、合成されたままの形態及び焼成された形態で、14.17 〜12.57 Å(約6.15-7.05 °2-θ Cu Kα)の範囲、例えば、13.5±0.25のd-間隔最大、12.1 〜12.56 Å(約7.3-7.05 °2-θ)の範囲、例えば、12.33±0.23のd-間隔最大、及び約8.66〜12.0Åの区別できない散乱を有するピークを含むＸ線回折パターンを有し、又は10.14 〜12.0Å (8.7-7.35 deg 2-θ)の範囲、例えば、11.05±0.3のd-間隔最大、及び8.66〜10.13 Å(10.2-8.7 °2-θ)、例えば、9.31±0.3 Åのd-間隔最大を有するピークの間に谷を示し、その最低位置でバックグラウンドについて修正された測定強さが10.14 〜12.0Å(8.7-7.35 °2-θ) のd-間隔最大及び8.66〜10.13 Å(10.2-8.7 °2-θ)の範囲のd-間隔最大を連結する線上の同じXRDd-間隔における位置の強度の50％以上である。
或る実施態様において、EMM-12の組成物は、合成されたままの形態及び焼成された形態で、13.5±0.25、12.33±0.23のd-間隔最大のピーク、及び約8.85〜11.05 Åの区別できない散乱を含むＸ線回折パターンを有し、又は11.05±0.3 Å及び9.31±0.3 Åのピークの間に谷を示すが、その最低位置でバックグラウンドについて修正された測定強さが11.05±0.18 Å及び9.31±0.13 Å付近の最大を連結する線上の同じXRDd-間隔における位置の強度の50％以上である。
更なる実施態様において、EMM-12の組成物は、合成されたままの形態及び焼成された形態で、3.57 ± 0.06 Å及び3.43 ± 0.06 Åのd-間隔最大のピークを含むＸ線回折パターンを更に有する。更に別の実施態様において、EMM-12の組成物は、合成されたままの形態及び焼成された形態で、6.9±0.15 Åのd-間隔最大のピークを含むＸ線回折パターンを更に有する。更に別の実施態様において、EMM-12の組成物は、合成されたままの形態及び焼成された形態で、3.96 ± 0.08 Åのd-間隔最大のピークを含むＸ線回折パターンを更に有する。
或る実施態様において、EMM-12の組成物は、合成されたままの形態及び焼成された形態で、14.17 〜12.57 Å(約6.15-7.05 °2-θ Cu Kα)の範囲、例えば、13.5±0.25のd-間隔最大、12.1 〜12.56 Å(約7.3-7.05 °2-θ)の範囲、例えば、12.33±0.23のd-間隔最大、及び約8.66〜12.0Åの区別できない散乱を有するピークを含むＸ線回折パターンを有し、又は10.14 〜12.0Å (8.7-7.35 deg 2-θ)の範囲、例えば、11.05±0.3のd-間隔最大、及び8.66〜10.13 Å(10.2-8.7 °2-θ)、例えば、9.31±0.3 Åのd-間隔最大を有するピークの間に谷を示し、その最低位置でバックグラウンドについて修正された測定強さが10.14 〜12.0Å(8.7-7.35 °2-θ) のd-間隔最大及び8.66〜10.13 Å(10.2-8.7 °2-θ)の範囲のd-間隔最大を連結する線上の同じXRDd-間隔における位置の強度の50％以上である。
或る実施態様において、EMM-12の組成物は、合成されたままの形態及び焼成された形態で、13.5±0.25、12.33±0.23のd-間隔最大のピーク、及び約8.85〜11.05 Åの区別できない散乱を含むＸ線回折パターンを有し、又は11.05±0.3 Å及び9.31±0.3 Åのピークの間に谷を示すが、その最低位置でバックグラウンドについて修正された測定強さが11.05±0.18 Å及び9.31±0.13 Å付近の最大を連結する線上の同じXRDd-間隔における位置の強度の50％以上である。
更なる実施態様において、EMM-12の組成物は、合成されたままの形態及び焼成された形態で、3.57 ± 0.06 Å及び3.43 ± 0.06 Åのd-間隔最大のピークを含むＸ線回折パターンを更に有する。更に別の実施態様において、EMM-12の組成物は、合成されたままの形態及び焼成された形態で、6.9±0.15 Åのd-間隔最大のピークを含むＸ線回折パターンを更に有する。更に別の実施態様において、EMM-12の組成物は、合成されたままの形態及び焼成された形態で、3.96 ± 0.08 Åのd-間隔最大のピークを含むＸ線回折パターンを更に有する。
その他の実施態様において、EMM-12の組成物は、合成されたままの形態及び焼成された形態で、13.5±0.25 (M-VS)、12.33±0.23(M-VS)のd-間隔最大及び相対強さのピーク、及び約8.85〜11.05 Å(W-S) の区別できない散乱を含むＸ線回折パターンを有し、又は11.05±0.18 (W-S) Å及び9.31±0.13 (W-S) Åのピーク間に谷を示すが、その最低位置でバックグラウンドについて修正された測定強さが11.05±0.18Å及び9.31±0.13Å付近の最大を連結する線上の同じXRDd-間隔における位置の強度の50％以上である。
表２
表２
その他の実施態様において、EMM-12の組成物は、合成されたままの形態及び焼成された形態で、3.57 ± 0.06 (W-M) Å及び3.43 ± 0.06 (M-VS) Åのd-間隔最大のピークを含むＸ線回折パターンを更に有する。更に別の実施態様において、EMM-12の組成物は、合成されたままの形態及び焼成された形態で、6.9±0.15 Å(W-M,広い)のd-間隔最大のピークを含むＸ線回折パターンを更に有する。更に別の実施態様において、EMM-12の組成物は、合成されたままの形態及び焼成された形態で、3.96 ± 0.08 Å(W-VS,広い)のd-間隔最大のピークを含むＸ線回折パターンを更に有する。
或る好ましい実施態様において、結晶性モレキュラーシーブEMM-12のＸ線回折パターンは表２にリストされたd-間隔最大及び強さのピークを更に有する。
或る実施態様において、この開示の結晶性モレキュラーシーブEMM-12のＸ線回折パターンは28±2 Åのd-間隔最大を更に含む。
或る実施態様において、EMM-12はEMM-10についての約200 μモル/g まで及びMCM-22についての120 μモル/g と較べて、150 μモル/gより大きく、好ましくは200 μモル/gより大きく、更に好ましくは250 μモル/gより大きく、更に一層好ましくは300 μモル/gより大きく、最も好ましくは350 μモル/gより大きい格別高いコリジン価を示す。
合成されたままのEMM-12 及び焼成されたEMM-12の化学組成
この開示の合成されたままのEMM-12モレキュラーシーブ物質は下記の酸化物のモル比に関する組成を有し得る：
10〜無限の範囲又は10〜50の範囲のYO2/X2O3;
0.005-0.1の範囲のM/X2O3; 及び
1-4の範囲のR/X2O3 。
この開示の焼成されたEMM-12モレキュラーシーブ物質は合成されたままのEMM-12を有機鋳型Ｒの少なくとも大半を合成されたままのEMM-12から除去するための焼成条件下で焼成することにより調製し得る。
或る好ましい実施態様において、結晶性モレキュラーシーブEMM-12のＸ線回折パターンは表２にリストされたd-間隔最大及び強さのピークを更に有する。
或る実施態様において、この開示の結晶性モレキュラーシーブEMM-12のＸ線回折パターンは28±2 Åのd-間隔最大を更に含む。
或る実施態様において、EMM-12はEMM-10についての約200 μモル/g まで及びMCM-22についての120 μモル/g と較べて、150 μモル/gより大きく、好ましくは200 μモル/gより大きく、更に好ましくは250 μモル/gより大きく、更に一層好ましくは300 μモル/gより大きく、最も好ましくは350 μモル/gより大きい格別高いコリジン価を示す。
合成されたままのEMM-12 及び焼成されたEMM-12の化学組成
この開示の合成されたままのEMM-12モレキュラーシーブ物質は下記の酸化物のモル比に関する組成を有し得る：
10〜無限の範囲又は10〜50の範囲のYO2/X2O3;
0.005-0.1の範囲のM/X2O3; 及び
1-4の範囲のR/X2O3 。
この開示の焼成されたEMM-12モレキュラーシーブ物質は合成されたままのEMM-12を有機鋳型Ｒの少なくとも大半を合成されたままのEMM-12から除去するための焼成条件下で焼成することにより調製し得る。
EMM-12の製造方法
或る実施態様において、この開示は合成されたままの結晶性モレキュラーシーブEMM-12の製造方法に関するものであり、その方法は
(a) EMM-10-Pファミリー組成物及び酸性組成物、必要によりスペーシング剤を含む混合物を得る工程、
(b) 合成されたままのEMM-12を含む生成物を生成する処理条件でその混合物を処理する工程、及び
(c) 酸処理された結晶性モレキュラーシーブを回収する工程
を含む。
或る好ましい実施態様において、合成されたままのEMM-12が
(1) 10-無限、好ましくは約10から150までの範囲のSi/Al2 を有するEMM-10-P、及び硝酸、硫酸、塩酸、シュウ酸の少なくとも一種を含む酸性組成物（前記酸は10N以下、好ましくは1N未満の濃度を有する）、必要によりジメチルジエトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、及びテトラエチルシラン (TEOS)の少なくとも一種、好ましくはTEOSを含むスペーシング剤を含む混合物を得、そして
(2) 工程(1)の混合物を処理条件で処理することを含む方法により製造され、その処理条件は、必要により0-1000 RPMの範囲の撹拌速度で、1-24時間の範囲の時間にわたって50-170℃の範囲の温度を含む。
工程(a)の混合物はEMM-10-Pファミリー組成物、酸性組成物、そして必要によりスペーシング剤を含み、酸性組成物に対するEMM-10-Pファミリー組成物の固形分の質量比及びEMM-10-Pファミリー組成物の固形分に対するスペーシング剤の質量比が下記の表（表３）にリストされる。処理温度及び処理時間の有益な範囲及び好ましい範囲がまた表３にリストされる。
表３
或る実施態様において、この開示は合成されたままの結晶性モレキュラーシーブEMM-12の製造方法に関するものであり、その方法は
(a) EMM-10-Pファミリー組成物及び酸性組成物、必要によりスペーシング剤を含む混合物を得る工程、
(b) 合成されたままのEMM-12を含む生成物を生成する処理条件でその混合物を処理する工程、及び
(c) 酸処理された結晶性モレキュラーシーブを回収する工程
を含む。
或る好ましい実施態様において、合成されたままのEMM-12が
(1) 10-無限、好ましくは約10から150までの範囲のSi/Al2 を有するEMM-10-P、及び硝酸、硫酸、塩酸、シュウ酸の少なくとも一種を含む酸性組成物（前記酸は10N以下、好ましくは1N未満の濃度を有する）、必要によりジメチルジエトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、及びテトラエチルシラン (TEOS)の少なくとも一種、好ましくはTEOSを含むスペーシング剤を含む混合物を得、そして
(2) 工程(1)の混合物を処理条件で処理することを含む方法により製造され、その処理条件は、必要により0-1000 RPMの範囲の撹拌速度で、1-24時間の範囲の時間にわたって50-170℃の範囲の温度を含む。
工程(a)の混合物はEMM-10-Pファミリー組成物、酸性組成物、そして必要によりスペーシング剤を含み、酸性組成物に対するEMM-10-Pファミリー組成物の固形分の質量比及びEMM-10-Pファミリー組成物の固形分に対するスペーシング剤の質量比が下記の表（表３）にリストされる。処理温度及び処理時間の有益な範囲及び好ましい範囲がまた表３にリストされる。
表３
下記の酸性組成物に対する固形分の質量比が有益な下限である: 0.001、0.01、0.05、0.1、0.5、1、5、10、50、100及び500。下記の酸性組成物に対する固形分の質量比が有益な上限である: 0.01、0.05、0.1、0.5、1、5、10、50、100、500及び1000。酸性組成物に対する固形分質量比は、下限が上限以下である限り、上記下限のいずれか一つ〜上記上限のいずれか一つの範囲にある。酸性組成物に対する固形分質量比は一実施態様において、0.01から100まで、また0.1から10まで、また0.1から５までの範囲の量で存在し得る。
下記の比が固形分に対するスペーシング剤の質量比の有益な下限である: 0、0.001、0.01、0.05、0.1、0.5、1、及び1.5。下記の比が固形分に対するスペーシング剤の質量比の有益な上限である: 0.001、0.01、0.05、0.1、0.5、1、1.5、及び2。固形分に対するスペーシング剤の質量比は、固形分に対するスペーシング剤の質量比の下限が固形分に対するスペーシング剤の質量比の上限以下である限り、上記の固形分に対するスペーシング剤の質量比の下限のいずれか一つ〜上記の固形分に対するスペーシング剤の質量比の上限のいずれか一つの範囲にある。固形分に対するスペーシング剤質量比は一実施態様において、０から２まで、また０から１まで、また0.1から0.5までの範囲の量で存在し得る。
下記の温度 (℃) が有益な処理温度下限である: 25、50、60、70、80、90、100、110、120、130、140、150、160、170、及び200。下記の温度 (℃) が有益な処理温度上限である: 50、60、70、80、90、100、110、120、130、140、150、160、170、180、190、200、210、220、230、240、及び250。処理温度 (℃) は、処理温度下限が処理温度上限以下である限り、上記処理温度下限のいずれか一つ〜上記処理温度上限のいずれか一つの範囲内にある。処理温度は一実施態様において25℃から250℃まで、また70℃から200℃まで、また90℃から170℃までの範囲の量で存在し得る。
下記の時間 (hr) が処理に有益な時間下限である: 0.01、1、5、10、20、30、50、100、及び150。下記の時間 (hr) が処理に有益な時間上限である：1、5、10、20、40、50、70、100、150、200、及び240。処理のための時間 (hr) は、処理のための時間下限が処理のための時間上限以下である限り、処理のための上記時間下限のいずれか一つ〜処理のための上記時間上限のいずれか一つの範囲内にある。処理のための時間は一実施態様において１から100まで、また１から48まで、また１から24までの範囲の量で存在し得る。
下記の比が固形分に対するスペーシング剤の質量比の有益な下限である: 0、0.001、0.01、0.05、0.1、0.5、1、及び1.5。下記の比が固形分に対するスペーシング剤の質量比の有益な上限である: 0.001、0.01、0.05、0.1、0.5、1、1.5、及び2。固形分に対するスペーシング剤の質量比は、固形分に対するスペーシング剤の質量比の下限が固形分に対するスペーシング剤の質量比の上限以下である限り、上記の固形分に対するスペーシング剤の質量比の下限のいずれか一つ〜上記の固形分に対するスペーシング剤の質量比の上限のいずれか一つの範囲にある。固形分に対するスペーシング剤質量比は一実施態様において、０から２まで、また０から１まで、また0.1から0.5までの範囲の量で存在し得る。
下記の温度 (℃) が有益な処理温度下限である: 25、50、60、70、80、90、100、110、120、130、140、150、160、170、及び200。下記の温度 (℃) が有益な処理温度上限である: 50、60、70、80、90、100、110、120、130、140、150、160、170、180、190、200、210、220、230、240、及び250。処理温度 (℃) は、処理温度下限が処理温度上限以下である限り、上記処理温度下限のいずれか一つ〜上記処理温度上限のいずれか一つの範囲内にある。処理温度は一実施態様において25℃から250℃まで、また70℃から200℃まで、また90℃から170℃までの範囲の量で存在し得る。
下記の時間 (hr) が処理に有益な時間下限である: 0.01、1、5、10、20、30、50、100、及び150。下記の時間 (hr) が処理に有益な時間上限である：1、5、10、20、40、50、70、100、150、200、及び240。処理のための時間 (hr) は、処理のための時間下限が処理のための時間上限以下である限り、処理のための上記時間下限のいずれか一つ〜処理のための上記時間上限のいずれか一つの範囲内にある。処理のための時間は一実施態様において１から100まで、また１から48まで、また１から24までの範囲の量で存在し得る。
(1) EMM-10-P ファミリー組成物
本明細書で使用されるEMM-10-P ファミリー組成物は米国特許出願第11/823,129 号(その全部が参考として本明細書に含まれる) に開示されたEMM-10-P組成物及び米国特許出願第11/827,953 号(その全部が参考として本明細書に含まれる) に開示された合成されたままのMCM-22ファミリーモレキュラーシーブ組成物の少なくとも一種を含む。
EMM-10-P 組成物は、その合成されたままの形態で、13.18±0.25 Å及び12.33±0.23 Åのd-間隔最大を含むＸ線回折パターンを有する、EMM-10-Pと称される、結晶性モレキュラーシーブに関するものであり、13.18±0.25 Åのd-間隔最大のピーク強さが12.33±0.23 Åのd-間隔最大のピーク強さの少なくとも90％程度に大きい。加えて、EMM-10-P モレキュラーシーブのＸ線回折パターンは11.06±0.18 Å及び9.25±0.13 Åのd-間隔最大を含む二つのXRDの区別できるピークを更に含み、11.06±0.18 Åのd-間隔最大のピーク強さが9.25±0.13 Åのd-間隔最大のピーク強さと少なくとも同じ程大きい。更に、11.06±0.18 Å及び9.25±0.13 Åのd-間隔最大を含むピークが区別できないピークであってもよい。
更に、EMM-10-P はN2 BET 方法により測定して450 m2/g より大きい全表面積を有し、好ましくは硝酸アンモニウムとの交換によるH-形態への変換及び焼成後に0.15未満の全表面積に対する外表面積の比を有する結晶性MCM-22ファミリーモレキュラーシーブに関するものであり、その外表面積がN2 BETのt-プロットにより測定される。
更に、EMM-10-P は管状の性質の形態を有するMCM-22 ファミリーの結晶性モレキュラーシーブに関するものであり、その結晶性モレキュラーシーブの少なくとも50質量％がSEMにより測定して１μｍより大きく、好ましくはSEMにより測定して２μｍより大きい結晶直径を有し、好ましくはその結晶性モレキュラーシーブの少なくとも50質量％がSEMにより測定して約0.025μｍの結晶厚さを有する。
米国特許出願第11/827,953号（その全部が参考として本明細書に含まれる）は、その合成されたままの形態で、12.33±0.23 Åのd-間隔最大のピーク、12.57〜約14.17 Åのd-間隔最大の区別できるピーク及び8.8 〜11Åのd-間隔最大の区別できないピークを含むＸ線回折パターンを有する新規結晶性MCM-22ファミリーモレキュラーシーブを開示しており、12.57 〜約14.17 Åのd-間隔最大のピーク強さが12.33±0.23 Åのd-間隔最大のピーク強さの90％より小さい。
米国特許出願第11/827,953号に開示されたEMM-10-P は表４にリストされるモル比の組成を有する混合物を結晶化することによりつくられてもよい。
表４
本明細書で使用されるEMM-10-P ファミリー組成物は米国特許出願第11/823,129 号(その全部が参考として本明細書に含まれる) に開示されたEMM-10-P組成物及び米国特許出願第11/827,953 号(その全部が参考として本明細書に含まれる) に開示された合成されたままのMCM-22ファミリーモレキュラーシーブ組成物の少なくとも一種を含む。
EMM-10-P 組成物は、その合成されたままの形態で、13.18±0.25 Å及び12.33±0.23 Åのd-間隔最大を含むＸ線回折パターンを有する、EMM-10-Pと称される、結晶性モレキュラーシーブに関するものであり、13.18±0.25 Åのd-間隔最大のピーク強さが12.33±0.23 Åのd-間隔最大のピーク強さの少なくとも90％程度に大きい。加えて、EMM-10-P モレキュラーシーブのＸ線回折パターンは11.06±0.18 Å及び9.25±0.13 Åのd-間隔最大を含む二つのXRDの区別できるピークを更に含み、11.06±0.18 Åのd-間隔最大のピーク強さが9.25±0.13 Åのd-間隔最大のピーク強さと少なくとも同じ程大きい。更に、11.06±0.18 Å及び9.25±0.13 Åのd-間隔最大を含むピークが区別できないピークであってもよい。
更に、EMM-10-P はN2 BET 方法により測定して450 m2/g より大きい全表面積を有し、好ましくは硝酸アンモニウムとの交換によるH-形態への変換及び焼成後に0.15未満の全表面積に対する外表面積の比を有する結晶性MCM-22ファミリーモレキュラーシーブに関するものであり、その外表面積がN2 BETのt-プロットにより測定される。
更に、EMM-10-P は管状の性質の形態を有するMCM-22 ファミリーの結晶性モレキュラーシーブに関するものであり、その結晶性モレキュラーシーブの少なくとも50質量％がSEMにより測定して１μｍより大きく、好ましくはSEMにより測定して２μｍより大きい結晶直径を有し、好ましくはその結晶性モレキュラーシーブの少なくとも50質量％がSEMにより測定して約0.025μｍの結晶厚さを有する。
米国特許出願第11/827,953号（その全部が参考として本明細書に含まれる）は、その合成されたままの形態で、12.33±0.23 Åのd-間隔最大のピーク、12.57〜約14.17 Åのd-間隔最大の区別できるピーク及び8.8 〜11Åのd-間隔最大の区別できないピークを含むＸ線回折パターンを有する新規結晶性MCM-22ファミリーモレキュラーシーブを開示しており、12.57 〜約14.17 Åのd-間隔最大のピーク強さが12.33±0.23 Åのd-間隔最大のピーク強さの90％より小さい。
米国特許出願第11/827,953号に開示されたEMM-10-P は表４にリストされるモル比の組成を有する混合物を結晶化することによりつくられてもよい。
表４
結晶化後に、EMM-10-P 生成物は表５にリストされるモル比の組成を有する。
表５
表５
米国特許出願第11/827,953号（その全部が参考として本明細書に含まれる）は、新規結晶性MCM-22ファミリーモレキュラーシーブを開示している。米国特許出願第11/827,953 号に開示された合成されたままの組成物は、その合成されたままの形態で、12.33±0.23 Åのd-間隔最大のピーク、12.57 〜約14.17 Åのd-間隔最大の区別できるピーク及び8.8 〜11Åのd-間隔最大の区別できないピークを含むＸ線回折パターンを有する新規結晶性MCM-22ファミリーモレキュラーシーブであり、12.57 〜約14.17 Åのd-間隔最大のピーク強さが12.33±0.23 Åのd-間隔最大のピーク強さの90％より小さい。米国特許出願第11/827,953 号の合成されたままの組成物は3.57±0.06 Å及び3.43±0.06 Åのd-間隔最大及び／又は28±1 Åのd-間隔最大のXRDピークを更に含んでもよい。
更に、米国特許出願第11/827,953 号の合成されたままの組成物のＸ線回折パターンは表６に実質的に示されるような値及び相対強さを含む。
表６
更に、米国特許出願第11/827,953 号の合成されたままの組成物のＸ線回折パターンは表６に実質的に示されるような値及び相対強さを含む。
表６
酸性組成物に対するEMM-10-Pファミリー組成物の固形分の質量比及びEMM-10-Pファミリー組成物の固形分に対するスペーシング剤の質量比に使用されるEMM-10-P ファミリー組成物の固形分はEMM-10-P ファミリー組成物中の４価の元素の酸化物及び３価の元素の酸化物の合成質量により計算される。
(2) 酸性組成物
この開示に有益な酸性組成物は酸性溶質及び溶媒を含む。酸性溶質は無機酸、例えば、硝酸、塩酸及び硫酸、並びに有機酸、例えば、シュウ酸及び酢酸の少なくとも一種、又は無機酸と有機酸のあらゆる組み合わせを含む。酸性溶質が硝酸であることが好ましい。溶媒は水、メタノール、エタノール、アセトン及びジメチルスルホン(DMSO)の少なくとも一種を含む。
酸性組成物の酸濃度は0.001〜10の範囲である。下記の酸濃度が有益な下限である: 0.001、0.01、0.05、0.1、0.5、1、2、3、4、5、6、7、8、及び9。下記の酸濃度が有益な上限である: 0.01、0.05、0.1、0.5、1、2、3、4、5、6、7、8、9、及び10。酸濃度は、下限が上限以下である限り、上記下限のいずれか一つ〜上記上限のいずれか一つの範囲内にある。酸濃度は一実施態様において0.001から５まで、また0.01から４まで、また0.1から２までの範囲の量で存在し得る。
酸性組成物に対する固形分質量比中に使用される酸性組成物の質量は酸性溶質と溶媒の合計質量に基づいて計算される。
(2) 酸性組成物
この開示に有益な酸性組成物は酸性溶質及び溶媒を含む。酸性溶質は無機酸、例えば、硝酸、塩酸及び硫酸、並びに有機酸、例えば、シュウ酸及び酢酸の少なくとも一種、又は無機酸と有機酸のあらゆる組み合わせを含む。酸性溶質が硝酸であることが好ましい。溶媒は水、メタノール、エタノール、アセトン及びジメチルスルホン(DMSO)の少なくとも一種を含む。
酸性組成物の酸濃度は0.001〜10の範囲である。下記の酸濃度が有益な下限である: 0.001、0.01、0.05、0.1、0.5、1、2、3、4、5、6、7、8、及び9。下記の酸濃度が有益な上限である: 0.01、0.05、0.1、0.5、1、2、3、4、5、6、7、8、9、及び10。酸濃度は、下限が上限以下である限り、上記下限のいずれか一つ〜上記上限のいずれか一つの範囲内にある。酸濃度は一実施態様において0.001から５まで、また0.01から４まで、また0.1から２までの範囲の量で存在し得る。
酸性組成物に対する固形分質量比中に使用される酸性組成物の質量は酸性溶質と溶媒の合計質量に基づいて計算される。
(3) 任意のスペーシング剤
必要により、酸処理工程はまたスペーシング剤を含む。有益なスペーシング剤は膨張された形態（即ち、合成されたままの形態及び焼成された形態の両方で13.5±0.25に特有の (002) ピークを有する）の前駆体を安定化し得るケイ素部分を与えることができるあらゆる薬剤である。
スペーシングのための化合物の例として、４価の元素、３価の元素の有機化合物、及び／又は５価の化合物、例えば、有機ケイ素化合物、有機ゲルマニウム化合物、有機チタン化合物、有機ホウ素化合物、有機アルミニウム化合物、及び有機リン化合物が挙げられる。有機ケイ素化合物はシリコーンを含むポリシロキサン、シロキサン、並びにジシラン及びアルコキシシランを含むシランを含んでもよい。
本発明に使用し得るシリコーン化合物として、下記の式の化合物が挙げられる。
必要により、酸処理工程はまたスペーシング剤を含む。有益なスペーシング剤は膨張された形態（即ち、合成されたままの形態及び焼成された形態の両方で13.5±0.25に特有の (002) ピークを有する）の前駆体を安定化し得るケイ素部分を与えることができるあらゆる薬剤である。
スペーシングのための化合物の例として、４価の元素、３価の元素の有機化合物、及び／又は５価の化合物、例えば、有機ケイ素化合物、有機ゲルマニウム化合物、有機チタン化合物、有機ホウ素化合物、有機アルミニウム化合物、及び有機リン化合物が挙げられる。有機ケイ素化合物はシリコーンを含むポリシロキサン、シロキサン、並びにジシラン及びアルコキシシランを含むシランを含んでもよい。
本発明に使用し得るシリコーン化合物として、下記の式の化合物が挙げられる。
式中、R1 は水素、フッ化物、ヒドロキシ、アルキル、アラルキル、アルカリール又はフルオロ-アルキルである。炭化水素置換基は一般に１個から約10個までの炭素原子を含み、メチル基又はエチル基であることが好ましい。R2 はR1と同じ基から選ばれ、かつｎは少なくとも２、一般に２から約1000までの範囲の整数である。使用されるシリコーン化合物の分子量は一般に約80〜約20,000 、好ましくは約150〜10,000である。代表的なシリコーン化合物として、ジメチルシリコーン、ジエチルシリコーン、フェニルメチルシリコーン、メチル水素シリコーン、エチル水素シリコーン、フェニル水素シリコーン、フルオロプロピルシリコーン、エチルトリフルオロプロピルシリコーン、テトラクロロフェニルメチルメチルエチルシリコーン、フェニルエチルシリコーン、ジフェニルシリコーン、メチルトリシリコーン、テトラクロロフェニルエチルシリコーン、メチルビニルシリコーン及びエチルビニルシリコーンが挙げられる。シリコーン化合物は線状である必要はないが、例えば、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、ヘキサフェニルシクロトリシロキサン及びオクタフェニルシクロテトラシロキサンのように環状であってもよい。これらの化合物の混合物だけでなく、その他の官能基を有するシリコーンがまた使用されてもよい。
有益なシロキサン及びポリシロキサンとして、非限定例として、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、デカメチルテトラシロキサン、ヘキサエチルシクロトリシロキサン、オクタエチルシクロテトラシロキサン、ヘプタフェニルシクロトリシロキサン及びオクタフェニルシクロテトラシロキサンが挙げられる。
有益なシラン、ジシラン、又はアルコキシシランとして、下記の一般式を有する有機置換シランが挙げられる。
有益なシロキサン及びポリシロキサンとして、非限定例として、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、デカメチルテトラシロキサン、ヘキサエチルシクロトリシロキサン、オクタエチルシクロテトラシロキサン、ヘプタフェニルシクロトリシロキサン及びオクタフェニルシクロテトラシロキサンが挙げられる。
有益なシラン、ジシラン、又はアルコキシシランとして、下記の一般式を有する有機置換シランが挙げられる。
式中、Ｒは反応性基、例えば、水素、アルコキシ、ハロゲン、カルボキシ、アミノ、アセトアミド、トリアルキルシリルオキシであり、R1、R2 及びR3 はＲと同じであってもよく、又は有機基［これは１個から約40個までの炭素原子のアルキル、アルキル又はアリールカルボン酸（そのアルキルの有機部分は１個から約30個までの炭素原子を含み、またそのアリール基は約６個から約24個までの炭素を含み、これは更に置換されていてもよい）、約７個から約30個までの炭素原子を含むアルキルアリール基及びアリールアルキル基を含んでもよい］であってもよい。アルキルシランのアルキル基は鎖長中に約１個〜約４個の炭素原子であることが好ましい。混合物がまた使用されてもよい。
シラン又はジシランとして、非限定例として、ジメチルフェニルシラン、フェニルトリメチルシラン、トリエチルシラン及びヘキサメチルジシランが挙げられる。有益なアルコキシシランは少なくとも１個のケイ素-水素結合を有するものである。
アルキル化方法
本明細書で供給原料として有益であり得るアルキル化可能な芳香族化合物に関する“芳香族”という用語はその当業界で認められる範囲に従って理解されるべきである。これはアルキル置換及び未置換の単核化合物及び多核化合物を含む。ヘテロ原子を有する芳香族特徴の化合物がまた有益であり得るが、但し、充分な触媒活性が選ばれた反応条件下で維持されることを条件とする。
本明細書でアルキル化し得る置換芳香族化合物はその芳香族核に直接結合された少なくとも１個の水素原子を有する必要がある。芳香族環は１個以上のアルキル、アリール、アルカリール、アルコキシ、アリールオキシ、シクロアルキル、ハライド、及び／又はそのアルキル化反応を妨害しないその他の基で置換し得る。
好適な芳香族化合物として、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、ナフタセン、ペリーレン、コロネン、及びフェナントレンが挙げられ、ベンゼンが好ましい。
シラン又はジシランとして、非限定例として、ジメチルフェニルシラン、フェニルトリメチルシラン、トリエチルシラン及びヘキサメチルジシランが挙げられる。有益なアルコキシシランは少なくとも１個のケイ素-水素結合を有するものである。
アルキル化方法
本明細書で供給原料として有益であり得るアルキル化可能な芳香族化合物に関する“芳香族”という用語はその当業界で認められる範囲に従って理解されるべきである。これはアルキル置換及び未置換の単核化合物及び多核化合物を含む。ヘテロ原子を有する芳香族特徴の化合物がまた有益であり得るが、但し、充分な触媒活性が選ばれた反応条件下で維持されることを条件とする。
本明細書でアルキル化し得る置換芳香族化合物はその芳香族核に直接結合された少なくとも１個の水素原子を有する必要がある。芳香族環は１個以上のアルキル、アリール、アルカリール、アルコキシ、アリールオキシ、シクロアルキル、ハライド、及び／又はそのアルキル化反応を妨害しないその他の基で置換し得る。
好適な芳香族化合物として、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、ナフタセン、ペリーレン、コロネン、及びフェナントレンが挙げられ、ベンゼンが好ましい。
芳香族化合物に置換基として存在し得るアルキル基は一般に１個から約22個までの炭素原子、通常約１個から８個までの炭素原子、最も通常約１個から４個までの炭素原子を含む。
好適なアルキル置換芳香族化合物として、トルエン、キシレン、イソプロピルベンゼン、n-プロピルベンゼン、α-メチルナフタレン、エチルベンゼン、メシチレン、ジュレン、シメン、ブチルベンゼン、シュードクメン、o-ジエチルベンゼン、m-ジエチルベンゼン、p-ジエチルベンゼン、イソアミルベンゼン、イソヘキシルベンゼン、ペンタエチルベンゼン、ペンタメチルベンゼン；1,2,3,4-テトラエチルベンゼン；1,2,3,5-テトラメチルベンゼン；1,2,4-トリエチルベンゼン；1,2,3-トリメチルベンゼン、m-ブチルトルエン；p-ブチルトルエン；3,5-ジエチルトルエン；o-エチルトルエン；p-エチルトルエン；m-プロピルトルエン；4-エチル-m-キシレン；ジメチルナフタレン；エチルナフタレン；2,3-ジメチルアントラセン；9-エチルアントラセン；2-メチルアントラセン；o-メチルアントラセン；9,10-ジメチルフェナントレン；及び3-メチル-フェナントレンが挙げられる。高分子量アルキル芳香族化合物がまた出発物質として使用でき、オレフィンオリゴマーによる芳香族有機化合物のアルキル化により生成されるような芳香族有機化合物を含む。このような生成物は当業界でアルキレートと頻繁に称され、ヘキシルベンゼン、ノニルベンゼン、ドデシルベンゼン、ペンタデシルベンゼン、ヘキシルトルエン、ノニルトルエン、ドデシルトルエン、ペンタデシルトルエン等を含む。非常にしばしば、アルキレートが高沸点留分として得られ、この場合、その芳香族核に結合されたアルキル基が約C6 から約C12までサイズを変化する。クメン又はエチルベンゼンが所望の生成物である場合、本方法は許容できる程少ない副生物、例えば、n-プロピルベンゼン及びキシレンを夫々生じる。このような場合につくられたこれらの副生物は100 wppm未満であり得る。
ベンゼン、トルエン及び／又はキシレンの混合物を含むリフォーメート(reformate)がこの開示のアルキル化方法に特に有益な供給原料を構成する。
この開示の方法に有益であり得るアルキル化剤として、一般にアルキル化可能な芳香族化合物、好ましくは１個から５個までの炭素原子を有するアルキル化基と反応し得る１個以上の利用できるアルキル化脂肪族基を有するあらゆる脂肪族又は芳香族有機化合物が挙げられる。好適なアルキル化剤の例はオレフィン、例えば、エチレン、プロピレン、ブテン、例えば、1-ブテン、2-ブテン又はイソブチレン、及びペンテン；アルコール（モノアルコール、ジアルコール、トリアルコール等を含む）、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、及びペンタノール；アルデヒド、例えば、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド、及びn-バレルアルデヒド；並びにアルキルハライド、例えば、塩化メチル、塩化エチル、塩化プロピル、塩化ブチル、及び塩化ペンチル、アルキル芳香族化合物、例えば、トリメチルベンゼン、ジエチルベンゼン、トリエチルベンゼン等である。これらの化合物の混合物、例えば、プロピレンとプロパノール混合物がまた有益であり得る。
好適なアルキル置換芳香族化合物として、トルエン、キシレン、イソプロピルベンゼン、n-プロピルベンゼン、α-メチルナフタレン、エチルベンゼン、メシチレン、ジュレン、シメン、ブチルベンゼン、シュードクメン、o-ジエチルベンゼン、m-ジエチルベンゼン、p-ジエチルベンゼン、イソアミルベンゼン、イソヘキシルベンゼン、ペンタエチルベンゼン、ペンタメチルベンゼン；1,2,3,4-テトラエチルベンゼン；1,2,3,5-テトラメチルベンゼン；1,2,4-トリエチルベンゼン；1,2,3-トリメチルベンゼン、m-ブチルトルエン；p-ブチルトルエン；3,5-ジエチルトルエン；o-エチルトルエン；p-エチルトルエン；m-プロピルトルエン；4-エチル-m-キシレン；ジメチルナフタレン；エチルナフタレン；2,3-ジメチルアントラセン；9-エチルアントラセン；2-メチルアントラセン；o-メチルアントラセン；9,10-ジメチルフェナントレン；及び3-メチル-フェナントレンが挙げられる。高分子量アルキル芳香族化合物がまた出発物質として使用でき、オレフィンオリゴマーによる芳香族有機化合物のアルキル化により生成されるような芳香族有機化合物を含む。このような生成物は当業界でアルキレートと頻繁に称され、ヘキシルベンゼン、ノニルベンゼン、ドデシルベンゼン、ペンタデシルベンゼン、ヘキシルトルエン、ノニルトルエン、ドデシルトルエン、ペンタデシルトルエン等を含む。非常にしばしば、アルキレートが高沸点留分として得られ、この場合、その芳香族核に結合されたアルキル基が約C6 から約C12までサイズを変化する。クメン又はエチルベンゼンが所望の生成物である場合、本方法は許容できる程少ない副生物、例えば、n-プロピルベンゼン及びキシレンを夫々生じる。このような場合につくられたこれらの副生物は100 wppm未満であり得る。
ベンゼン、トルエン及び／又はキシレンの混合物を含むリフォーメート(reformate)がこの開示のアルキル化方法に特に有益な供給原料を構成する。
この開示の方法に有益であり得るアルキル化剤として、一般にアルキル化可能な芳香族化合物、好ましくは１個から５個までの炭素原子を有するアルキル化基と反応し得る１個以上の利用できるアルキル化脂肪族基を有するあらゆる脂肪族又は芳香族有機化合物が挙げられる。好適なアルキル化剤の例はオレフィン、例えば、エチレン、プロピレン、ブテン、例えば、1-ブテン、2-ブテン又はイソブチレン、及びペンテン；アルコール（モノアルコール、ジアルコール、トリアルコール等を含む）、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、及びペンタノール；アルデヒド、例えば、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド、及びn-バレルアルデヒド；並びにアルキルハライド、例えば、塩化メチル、塩化エチル、塩化プロピル、塩化ブチル、及び塩化ペンチル、アルキル芳香族化合物、例えば、トリメチルベンゼン、ジエチルベンゼン、トリエチルベンゼン等である。これらの化合物の混合物、例えば、プロピレンとプロパノール混合物がまた有益であり得る。
軽質オレフィンの混合物がこの開示のアルキル化方法におけるアルキル化剤として有益である。従って、種々の製油所流、例えば、燃料ガス、ガスプラントオフガス（エチレン、プロピレン等を含む）、ナフサクラッカーオフガス（軽質オレフィンを含む）、製油所FCCプロパン／プロピレン流等の主成分であるエチレン、プロピレン、ブテン、及び／又はペンテンの混合物が有益なアルキル化剤である。例えば、典型的なFCC軽質オレフィン流は下記の組成を有する。
質量％ モル％
エタン 3.3 5.1
エチレン 0.7 1.2
プロパン 4.5 15.3
プロピレン 42.5 46.8
イソブタン 12.9 10.3
n-ブタン 3.3 2.6
ブテン 22.1 18.32
ペンタン 0.7 0.4
本開示の方法から得られる反応生成物として、ベンゼンとエチレンの反応からのエチルベンゼン、ベンゼンとプロピレンの反応からのクメン、トルエンとエチレンの反応からのエチルトルエン、トルエンとプロピレンの反応からのシメン、及びベンゼンとn-ブテンの反応からのsec-ブチルベンゼンが挙げられる。その開示の特に好ましいプロセスメカニズムはプロピレンによるベンゼンのアルキル化によるクメンの製造及びエチレンによるベンゼンのアルキル化によるエチルベンゼンの製造に関する。
質量％ モル％
エタン 3.3 5.1
エチレン 0.7 1.2
プロパン 4.5 15.3
プロピレン 42.5 46.8
イソブタン 12.9 10.3
n-ブタン 3.3 2.6
ブテン 22.1 18.32
ペンタン 0.7 0.4
本開示の方法から得られる反応生成物として、ベンゼンとエチレンの反応からのエチルベンゼン、ベンゼンとプロピレンの反応からのクメン、トルエンとエチレンの反応からのエチルトルエン、トルエンとプロピレンの反応からのシメン、及びベンゼンとn-ブテンの反応からのsec-ブチルベンゼンが挙げられる。その開示の特に好ましいプロセスメカニズムはプロピレンによるベンゼンのアルキル化によるクメンの製造及びエチレンによるベンゼンのアルキル化によるエチルベンゼンの製造に関する。
反応体は液相中に部分的又は完全にあってもよく、ニートであってもよく、即ち、その他の物質との意図的な混合物又は希釈を含まなくてもよく、又はそれらはキャリヤーガスもしくは希釈剤、例えば、水素、メタン及び／又は窒素の助けにより触媒組成物と接触し得る。
この開示のアルキル化方法は有機反応体、即ち、アルキル化可能な芳香族化合物及びアルキル化剤が好適な反応ゾーン中で有効なアルキル化条件下で現在必要とされる触媒と接触させられるように行なわれてもよい。このような条件は約０℃から約500℃まで、好ましくは約10℃から約260℃までの温度、約20kPa-aから約25000kPa-aまで、好ましくは約100kPa-aから約5500kPa-aまでの圧力、約0.1:1から約50:1まで、好ましくは約0.5:1から約10:1までのアルキル化可能な芳香族化合物対アルキル化剤のモル比、及び約0.1hr-1から500hr-1まで、好ましくは約0.1hr-1から約100hr-1までの毎時の供給質量空間速度(WHSV)（アルキル化剤を基準とする）を含む。
ベンゼンがエチレンでアルキル化されてエチルベンゼンを生成する場合、そのアルキル化反応は液相中で約150℃から約300℃まで、更に好ましくは約170℃から約260℃までの温度；約20400kPa-aまで、更に好ましくは約2000kPa-aから約5500kPa-aまでの圧力；約0.1hr-1から約20hr-1まで、更に好ましくは約0.5hr-1から約6hr-1までの毎時の質量空間速度(WHSV)（エチレンアルキル化剤を基準とする）；及び約0.5:1から約100:1まで（モル比）、好ましくは0.5:1から50:1まで（モル比）、更に好ましくは約1:1から約30:1まで（モル比）、最も好ましくは約1:1から約10:1まで（モル比）のアルキル化反応ゾーン中のベンゼン対エチレンの比を含む条件下で行なわれることが好ましい。
ベンゼンがプロピレンでアルキル化されてクメンを生成する場合、その反応はまた約250℃まで、好ましくは約150℃まで、例えば、約10℃から約125℃までの温度；約25000kPa-a以下、例えば、約100kPa-aから約3000kPa-aまでの圧力；約0.1hr-1から約25hr-1まで、好ましくは約1hr-1から約50hr-1までの毎時の質量空間速度(WHSV)（プロピレンアルキル化剤を基準とする）；及び約0.5:1から約100:1まで（モル比）、好ましくは0.5:1から50:1まで（モル比）、更に好ましくは約1:1から約30:1まで（モル比）、最も好ましくは約1:1から約10:1まで（モル比）のアルキル化反応ゾーン中のベンゼン対プロピレンの比を含む液相条件下で行なわれてもよい。
この開示のアルキル化方法は有機反応体、即ち、アルキル化可能な芳香族化合物及びアルキル化剤が好適な反応ゾーン中で有効なアルキル化条件下で現在必要とされる触媒と接触させられるように行なわれてもよい。このような条件は約０℃から約500℃まで、好ましくは約10℃から約260℃までの温度、約20kPa-aから約25000kPa-aまで、好ましくは約100kPa-aから約5500kPa-aまでの圧力、約0.1:1から約50:1まで、好ましくは約0.5:1から約10:1までのアルキル化可能な芳香族化合物対アルキル化剤のモル比、及び約0.1hr-1から500hr-1まで、好ましくは約0.1hr-1から約100hr-1までの毎時の供給質量空間速度(WHSV)（アルキル化剤を基準とする）を含む。
ベンゼンがエチレンでアルキル化されてエチルベンゼンを生成する場合、そのアルキル化反応は液相中で約150℃から約300℃まで、更に好ましくは約170℃から約260℃までの温度；約20400kPa-aまで、更に好ましくは約2000kPa-aから約5500kPa-aまでの圧力；約0.1hr-1から約20hr-1まで、更に好ましくは約0.5hr-1から約6hr-1までの毎時の質量空間速度(WHSV)（エチレンアルキル化剤を基準とする）；及び約0.5:1から約100:1まで（モル比）、好ましくは0.5:1から50:1まで（モル比）、更に好ましくは約1:1から約30:1まで（モル比）、最も好ましくは約1:1から約10:1まで（モル比）のアルキル化反応ゾーン中のベンゼン対エチレンの比を含む条件下で行なわれることが好ましい。
ベンゼンがプロピレンでアルキル化されてクメンを生成する場合、その反応はまた約250℃まで、好ましくは約150℃まで、例えば、約10℃から約125℃までの温度；約25000kPa-a以下、例えば、約100kPa-aから約3000kPa-aまでの圧力；約0.1hr-1から約25hr-1まで、好ましくは約1hr-1から約50hr-1までの毎時の質量空間速度(WHSV)（プロピレンアルキル化剤を基準とする）；及び約0.5:1から約100:1まで（モル比）、好ましくは0.5:1から50:1まで（モル比）、更に好ましくは約1:1から約30:1まで（モル比）、最も好ましくは約1:1から約10:1まで（モル比）のアルキル化反応ゾーン中のベンゼン対プロピレンの比を含む液相条件下で行なわれてもよい。
ベンゼンがブテンでアルキル化されてsec-ブチルベンゼンを生成する場合、その反応はまた約250℃まで、好ましくは約150℃まで、例えば、約10℃から約125℃までの温度；約25000kPa-a以下、例えば、約1kPa-aから約3000kPa-aまでの圧力；約0.1hr-1から約250hr-1まで、好ましくは約1hr-1から約50hr-1までの毎時の質量空間速度(WHSV)（ブテンアルキル化剤を基準とする）；及び約0.5:1から約100:1まで（モル比）、好ましくは0.5:1から50:1まで（モル比）、更に好ましくは約1:1から約30:1まで（モル比）、最も好ましくは約1:1から約10:1まで（モル比）のアルキル化反応ゾーン中のベンゼン対ブテンの比を含む液相条件下で行なわれてもよい。
モレキュラーシーブの製造、変性及び特性決定に関する、モレキュラーシーブ及び／又はゼオライトの要約が、書籍“モレキュラーシーブ- 合成及び同定の原理”; (R. Szostak, Blackie Academic & Professional, London, 1998, 第２編)に記載されている。モレキュラーシーブに加えて、無定形物質、主としてシリカ、ケイ酸アルミニウム及び酸化アルミニウムが、吸着剤及び触媒担体として使用されていた。噴霧乾燥、ピリング、ペレット化及び押出のような、幾つかの長く知られている成形技術が、触媒作用、吸着及びイオン交換における使用のために、例えば、微小孔及びその他の型の両方の多孔性物質の球形粒子、押出物、ペレット及び錠剤の形態のマクロ構造を生成するのに使用されてきたし、また使用されている。これらの技術の要約が “触媒製造” A. B. Stiles 及びT. A. Koch, Marcel Dekker, New York, 1995に記載されている。
モレキュラーシーブの製造、変性及び特性決定に関する、モレキュラーシーブ及び／又はゼオライトの要約が、書籍“モレキュラーシーブ- 合成及び同定の原理”; (R. Szostak, Blackie Academic & Professional, London, 1998, 第２編)に記載されている。モレキュラーシーブに加えて、無定形物質、主としてシリカ、ケイ酸アルミニウム及び酸化アルミニウムが、吸着剤及び触媒担体として使用されていた。噴霧乾燥、ピリング、ペレット化及び押出のような、幾つかの長く知られている成形技術が、触媒作用、吸着及びイオン交換における使用のために、例えば、微小孔及びその他の型の両方の多孔性物質の球形粒子、押出物、ペレット及び錠剤の形態のマクロ構造を生成するのに使用されてきたし、また使用されている。これらの技術の要約が “触媒製造” A. B. Stiles 及びT. A. Koch, Marcel Dekker, New York, 1995に記載されている。
所望される程度まで、合成されたままの物質の初期の金属陽イオンが当業界で公知の技術に従って、その他の陽イオンとのイオン交換により、少なくとも一部置換し得る。好ましい置換陽イオンとして、金属イオン、水素イオン、水素前駆体、例えば、アンモニウム、これらのイオン及び混合物が挙げられる。特に好ましい陽イオンは或る炭化水素変換反応に触媒活性を適応させる陽イオンである。これらとして、水素、希土類金属及び元素の周期律表の1-17族、好ましくは2-12族の金属が挙げられる。
この開示のEMM-12 結晶性モレキュラーシーブは一般に少なくとも部分的に、脱水されるべきである。これは雰囲気、例えば、空気又は窒素中で、かつ大気圧、大気圧以下の圧力又は大気圧を超える圧力で、例えば、30分〜48時間にわたって、例えば、200℃〜595℃の範囲の温度に加熱することにより行ない得る。脱水の程度は48時間にわたって流れている乾燥窒素（0.001kPa未満の分圧の水蒸気）の下で595℃におけるモレキュラーシーブサンプルの全質量損失に対する質量損失の％により測定される。脱水はまた室温（約25℃）でシリケートを単に真空に置くことにより行ない得るが、長時間が脱水の充分な量を得るのに必要とされる。
この開示のEMM-12 結晶性モレキュラーシーブは特にその金属形態、水素形態及びアンモニウム形態で熱処理により別の形態に有利に変換し得る。この熱処理は一般にこれらの形態の一種を少なくとも１分、一般に1000時間以下にわたって少なくとも370℃の温度で加熱することにより行なわれる。大気圧以下の圧力が熱処理に使用し得るが、大気圧が便利の理由のために所望される。熱処理は約925℃までの温度で行ない得る。熱処理された生成物は特に或る種の炭化水素変換反応の触媒作用に有益である。熱処理された生成物は、特にその金属形態、水素形態及びアンモニウム形態で、特に或る種の有機、例えば、炭化水素、変換反応の触媒作用に有益である。このような反応の非限定例として、米国特許第4,954,325号; 同第4,973,784号; 同第4,992,611号; 同第4,956,514号; 同第4,962,250号; 同第4,982,033号; 同第4,962,257号; 同第4,962,256号; 同第4,992,606号; 同第4,954,663号; 同第4,992,615号; 同第4,983,276号; 同第4,982,040号; 同第4,962,239号; 同第4,968,402号; 同第5,000,839号; 同第5,001,296号; 同第4,986,894号; 同第5,001,295号; 同第5,001,283号; 同第5,012,033号; 同第5,019,670号; 同第5,019,665号; 同第5,019,664号; 及び同第5,013,422号（夫々が触媒反応の記載についての参考として本明細書に含まれる）に記載された反応が挙げられる。
この開示のEMM-12 結晶性モレキュラーシーブは一般に少なくとも部分的に、脱水されるべきである。これは雰囲気、例えば、空気又は窒素中で、かつ大気圧、大気圧以下の圧力又は大気圧を超える圧力で、例えば、30分〜48時間にわたって、例えば、200℃〜595℃の範囲の温度に加熱することにより行ない得る。脱水の程度は48時間にわたって流れている乾燥窒素（0.001kPa未満の分圧の水蒸気）の下で595℃におけるモレキュラーシーブサンプルの全質量損失に対する質量損失の％により測定される。脱水はまた室温（約25℃）でシリケートを単に真空に置くことにより行ない得るが、長時間が脱水の充分な量を得るのに必要とされる。
この開示のEMM-12 結晶性モレキュラーシーブは特にその金属形態、水素形態及びアンモニウム形態で熱処理により別の形態に有利に変換し得る。この熱処理は一般にこれらの形態の一種を少なくとも１分、一般に1000時間以下にわたって少なくとも370℃の温度で加熱することにより行なわれる。大気圧以下の圧力が熱処理に使用し得るが、大気圧が便利の理由のために所望される。熱処理は約925℃までの温度で行ない得る。熱処理された生成物は特に或る種の炭化水素変換反応の触媒作用に有益である。熱処理された生成物は、特にその金属形態、水素形態及びアンモニウム形態で、特に或る種の有機、例えば、炭化水素、変換反応の触媒作用に有益である。このような反応の非限定例として、米国特許第4,954,325号; 同第4,973,784号; 同第4,992,611号; 同第4,956,514号; 同第4,962,250号; 同第4,982,033号; 同第4,962,257号; 同第4,962,256号; 同第4,992,606号; 同第4,954,663号; 同第4,992,615号; 同第4,983,276号; 同第4,982,040号; 同第4,962,239号; 同第4,968,402号; 同第5,000,839号; 同第5,001,296号; 同第4,986,894号; 同第5,001,295号; 同第5,001,283号; 同第5,012,033号; 同第5,019,670号; 同第5,019,665号; 同第5,019,664号; 及び同第5,013,422号（夫々が触媒反応の記載についての参考として本明細書に含まれる）に記載された反応が挙げられる。
この開示のEMM-12 結晶性モレキュラーシーブは多種の粒子サイズに成形し得る。一般に言えば、粒子が粉末、顆粒、又は押出物の如き成形品の形態であってもよい。触媒が、例えば、押出によるように成形される場合、結晶が押し出され、その後に乾燥又は部分乾燥され、次いで押し出される。
EMM-12 モレキュラーシーブをアルキル化方法に使用される温度及びその他の条件に耐性の別の物質と混入することが所望される。このような物質として、活性物質及び不活性物質並びに合成又は天然産のゼオライトだけでなく、無機物質、例えば、クレー、シリカ及び／又は金属酸化物、例えば、アルミナが挙げられる。後者は天然産であってもよく、又はゼラチン質の沈殿もしくはシリカと金属酸化物の混合物を含むゲルの形態であってもよい。EMM-13 モレキュラーシーブと連係しての、即ち、それと合わされ、又はEMM-12モレキュラーシーブの合成中に存在する物質（これは活性である）の使用が、触媒の転化率及び／又は選択率を変える傾向がある。不活性物質は所定の方法で希釈剤として好適に利用できて転化率の量を調節し、その結果、生成物が反応の速度を制御するためのその他の手段を使用しないで経済的かつ規則的に得られる。これらの物質が天然産クレー、例えば、ベントナイト及びカオリンに混入されて、商業上の作業条件下で触媒の圧潰強度を改良し得る。これらの物質、即ち、クレー、酸化物等は触媒のバインダーとして機能する。良好な圧潰強度を有する触媒を得ることが望ましい。何とならば、商用では、触媒を粉末のような物質に分解することから防止することが望ましいからである。これらのクレーバインダーは通常触媒の圧潰強度を改良する目的のためだけに使用されていた。
EMM-12 モレキュラーシーブをアルキル化方法に使用される温度及びその他の条件に耐性の別の物質と混入することが所望される。このような物質として、活性物質及び不活性物質並びに合成又は天然産のゼオライトだけでなく、無機物質、例えば、クレー、シリカ及び／又は金属酸化物、例えば、アルミナが挙げられる。後者は天然産であってもよく、又はゼラチン質の沈殿もしくはシリカと金属酸化物の混合物を含むゲルの形態であってもよい。EMM-13 モレキュラーシーブと連係しての、即ち、それと合わされ、又はEMM-12モレキュラーシーブの合成中に存在する物質（これは活性である）の使用が、触媒の転化率及び／又は選択率を変える傾向がある。不活性物質は所定の方法で希釈剤として好適に利用できて転化率の量を調節し、その結果、生成物が反応の速度を制御するためのその他の手段を使用しないで経済的かつ規則的に得られる。これらの物質が天然産クレー、例えば、ベントナイト及びカオリンに混入されて、商業上の作業条件下で触媒の圧潰強度を改良し得る。これらの物質、即ち、クレー、酸化物等は触媒のバインダーとして機能する。良好な圧潰強度を有する触媒を得ることが望ましい。何とならば、商用では、触媒を粉末のような物質に分解することから防止することが望ましいからである。これらのクレーバインダーは通常触媒の圧潰強度を改良する目的のためだけに使用されていた。
EMM-12 モレキュラーシーブと複合化し得る天然産クレーとして、モンモリロナイト及びカオリンファミリーが挙げられ、これらのファミリーはサベントナイト、並びにディキシークレー、マクナミークレー、ジョージアクレー及びフロリダクレー等として普通に知られているカオリン（その主鉱物成分はハロイサイト、カオリナイト、ジッカイト、ナルサイト、又はアナウキサイトである）を含む。このようなクレーは当初採鉱され、又は初期に焼成、処理もしくは化学変性にかけられた生の状態で使用し得る。本結晶と複合するのに有益なバインダーとして、また無機酸化物、注目すべきはアルミナが挙げられる。
以上の物質に加えて、EMM-12 モレキュラーシーブは多孔性マトリックス物質、例えば、シリカ-アルミナ、シリカ-マグネシア、シリカ-ジルコニア、シリカ-トリア、シリカ-ベリリア、シリカ-チタニアだけでなく、３成分組成物、例えば、シリカ-アルミナ-トリア、シリカ-アルミナ-ジルコニア、シリカ-アルミナ-マグネシア及びシリカ-マグネシア-ジルコニアと複合化し得る。
微細にされたEMM-12 結晶性モレキュラーシーブ及び無機酸化物マトリックスの相対比率は広く変化し、その結晶含量は複合材料の約１質量％から約99質量％までの範囲、更に通常、特にその複合材料がビーズの形態で調製される場合には、約20質量％から約80質量％の範囲である。
以下の実施例は本発明の実施態様を反映し、本発明の範囲を限定することを決して目的とするものではない。
以上の物質に加えて、EMM-12 モレキュラーシーブは多孔性マトリックス物質、例えば、シリカ-アルミナ、シリカ-マグネシア、シリカ-ジルコニア、シリカ-トリア、シリカ-ベリリア、シリカ-チタニアだけでなく、３成分組成物、例えば、シリカ-アルミナ-トリア、シリカ-アルミナ-ジルコニア、シリカ-アルミナ-マグネシア及びシリカ-マグネシア-ジルコニアと複合化し得る。
微細にされたEMM-12 結晶性モレキュラーシーブ及び無機酸化物マトリックスの相対比率は広く変化し、その結晶含量は複合材料の約１質量％から約99質量％までの範囲、更に通常、特にその複合材料がビーズの形態で調製される場合には、約20質量％から約80質量％の範囲である。
以下の実施例は本発明の実施態様を反映し、本発明の範囲を限定することを決して目的とするものではない。
実験
粉末Ｘ線回折
粉末Ｘ線データを単色Cu Kα 放射線を用いるブラッグ-ブレンタノ形状のブルカーD4装置で得た。構造の特性決定に使用されるパターンは2θで1.2°から80°まで及んだ。リートベルド洗練(refinement)のための強さを連続スキャンから抽出した。
表面積
モレキュラーシーブの全表面積が窒素（液体窒素の温度、77K）の吸着-脱着を使用するブラナウアー-エメット-テラー(BET)方法により測定し得る。内表面積がブラナウアー-エメット-テラー(BET)測定のt-プロットを使用して計算し得る。その内表面積をブラナウアー-エメット-テラー(BET)測定により測定された全表面積から引くことにより外表面積を計算する。
コリジン価測定
モレキュラーシーブのコリジン価はTGAにより測定し得る。サンプルを200℃で一定質量（１時間の期間にわたって±１％未満の質量変化）まで乾燥させる。次いで乾燥されたサンプル、収着物の質量を測定する。収着剤、2,4,6-コリジンを３トルのコリジン分圧に維持されたスパージャーにより送出し、サンプルを60分間にわたって200ml/分で通される窒素によりキャリオーバーする。コリジン価を収着物1g当りに吸着されたマイクロモルとして表す。
粉末Ｘ線回折
粉末Ｘ線データを単色Cu Kα 放射線を用いるブラッグ-ブレンタノ形状のブルカーD4装置で得た。構造の特性決定に使用されるパターンは2θで1.2°から80°まで及んだ。リートベルド洗練(refinement)のための強さを連続スキャンから抽出した。
表面積
モレキュラーシーブの全表面積が窒素（液体窒素の温度、77K）の吸着-脱着を使用するブラナウアー-エメット-テラー(BET)方法により測定し得る。内表面積がブラナウアー-エメット-テラー(BET)測定のt-プロットを使用して計算し得る。その内表面積をブラナウアー-エメット-テラー(BET)測定により測定された全表面積から引くことにより外表面積を計算する。
コリジン価測定
モレキュラーシーブのコリジン価はTGAにより測定し得る。サンプルを200℃で一定質量（１時間の期間にわたって±１％未満の質量変化）まで乾燥させる。次いで乾燥されたサンプル、収着物の質量を測定する。収着剤、2,4,6-コリジンを３トルのコリジン分圧に維持されたスパージャーにより送出し、サンプルを60分間にわたって200ml/分で通される窒素によりキャリオーバーする。コリジン価を収着物1g当りに吸着されたマイクロモルとして表す。
実施例1: EMM-12の調製
米国特許出願第11/823,129号の実施例１に従ってつくったEMM-10-Pのサンプル (1.5 g) を1 M 硝酸30g及びジエトキシジメチルシラン0.3gの混合物に添加した。その反応をオーブン中のパールTM ボンベ中のシールされたテフロン（登録商標）容器中で170℃で24時間にわたって行なった。EMM-12の固体生成物を濾過により単離し、洗浄し、120℃で乾燥させた。
EMM-12の固体生成物のXRDパターンを6.5-7.1°2θ (Cu Kα) に相当する、12.45 〜13.60 Åの二重線及び8.85〜11.05 Å、8-10°2θ (Cu Kα) 領域の区別できない散乱を含むと特性決定し、又はそのパターンが11.05±0.18Å及び9.31±0.13 Åのピーク間に谷を示すが、その最低位置でバックグラウンドについて修正された測定強さが11.05±0.18 Å及び9.31±0.13 Å付近の最大を連結する線上の同じXRDd-間隔における位置の強度の50％以上である。
EMM-12の焼成された生成物は523 m2/g の高い表面積及び321 μモル/gのコリジン吸着の格別の増強を有する。
ベンゼン
ベンゼンを商用の源から得た。ベンゼンを等しい部数（容積基準）のモレキュラーシーブ13X、モレキュラーシーブ4A、エンゲルハードF-24クレー、及びセレックスソーブCD（入口から出口への順に）を含む前処理容器に通し、次いでMCM-22触媒を含む前処理容器に通した。全ての供給原料前処理物質を使用する前に260℃のオーブン中で12時間乾燥させた。
米国特許出願第11/823,129号の実施例１に従ってつくったEMM-10-Pのサンプル (1.5 g) を1 M 硝酸30g及びジエトキシジメチルシラン0.3gの混合物に添加した。その反応をオーブン中のパールTM ボンベ中のシールされたテフロン（登録商標）容器中で170℃で24時間にわたって行なった。EMM-12の固体生成物を濾過により単離し、洗浄し、120℃で乾燥させた。
EMM-12の固体生成物のXRDパターンを6.5-7.1°2θ (Cu Kα) に相当する、12.45 〜13.60 Åの二重線及び8.85〜11.05 Å、8-10°2θ (Cu Kα) 領域の区別できない散乱を含むと特性決定し、又はそのパターンが11.05±0.18Å及び9.31±0.13 Åのピーク間に谷を示すが、その最低位置でバックグラウンドについて修正された測定強さが11.05±0.18 Å及び9.31±0.13 Å付近の最大を連結する線上の同じXRDd-間隔における位置の強度の50％以上である。
EMM-12の焼成された生成物は523 m2/g の高い表面積及び321 μモル/gのコリジン吸着の格別の増強を有する。
ベンゼン
ベンゼンを商用の源から得た。ベンゼンを等しい部数（容積基準）のモレキュラーシーブ13X、モレキュラーシーブ4A、エンゲルハードF-24クレー、及びセレックスソーブCD（入口から出口への順に）を含む前処理容器に通し、次いでMCM-22触媒を含む前処理容器に通した。全ての供給原料前処理物質を使用する前に260℃のオーブン中で12時間乾燥させた。
プロピレン
プロピレンを商用の商品ガス源から得、ポリマーグレードであった。
エチレン
エチレンを商用の商品ガス源から得、ポリマーグレードであった。
窒素
窒素は超高純度のグレードであり、商用の商品ガス源から得た。
実施例２
65質量％の実施例１の焼成されたEMM-12及び35質量％のアルミナ触媒を調製した。この触媒をクメンを生成するためのプロピレンによるベンゼンアルキル化について試験した。
供給原料前処理
実験を1/8”内部熱伝対を備えた下流配置の固定床3/8” OD管状反応器中で行なった。反応器炉を等温様式で制御した。14/20メッシュのサイズの触媒2gを3/8”反応器に装填した。実験を3/8”反応器に装填された触媒を用いて行なった。触媒床は中央炉ゾーン中で軸方向に中心にされた。触媒を不活性サンドで充填し間隙のボイドスペースを充満した。反応条件は130℃、2169kPa-aであり、ベンゼン／プロピレンモル比は3/1であった。毎時の質量空間速度はプロピレン基準で1hr-1であった。
反応器始動時に、反応器を超高純度の窒素で2169kPa-aの反応圧力にし、150℃の反応温度に加熱し、その後にベンゼン供給原料を24時間にわたって導入した。触媒を１日にわたって平衡させ、その後にプロピレンを導入して定常状態を得、その後にデータを収集した。反応器をベンゼン流のもとに130℃に冷却し、次いでプロピレンを導入した。生成物を集め、13日間にわたってオンストリームで分析した。結果は生成物中のクメン（イソプロピルベンゼン、IPB）に対するジイソプロピルベンゼン(DIPB)のモル比が10％〜14％の範囲にあることを示す。
プロピレンを商用の商品ガス源から得、ポリマーグレードであった。
エチレン
エチレンを商用の商品ガス源から得、ポリマーグレードであった。
窒素
窒素は超高純度のグレードであり、商用の商品ガス源から得た。
実施例２
65質量％の実施例１の焼成されたEMM-12及び35質量％のアルミナ触媒を調製した。この触媒をクメンを生成するためのプロピレンによるベンゼンアルキル化について試験した。
供給原料前処理
実験を1/8”内部熱伝対を備えた下流配置の固定床3/8” OD管状反応器中で行なった。反応器炉を等温様式で制御した。14/20メッシュのサイズの触媒2gを3/8”反応器に装填した。実験を3/8”反応器に装填された触媒を用いて行なった。触媒床は中央炉ゾーン中で軸方向に中心にされた。触媒を不活性サンドで充填し間隙のボイドスペースを充満した。反応条件は130℃、2169kPa-aであり、ベンゼン／プロピレンモル比は3/1であった。毎時の質量空間速度はプロピレン基準で1hr-1であった。
反応器始動時に、反応器を超高純度の窒素で2169kPa-aの反応圧力にし、150℃の反応温度に加熱し、その後にベンゼン供給原料を24時間にわたって導入した。触媒を１日にわたって平衡させ、その後にプロピレンを導入して定常状態を得、その後にデータを収集した。反応器をベンゼン流のもとに130℃に冷却し、次いでプロピレンを導入した。生成物を集め、13日間にわたってオンストリームで分析した。結果は生成物中のクメン（イソプロピルベンゼン、IPB）に対するジイソプロピルベンゼン(DIPB)のモル比が10％〜14％の範囲にあることを示す。
実施例３
65質量％のEMM-12及び35質量％のバーサル300アルミナ（UOPから市販されている）のペレット1gをエチレンによるベンゼンアルキル化に使用してエチルベンゼンを生成した。触媒を538℃で２時間焼成した。
エチレンによるベンゼンアルキル化を一定質量の触媒をベンゼンとエチレンを含む混合物（3.5のベンゼン／エチレンモル比）とともに良く混合されたパールオートクレーブ反応器に仕込むことにより行なった。その反応を４時間にわたって220℃及び3893kPa-a（550psig）で行なった。生成物の小サンプルを規則的な間隔で抜き取り、ガスクロマトグラフィーにより分析した。触媒性能を４時間後に動的活性速度定数及びジエチルベンゼン／エチルベンゼン質量比により評価した。EMM-12触媒は2(hr.gモル/cc)-1 の活性及びジエチルベンゼン／エチルベンゼン質量比により測定された5.3の選択率を有する。
65質量％のEMM-12及び35質量％のバーサル300アルミナ（UOPから市販されている）のペレット1gをエチレンによるベンゼンアルキル化に使用してエチルベンゼンを生成した。触媒を538℃で２時間焼成した。
エチレンによるベンゼンアルキル化を一定質量の触媒をベンゼンとエチレンを含む混合物（3.5のベンゼン／エチレンモル比）とともに良く混合されたパールオートクレーブ反応器に仕込むことにより行なった。その反応を４時間にわたって220℃及び3893kPa-a（550psig）で行なった。生成物の小サンプルを規則的な間隔で抜き取り、ガスクロマトグラフィーにより分析した。触媒性能を４時間後に動的活性速度定数及びジエチルベンゼン／エチルベンゼン質量比により評価した。EMM-12触媒は2(hr.gモル/cc)-1 の活性及びジエチルベンゼン／エチルベンゼン質量比により測定された5.3の選択率を有する。
Claims (10)
- モノアルキル芳香族化合物の製造方法であって、アルキル化可能な芳香族化合物及びアルキル化剤を含む供給原料をアルキル化反応条件下で触媒と接触させることを含み、ここで、該触媒は、モレキュラーシーブを含み、
モレキュラーシーブは、合成されたままの形態及び焼成された形態で、14.17 〜12.57 Åの範囲のd-間隔最大、12.1 〜12.56 Åの範囲のd-間隔最大のＸ線回折パターンを有し、
さらに、(i)8.85〜11.05 Åの範囲に区別できない複数の散乱ピークを含むＸ線回折パターンを有するか、又は、(ii)10.14 〜12.0 Åの範囲のd-間隔最大及び8.66 〜10.13 Åの範囲のd-間隔最大を有するピークの間に谷を示し、谷の最低位置の測定強さからバックグラウンドを差し引いた値が10.14 〜12.0 Åの範囲及び8.66 〜10.13 Åの範囲の最大を連結する線上の同じXRDd-間隔における位置での強さの50％以上であるＸ線回折パターンを有し、
前記アルキル化反応条件が０℃から500℃までの温度、20kPa-aから25000kPa-aまでの圧力、0.1:1から50:1までのアルキル化可能な芳香族化合物対アルキル化剤のモル比、及び0.1hr-1から500hr-1までの毎時の供給原料質量空間速度(WHSV)（アルキル化剤を基準とする）を含むことを特徴とするモノアルキル芳香族化合物の製造方法。 - 前記モレキュラーシーブが、その合成されたままの形態及び焼成された形態で、6.9±0.15Å、3.57±0.07Å及び3.42±0.07Åのピークを含むＸ線回折パターンを更に有する、請求項１記載の方法。
- 前記モレキュラーシーブがモル関係
X2O3:(n)YO2
（式中、Ｘは３価の元素であり、アルミニウム、ホウ素、鉄及びガリウムの少なくとも一種を含み、Ｙは４価の元素であり、ケイ素及びゲルマニウムの少なくとも一種を含み、かつｎは少なくとも10である）
を含む組成を有する、請求項１記載の方法。 - 前記モレキュラーシーブが、その合成されたままの形態で、無水基準で、かつYO2ｎモル当りの酸化物のモル数に関して、以下のとおりの式：
(0.005-1)M2O:(1-4)R:X2O3:nYO2
（式中、Ｍはアルカリ金属又はアルカリ土類金属であり、かつＲは有機部分である）
を有する、請求項３記載の方法。 - 前記ｎが10から150までである、請求項３記載の方法。
- Ｘがアルミニウムであり、かつＹがケイ素である、請求項３記載の方法。
- 前記アルキル化可能な芳香族化合物がベンゼン、ナフタレン、アントラセン、ナフタセン、ペリレン、コロネン、フェナントレン、キシレン、n-プロピルベンゼン、α-メチルナフタレン、o-ジエチルベンゼン、m-ジエチルベンゼン、p-ジエチルベンゼン、ペンタエチルベンゼン、ペンタメチルベンゼン、1,2,3,4-テトラエチルベンゼン、1,2,3,5-テトラメチルベンゼン、1,2,4-トリエチルベンゼン、1,2,3-トリメチルベンゼン、m-ブチルトルエン、p-ブチルトルエン、3,5-ジエチルトルエン、o-エチルトルエン、p-エチルトルエン、m-プロピルトルエン、4-エチル-m-キシレン、ジメチルナフタレン、エチルナフタレン、2,3-ジメチルアントラセン、9-エチルアントラセン、2-メチルアントラセン、o-メチルアントラセン、9,10-ジメチルフェナントレン、3-メチル-フェナントレン及びこれらの混合物からなる群から選ばれる、請求項１記載の方法。
- 前記アルキル化可能な芳香族化合物がベンゼン及びナフタレンの少なくとも一種を含む、請求項１記載の方法。
- 前記アルキル化剤がオレフィン、アルコール、アルデヒド、アルキルハライド及びこれらの混合物からなる群から選ばれる、請求項１記載の方法。
- 前記アルキル化剤がエチレン、プロピレン及びブテンの少なくとも一種を含む、請求項１記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US8416608P | 2008-07-28 | 2008-07-28 | |
| US61/084,166 | 2008-07-28 | ||
| PCT/US2009/050727 WO2010014405A1 (en) | 2008-07-28 | 2009-07-15 | Process of making alkylaromatics using emm-12 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2014005491A Division JP5745110B2 (ja) | 2008-07-28 | 2014-01-15 | Ｅｍｍ−１２を用いるアルキル芳香族化合物の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2011529499A JP2011529499A (ja) | 2011-12-08 |
| JP5461553B2 true JP5461553B2 (ja) | 2014-04-02 |
Family
ID=41165599
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2011521171A Active JP5461553B2 (ja) | 2008-07-28 | 2009-07-15 | Ｅｍｍ−１２を用いるアルキル芳香族化合物の製造方法 |
| JP2014005491A Active JP5745110B2 (ja) | 2008-07-28 | 2014-01-15 | Ｅｍｍ−１２を用いるアルキル芳香族化合物の製造方法 |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2014005491A Active JP5745110B2 (ja) | 2008-07-28 | 2014-01-15 | Ｅｍｍ−１２を用いるアルキル芳香族化合物の製造方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8217213B2 (ja) |
| JP (2) | JP5461553B2 (ja) |
| KR (1) | KR101254411B1 (ja) |
| CN (2) | CN103754892A (ja) |
| TW (2) | TWI427053B (ja) |
| WO (1) | WO2010014402A1 (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA2729265C (en) * | 2008-07-28 | 2013-06-25 | Wieslaw J. Roth | A novel molecular sieve composition emm-12, a method of making and a process of using the same |
| CN102773101B (zh) * | 2012-08-07 | 2014-07-23 | 中国石油化工股份有限公司 | 一种溶剂油脱芳催化剂的制备方法 |
| US9434875B1 (en) * | 2014-12-16 | 2016-09-06 | Carbo Ceramics Inc. | Electrically-conductive proppant and methods for making and using same |
| US9725377B2 (en) | 2013-03-14 | 2017-08-08 | Exxonmobil Chemical Patents Inc. | Hydroalkylation catalyst and process for use thereof |
| EP2970049B1 (en) * | 2013-03-14 | 2019-10-16 | ExxonMobil Chemical Patents Inc. | Methyl-substituted biphenyl compounds, their production and their use in the manufacture of plasticizers |
| EP2978526A1 (en) * | 2013-03-25 | 2016-02-03 | ExxonMobil Chemical Patents Inc. | Process for making alkylated aromatic compound |
| CN113559922A (zh) * | 2021-08-13 | 2021-10-29 | 郑州大学 | 一种苯加氢制备环己基苯用双金属催化剂及其制备方法和应用 |
| CN113663722A (zh) * | 2021-09-01 | 2021-11-19 | 郑州大学 | 苯加氢烷基化制备环己基苯的催化剂及其制备方法和应用 |
Family Cites Families (106)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3201356A (en) * | 1961-09-27 | 1965-08-17 | Exxon Research Engineering Co | Molecular sieve catalyst activation process |
| US3197399A (en) * | 1962-10-15 | 1965-07-27 | Union Oil Company Of Californa | Hydrocracking catalyst activation |
| US3347945A (en) * | 1965-10-21 | 1967-10-17 | Shell Oil Co | Hydrodimerization of benzene |
| US3390101A (en) * | 1966-03-23 | 1968-06-25 | Chevron Res | Catalyst activation process |
| US3412165A (en) * | 1967-02-15 | 1968-11-19 | Shell Oil Co | Phenylcyclohexane process |
| US3536771A (en) * | 1969-02-07 | 1970-10-27 | Universal Oil Prod Co | Method for producing cyclohexane via the hydrogenation of benzene |
| US3760017A (en) * | 1971-05-17 | 1973-09-18 | Texaco Inc | Hydroalkylation catalyst and process |
| US3760019A (en) * | 1971-05-17 | 1973-09-18 | Texaco Inc | Hydroalkylation catalyst and process |
| US3760018A (en) * | 1971-05-17 | 1973-09-18 | Texaco Inc | Hydroalkylation catalyst and process |
| US3751504A (en) * | 1972-05-12 | 1973-08-07 | Mobil Oil Corp | Vapor-phase alkylation in presence of crystalline aluminosilicate catalyst with separate transalkylation |
| US3784618A (en) | 1972-08-25 | 1974-01-08 | Texaco Inc | Hydroalkylation process |
| US3957687A (en) * | 1972-12-04 | 1976-05-18 | Texaco Inc. | Hydroalkylation catalyst and process |
| US3784617A (en) * | 1972-12-06 | 1974-01-08 | R Suggitt | Hydroalkylation of mononuclear aromatic hydrocarbons |
| US3839477A (en) * | 1972-12-06 | 1974-10-01 | Texaco Inc | Hydroalkylation process |
| US3864421A (en) * | 1973-05-07 | 1975-02-04 | Texaco Inc | Hydroalkylation of aromatic hydrocarbons |
| GB1482187A (en) * | 1974-06-05 | 1977-08-10 | Monarch Marking Systems Inc | Apparatus for printing and applying pressure sensitive labels |
| US3962362A (en) * | 1975-03-31 | 1976-06-08 | Texaco Development Corporation | Method for preparing polyphenyls |
| US4016218A (en) * | 1975-05-29 | 1977-04-05 | Mobil Oil Corporation | Alkylation in presence of thermally modified crystalline aluminosilicate catalyst |
| US4021490A (en) * | 1975-10-14 | 1977-05-03 | Phillips Petroleum Company | Process for production of phenol and cyclohexanone |
| US4122125A (en) * | 1976-11-08 | 1978-10-24 | Phillips Petroleum Company | Hydroalkylation using multimetallic zeolite catalyst |
| US4206082A (en) * | 1976-11-08 | 1980-06-03 | Phillips Petroleum Company | Hydroalkylation process and a composition and process for producing said composition |
| US4380683A (en) * | 1976-12-20 | 1983-04-19 | The Standard Oil Company | Hydroalkylation of benzene and analogs |
| US4177165A (en) * | 1977-02-10 | 1979-12-04 | Phillips Petroleum Company | Hydroalkylation composition and process for producing said composition |
| US4094918A (en) | 1977-02-10 | 1978-06-13 | Phillips Petroleum Company | Hydroalkylation process using multi-metallic zeolite catalyst |
| US4152362A (en) * | 1978-01-03 | 1979-05-01 | Phillips Petroleum Company | Hydroalkylation using a rhenium, nickel, rare earth zeolite |
| US4268699A (en) * | 1978-07-21 | 1981-05-19 | Phillips Petroleum Company | Hydroalkylation using nickel-ruthenium catalyst on zeolite type support |
| US4219687A (en) * | 1978-07-26 | 1980-08-26 | Standard Oil Company | Hydroalkylation of benzene and analogs |
| US4219689A (en) * | 1978-09-08 | 1980-08-26 | Phillips Petroleum Company | Aromatic hydroalkylation catalyst using iridium on zeolites |
| US4329531A (en) * | 1980-05-29 | 1982-05-11 | Phillips Petroleum Company | Hydroalkylation catalyst and methods for producing and employing same |
| US4447554A (en) * | 1980-05-29 | 1984-05-08 | Phillips Petroleum Company | Hydroalkylation catalyst and methods for producing and employing same |
| DE3117135A1 (de) * | 1981-04-30 | 1982-11-18 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Kristallines alumosilicat, verfahren zu dessen herstellung sowie dessen verwendung zur katalytischen umwandlung von methanol und/oder dimethylether in kohlenwasserstoffe |
| US4547605A (en) * | 1983-09-28 | 1985-10-15 | Mobil Oil Corporation | Catalyst for alkylation of aromatic hydrocarbons |
| IL73146A (en) * | 1984-10-02 | 1988-11-15 | Yeda Res & Dev | Catalysts and process for the production of hydrocarbons and substitution of hydrocarbons |
| US4826667A (en) * | 1986-01-29 | 1989-05-02 | Chevron Research Company | Zeolite SSZ-25 |
| US4954325A (en) * | 1986-07-29 | 1990-09-04 | Mobil Oil Corp. | Composition of synthetic porous crystalline material, its synthesis and use |
| US5108969A (en) * | 1986-07-29 | 1992-04-28 | Mobil Oil Corp. | Low acidity catalyst for conversion of paraffins to olefins and/or aromatics |
| US4983276A (en) * | 1988-10-06 | 1991-01-08 | Mobil Oil Corp. | Octane improvement in catalytic cracking and cracking catalyst composition therefor |
| US5019664A (en) * | 1988-10-06 | 1991-05-28 | Mobil Oil Corp. | Process for the conversion of paraffins to olefins and/or aromatics and low acidity zeolite catalyst therefor |
| US4954663A (en) * | 1988-10-06 | 1990-09-04 | Mobil Oil Corp. | Process for preparing long chain alkyl phenols |
| US4956514A (en) * | 1988-10-06 | 1990-09-11 | Mobil Oil Corp. | Process for converting olefins to higher hydrocarbons |
| US5013422A (en) * | 1986-07-29 | 1991-05-07 | Mobil Oil Corp. | Catalytic hydrocracking process |
| US4962256A (en) * | 1988-10-06 | 1990-10-09 | Mobil Oil Corp. | Process for preparing long chain alkyl aromatic compounds |
| US5019670A (en) * | 1986-07-29 | 1991-05-28 | Mobil Oil Corporation | Process for producing alkylaromatic lubricant fluids |
| IT1205681B (it) | 1987-05-26 | 1989-03-31 | Eniricerche Spa | Materiale sintetico cristallino poroso contenente ossidi di silicio e boro |
| US4891458A (en) * | 1987-12-17 | 1990-01-02 | Innes Robert A | Liquid phase alkylation or transalkylation process using zeolite beta |
| GB8809214D0 (en) * | 1988-04-19 | 1988-05-25 | Exxon Chemical Patents Inc | Reductive alkylation process |
| US4992606A (en) * | 1988-10-06 | 1991-02-12 | Mobil Oil Corp. | Process for preparing short chain alkyl aromatic compounds |
| US4986894A (en) * | 1988-10-06 | 1991-01-22 | Mobil Oil Corp. | Catalytic hydroisomerization process |
| US5001295A (en) * | 1988-10-06 | 1991-03-19 | Mobil Oil Corp. | Process for preparing dialkylnaphthalene |
| US4982033A (en) * | 1988-10-06 | 1991-01-01 | Mobil Oil Corp. | Process for converting light aliphatics to aromatics |
| US4973784A (en) * | 1988-10-06 | 1990-11-27 | Mobil Oil Corp. | Process for reducing the durene content of effluent resulting from the catalytic conversion of C1 -C4 oxygenates to gasoline |
| US5012033A (en) * | 1988-10-06 | 1991-04-30 | Mobil Oil Corp. | Isoparaffin-olefin alkylation process and catalyst composition thereof |
| US5001283A (en) * | 1988-10-06 | 1991-03-19 | Mobil Oil Corp. | Process for preparing aromatic alkanols |
| US4962257A (en) * | 1988-10-06 | 1990-10-09 | Mobil Oil Corp. | Process for the catalytic disproportionation of toluene |
| US4982040A (en) * | 1988-10-06 | 1991-01-01 | Mobil Oil Corp. | Process for the catalytic disproportionation of methylnaphthalenes |
| US4962239A (en) * | 1988-10-06 | 1990-10-09 | Mobil Oil Corp. | Process for preparing ethers |
| US4992611A (en) * | 1989-12-13 | 1991-02-12 | Mobil Oil Corp. | Direct conversion of C1 -C4 oxygenates to low aromatic distillate range hydrocarbons |
| US4962250A (en) * | 1990-01-24 | 1990-10-09 | Mobile Oil Corp. | Process for the conversion of paraffins to olefins and/or aromatics and non-acidic zeolite catalyst therefor |
| US4992615A (en) * | 1990-01-25 | 1991-02-12 | Mobil Oil Corp. | Isoparaffin-olefin alkylation process |
| US4968402A (en) * | 1990-02-14 | 1990-11-06 | Mobil Oil Corp. | Process for upgrading hydrocarbons |
| US5000839A (en) * | 1990-02-14 | 1991-03-19 | Mobil Oil Corp. | Hydrocracking process for producing a high density jet fuel |
| US5037538A (en) * | 1990-02-26 | 1991-08-06 | Mobil Oil Corporation | Catalytic cracking process with isolated catalyst for conversion of NO.sub.x |
| US5001296A (en) * | 1990-03-07 | 1991-03-19 | Mobil Oil Corp. | Catalytic hydrodealkylation of aromatics |
| US5019665A (en) * | 1990-04-18 | 1991-05-28 | Mobil Oil Corp. | Shape-selective process for concentrating diamondoid-containing hydrocarbon solvents |
| US5334795A (en) * | 1990-06-28 | 1994-08-02 | Mobil Oil Corp. | Production of ethylbenzene |
| US5190863A (en) * | 1990-06-29 | 1993-03-02 | Miles Inc. | Composition for determining the presence or concentration of D-β-hydroxybutyrate |
| US5250277A (en) * | 1991-01-11 | 1993-10-05 | Mobil Oil Corp. | Crystalline oxide material |
| US5146024A (en) * | 1991-05-20 | 1992-09-08 | Phillips Petroleum Company | Hydroalkylation of aromatic hydrocarbons |
| US5236575A (en) * | 1991-06-19 | 1993-08-17 | Mobil Oil Corp. | Synthetic porous crystalline mcm-49, its synthesis and use |
| US5554274A (en) * | 1992-12-11 | 1996-09-10 | Mobil Oil Corporation | Manufacture of improved catalyst |
| US5362697A (en) * | 1993-04-26 | 1994-11-08 | Mobil Oil Corp. | Synthetic layered MCM-56, its synthesis and use |
| US5292976A (en) * | 1993-04-27 | 1994-03-08 | Mobil Oil Corporation | Process for the selective conversion of naphtha to aromatics and olefins |
| US5384296A (en) * | 1993-08-16 | 1995-01-24 | Mobil Oil Corporation | Thermally stable noble metal-container zeolite catalyst |
| US5488194A (en) * | 1994-05-16 | 1996-01-30 | Mobil Oil Corp. | Selective production of para-dialkyl substituted benzenes and catalyst therefor |
| US5705729A (en) * | 1995-11-22 | 1998-01-06 | Mobil Oil Corporation | Isoparaffin-olefin alkylation process |
| ES2105982B1 (es) * | 1995-11-23 | 1998-07-01 | Consejo Superior Investigacion | Zeolita itq-1 |
| US6037513A (en) * | 1998-07-09 | 2000-03-14 | Mobil Oil Corporation | Hydroalkylation of aromatic hydrocarbons |
| US6133470A (en) * | 1998-07-28 | 2000-10-17 | Mobil Oil Corporation | Integration of p-xylene production and subsequent conversion process |
| US6984764B1 (en) * | 1999-05-04 | 2006-01-10 | Exxonmobil Oil Corporation | Alkylaromatics production |
| US6489529B1 (en) * | 2000-01-24 | 2002-12-03 | Exxonmobil Oil Corporation | Production of monocycloalkyl aromatic compounds |
| US6506953B1 (en) * | 2000-01-24 | 2003-01-14 | Exxonmobil Oil Corporation | Hydroalkylation of aromatic hydrocarbons |
| JP4454090B2 (ja) * | 2000-02-03 | 2010-04-21 | 新日本石油株式会社 | 芳香族炭化水素のアルキル化方法及びそれに用いる触媒 |
| DE10015874A1 (de) * | 2000-03-30 | 2001-10-11 | Creavis Tech & Innovation Gmbh | Verfahren zur Herstellung von aromatischen Alkoholen insbesondere Phenol |
| US6936744B1 (en) * | 2000-07-19 | 2005-08-30 | Exxonmobil Chemical Patents, Inc. | Alkylaromatics production |
| FR2812125A1 (fr) * | 2000-07-21 | 2002-01-25 | Thomson Plasma | Dalle en verre munie d'electrodes en un materiau conducteur |
| JP2002102709A (ja) * | 2000-09-29 | 2002-04-09 | Showa Denko Kk | 酸化化合物製造用結晶性ｍｗｗ型チタノシリケート触媒、該触媒の製造方法、及び該触媒を用いた酸化化合物の製造方法 |
| US6781025B2 (en) * | 2001-07-11 | 2004-08-24 | Exxonmobil Chemical Patents Inc. | Reactivation of aromatics alkylation catalysts |
| JP4241068B2 (ja) * | 2002-03-07 | 2009-03-18 | 昭和電工株式会社 | Ｍｗｗ型ゼオライト物質の製造方法 |
| US7255849B2 (en) * | 2003-06-24 | 2007-08-14 | Exxonmobil Research And Engineering Company | EMM-3, new crystalline microporous material |
| JP4433843B2 (ja) * | 2004-03-22 | 2010-03-17 | 住友化学株式会社 | プロピレンオキサイド製造用触媒及びプロピレンオキサイドの製造方法 |
| ES2246704B1 (es) | 2004-05-28 | 2007-06-16 | Universidad Politecnica De Valencia | Zeolita itq-30. |
| JP4457761B2 (ja) | 2004-06-04 | 2010-04-28 | 宇部興産株式会社 | シクロヘキシルベンゼン製造用触媒及びシクロヘキシルベンゼンの製造方法 |
| US7488861B2 (en) * | 2005-03-17 | 2009-02-10 | Catalytic Distillation Technologies | Process for the co-production of cumene and secondary butyl benzene |
| US7824277B2 (en) * | 2005-12-23 | 2010-11-02 | Acushnet Company | Metal wood club |
| EP2051804B1 (en) * | 2006-07-28 | 2016-08-10 | ExxonMobil Chemical Patents Inc. | Molecular sieve composition (emm-10-p), its method of making, and use for hydrocarbon conversions |
| BRPI0714316B1 (pt) * | 2006-07-28 | 2018-05-15 | Exxonmobil Chemical Patents Inc | Composição de peneira molecular da família de mcm-22, seu método de preparação, e uso para conversões de hidrocarboneto |
| US7959899B2 (en) * | 2006-07-28 | 2011-06-14 | Exxonmobil Chemical Patents Inc. | Molecular sieve composition (EMM-10-P), its method of making, and use for hydrocarbon conversions |
| BRPI0713674A2 (pt) * | 2006-07-28 | 2012-10-23 | Exxonmobil Chem Patents Inc | formulações farmarcêuticas e composições de um antagonista seletivo cxcr2 ou cxcr1 e métodos para o uso do mesmo visando o tratamento de distúrbios inflamatórios |
| BRPI0714959B1 (pt) * | 2006-07-28 | 2016-12-06 | Exxonmobil Chemical Patents Inc | composição de peneira molecular, método para fabricação e processo para uso do mesmo |
| JP2008041700A (ja) * | 2006-08-01 | 2008-02-21 | Tokyo Electron Ltd | 成膜方法、成膜装置及び記憶媒体 |
| JP2008162846A (ja) * | 2006-12-28 | 2008-07-17 | Japan Science & Technology Agency | ゼオライト層状前駆体からの大細孔ゼオライトの製造法 |
| CN101796000B (zh) * | 2007-08-15 | 2013-07-10 | 埃克森美孚化学专利公司 | 环己基苯的制备方法 |
| US7847128B2 (en) | 2007-09-21 | 2010-12-07 | Exxonmobil Chemical Patents Inc. | Process for producing cyclohexylbenzene |
| KR101536828B1 (ko) | 2008-04-25 | 2015-07-14 | 엑손모빌 케미칼 패턴츠 인코포레이티드 | 페놀 및/또는 사이클로헥사논의 제조방법 |
| CA2729265C (en) * | 2008-07-28 | 2013-06-25 | Wieslaw J. Roth | A novel molecular sieve composition emm-12, a method of making and a process of using the same |
| US7579511B1 (en) * | 2008-10-10 | 2009-08-25 | Exxonmobil Research And Engineering Company | Process for making cyclohexylbenzene |
-
2009
- 2009-07-15 CN CN201410053951.5A patent/CN103754892A/zh active Pending
- 2009-07-15 WO PCT/US2009/050720 patent/WO2010014402A1/en active Application Filing
- 2009-07-15 KR KR1020107029584A patent/KR101254411B1/ko active IP Right Grant
- 2009-07-15 US US12/994,304 patent/US8217213B2/en active Active
- 2009-07-15 CN CN200980129107.3A patent/CN102216215B/zh active Active
- 2009-07-15 JP JP2011521171A patent/JP5461553B2/ja active Active
- 2009-07-20 TW TW098124430A patent/TWI427053B/zh active
- 2009-07-20 TW TW098124431A patent/TWI523811B/zh active
-
2014
- 2014-01-15 JP JP2014005491A patent/JP5745110B2/ja active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TWI427053B (zh) | 2014-02-21 |
| CN103754892A (zh) | 2014-04-30 |
| TW201022189A (en) | 2010-06-16 |
| TWI523811B (zh) | 2016-03-01 |
| CN102216215B (zh) | 2014-03-26 |
| KR101254411B1 (ko) | 2013-04-15 |
| JP5745110B2 (ja) | 2015-07-08 |
| US8217213B2 (en) | 2012-07-10 |
| CN102216215A (zh) | 2011-10-12 |
| JP2011529499A (ja) | 2011-12-08 |
| JP2014159409A (ja) | 2014-09-04 |
| WO2010014402A1 (en) | 2010-02-04 |
| TW201022146A (en) | 2010-06-16 |
| US20110071329A1 (en) | 2011-03-24 |
| KR20110042156A (ko) | 2011-04-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2509722C2 (ru) | Способ получения алкилароматических соединений с использованием емм-12 | |
| JP5476379B2 (ja) | 新規なモレキュラーシーブ組成物ｅｍｍ−１２、その製造方法およびその使用プロセス | |
| JP5745110B2 (ja) | Ｅｍｍ−１２を用いるアルキル芳香族化合物の製造方法 | |
| JP5807929B2 (ja) | Ｅｍｍ−１３を用いるアルキル芳香族化合物の製造方法 | |
| WO2013048636A1 (en) | Improved mcm-56 manufacture | |
| CA2729173C (en) | Process of making alkylaromatics using emm-13 | |
| US8466333B2 (en) | Process of making alkylaromatics using EMM-12 | |
| JP5941389B2 (ja) | 改良された液相アルキル化方法 | |
| WO2013039673A1 (en) | Improved liquid phase alkylation process |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130306 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130314 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130614 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20131216 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140115 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5461553 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |