JP5453818B2 - 二光子吸収材料とその用途 - Google Patents
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また、ポリフィリン誘導体の二光子吸収材料に関する従来例として、特許文献4〜12開示のものがある。
また、三次元メモリ媒体(材料)に関する従来例として、特許文献13〜15開示のものがある。
また、光制限素子(材料)に関する従来例として、特許文献16開示のものがある。
また、光造形技術に関する従来例として、特許文献17開示のものがある。
また、二光子特性を利用した(蛍光)顕微鏡に関する従来例として、特許文献18〜20開示のものがある。
すなわち、上記課題は以下の本発明によって解決される。
(1)「下記式で示されるジアザポルフィリン誘導体からなる二光子吸収材料」;
R9〜R11はそれぞれ独立に水素原子、置換もしくは未置換のアルキル基、置換もしくは未置換のアルコキシ基を表わし、oは1〜4の整数、p、qは1〜5の整数を表わす。
Mは2個の水素原子、または酸素、ハロゲンを有してもよい2価、3価、もしくは4価の金属原子、または(OR’ 9)a、(OSiR’ 10 R’ 11 R’ 12)b、(OPOR’ 13 R’ 14)c、(OCOR’ 15)dを有してもよい金属原子を表わす。R’ 9〜R’ 15は独立に水素原子、置換もしくは未置換の脂肪族、芳香族炭化水素基を表わし、a、b、c、dは0〜2の整数を表わす。
(2)「下記式で示されるジアザポルフィリン誘導体からなる二光子吸収材料」;
R9〜R15はそれぞれ独立に水素原子、置換もしくは未置換のアルキル基、置換もしくは未置換のアルコキシ基を表わし、oは1〜4の整数、p、qは1〜5の整数を表わす。
Mは2個の水素原子、または酸素、ハロゲンを有してもよい2価、3価、もしくは4価の金属原子、または(OR’ 9)a、(OSiR’ 10 R’ 11 R’ 12)b、(OPOR’ 13 R’ 14)c、(OCOR’ 15)dを有してもよい金属原子を表わす。R’ 9〜R’ 15は独立に水素原子、置換もしくは未置換の脂肪族、芳香族炭化水素基を表わし、a、b、c、dは0〜2の整数を表わす。
(3)「下記式で示されるジアザポルフィリン誘導体からなる二光子吸収材料」;
Mは2個の水素原子、または酸素、ハロゲンを有してもよい2価、3価、もしくは4価の金属原子、または(OR’ 9)a、(OSiR’ 10 R’ 11 R’ 12)b、(OPOR’ 13 R’ 14)c、(OCOR’ 15)dを有してもよい金属原子を表わす。R’ 9〜R’ 15は独立に水素原子、置換もしくは未置換の脂肪族、芳香族炭化水素基を表わし、a、b、c、dは0〜2の整数を表わす。
(4)「式中、下記式で示されるジアザポルフィリン誘導体からなる二光子吸収材料」;
Mは2個の水素原子、または酸素、ハロゲンを有してもよい2価、3価、もしくは4価の金属原子、または(OR’ 9)a、(OSiR’ 10 R’ 11 R’ 12)b、(OPOR’ 13 R’ 14)c、(OCOR’ 15)dを有してもよい金属原子を表わす。R’ 9〜R’ 15は独立に水素原子、置換もしくは未置換の脂肪族、芳香族炭化水素基を表わし、a、b、c、dは0〜2の整数を表わす。
(5)「下記式で示されるジアザポルフィリン誘導体からなる二光子吸収材料」;
R9〜R11、R12〜R14はそれぞれ独立に水素原子、置換もしくは未置換のアルキル基、置換もしくは未置換のアルコキシ基を表わし、o、rは1〜4の整数、p、q、s、tは1〜5の整数を表わす。
Mは2個の水素原子、または酸素、ハロゲンを有してもよい2価、3価、もしくは4価の金属原子、または(OR’ 9)a、(OSiR’ 10 R’ 11 R’ 12)b、(OPOR’ 13 R’ 14)c、(OCOR’ 15)dを有してもよい金属原子を表わす。R’ 9〜R’ 15は独立に水素原子、置換もしくは未置換の脂肪族、芳香族炭化水素基を表わし、a、b、c、dは0〜2の整数を表わす。
(6)「下記式で示されるジアザポルフィリン誘導体からなる二光子吸収材料」;
R9〜R22はそれぞれ独立に水素原子、置換もしくは未置換のアルキル基、置換もしくは未置換のアルコキシ基を表わし、o、rは1〜4の整数、p、q、s、tは1〜5の整数を表わす。Mは2個の水素原子、または酸素、ハロゲンを有してもよい2価、3価、もしくは4価の金属原子、または(OR’ 9)a、(OSiR’ 10 R’ 11 R’ 12)b、(OPOR’ 13 R’ 14)c、(OCOR’ 15)dを有してもよい金属原子を表わす。R’ 9〜R’ 15は独立に水素原子、置換もしくは未置換の脂肪族、芳香族炭化水素基を表わし、a、b、c、dは0〜2の整数を表わす。
(7)「下記式で示されるジアザポルフィリン誘導体からなる二光子吸収材料」;
R9〜R14はそれぞれ独立に水素原子、置換もしくは未置換のアルキル基、置換もしくは未置換のアルコキシ基を表わし、o、rは1〜4の整数、p、q、s、tは1〜5の整数を表わす。
Mは2個の水素原子、または酸素、ハロゲンを有してもよい2価、3価、もしくは4価の金属原子、または(OR’ 9)a、(OSiR’ 10 R’ 11 R’ 12)b、(OPOR’ 13 R’ 14)c、(OCOR’ 15)dを有してもよい金属原子を表わす。R’ 9〜R’ 15は独立に水素原子、置換もしくは未置換の脂肪族、芳香族炭化水素基を表わし、a、b、c、dは0〜2の整数を表わす。
(8)「前記式(1)〜(7)で、Mが亜鉛原子である前記第(1)項乃至第(7)項のいずれかに記載の二光子吸収材料」;
(9)「前記第(1)項乃至第(8)項のいずれかに記載の二光子吸収材料を含む光記録材料」;
(10)「前記第(1)項乃至第(9)項のいずれかに記載の二光子吸収材料を含む光制限材料」;
(11)「前記第(1)項乃至第(10)項のいずれかに記載の二光子吸収材料を含む光造形材料」;
(12)「前記第(1)項乃至第(11)項のいずれかに記載の二光子吸収材料を含む二光子励起蛍光材料」;
(13)「平面上に形成され、該平面に対し平面上、及び垂直方向に記録再生が可能な三次元光記録媒体において、前記第(1)項乃至第(8)項のいずれかに記載の二光子吸収材料が、光記録が行われる記録層の少なくとも一部として含まれている事を特徴とする三次元光記録媒体」;
(14)「制御光により信号光の光透過光強度を制限する素子を備えた光制限方法において、前記第(1)項乃至第(8)項のいずれかに記載の二光子吸収材料が、前記素子の少なくとも一部として含まれている事を特徴とする光制限方法」;
(15)「光硬化性樹脂に光を照射して光造形を行う方法において、前記第(1)項乃至第(8)項のいずれかに記載の二光子吸収材料が、前記光硬化性樹脂の少なくとも一部として含まれている事を特徴とする光造形方法」;
(16)「試料中の被分析物に前記第(1)項乃至第(8)項のいずれかに記載の二光子吸収材料を選択的に担持させ、該被分析物に光照射して前記二光子吸収材料の二光子蛍光光を発現、検出することによって、被分析物を検出することを特徴とする二光子励起蛍光検出方法」;
(17)「光硬化性樹脂に集光したレーザー光を照射して光造形を行う光造形装置において、前記第(1)項乃至第(8)項のいずれかに記載の二光子吸収材料が、前記光硬化性樹脂の少なくとも一部として含まれている事を特徴とする光造形装置」;
(18)「制御光により信号光の光透過光強度を制限する素子を備えた光制限装置において、前記第(1)項乃至第(8)項のいずれかに記載の二光子吸収材料が、前記素子の少なくとも一部として含まれている事を特徴とする光制限装置」;
(19)「制御光により信号光の、光の進路を制限する素子を備えた光制限装置において、前記第(1)項乃至第(8)項のいずれかに記載の二光子吸収材料が、前記素子の少なくとも一部として含まれている事を特徴とする光制限装置」;
(20)「試料中の被分析物に前記第(1)項乃至第(8)項のいずれかに記載の二光子吸収材料を選択的に担持させ、該被分析物に光照射して前記二光子吸収材料の二光子蛍光光を発現、検出することによって、被分析物を検出することを特徴とする二光子励起蛍光検出装置」。
最近、インターネット等のネットワークやハイビジョンTVが急速に普及している。また、HDTV(High Definition Television)の放映も間近にひかえて、民生用途においても50GB以上、好ましくは100GB以上の画像情報を安価簡便に記録するための大容量記録媒体の要求が高まっている。さらにコンピューターバックアップ用途、放送バックアップ用途等、業務用途においては、1TB程度あるいはそれ以上の大容量の情報を高速かつ安価に記録できる光記録媒体が求められている。そのような中、DVD±Rのような従来の2次元光記録媒体は物理原理上、たとえ記録再生波長を短波長化したとしてもせいぜい25GB程度で、将来の要求に対応できる程の充分大きな記録容量が期待できるとは言えない状況である。
本発明の目的は、二光子吸収断面積が大きい二光子吸収化合物を少なくとも有し、二光子吸収化合物の二光子吸収を利用して書き換えできない方式で記録を行った後、光を記録材料に照射してその発光強度の違いを検出することにより再生することを特徴とする二光子吸収光記録再生方法及びそのような記録再生が可能な二光子吸収光記録材料を提供するものである。
基板として好ましくは、ポリエチレンテレフタレート、樹脂下塗り型ポリエチレンテレフタレート、火炎又は静電気放電処理されたポリエチレンテレフタレート、セルロースアセテート、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリエステル、ポリビニルアルコール、ガラス等である。また、この基板にはあらかじめ、トラッキング用の案内溝やアドレス情報が付与されたものであってもよい。
光通信や光情報処理では、情報等の信号を光で搬送するためには変調、スイッチング等の光制御が必要になる。この種の光制御には、電気信号を用いた電気−光制御方法が従来採用されている。しかし電気−光制御方法は、電気回路のようなCR時定数による帯域制限、素子自体の応答速度や電気信号と光信号との間の速度の不釣合いで処理速度(>10 ps)が制限されることなどの制約があり、光の利点である広帯域性や高速性を十分に生かすためには、光信号によって光信号を制御する光−光制御技術が非常に重要になってくる。この要求に応えるものとして本発明の二光子吸収材料を加工して作製した光学素子は、光を照射することで引き起こされる透過率や屈折率、吸収係数などの光学的変化を利用し、電子回路技術を用いずに光の強度や周波数を直接光で変調することで、光通信、光交換、光コンピューター、光インターコネクション等における高速光スイッチなどに応用することが可能である。
−利用できる現象−
・SHB(スペクトル ホール バーニング)
・励起し吸収
・ISBT(サブバンド間遷移)
・QCSE(量子閉じ込めシャタルク効果)
−問題点−
・超高速応答を得るのが難しい
・素子作製(組成、構造)が複雑
・対応波長域が狭いことが多い → 波長選択制が狭い
・偏波依存性が大きい系が多い
−利用できる現象−
・二光子吸収の非線形性利点
・原理的に超高速応答
・素子作製(組成、構造)が容易
・対応波長域が広い → 波長選択制が広い
・偏波依存性がない
図2は、本発明の二光子吸収材料を、二光子励起し得る波長の制御光により二光子励起させることによって、一光子励起し得る波長の信号光を光スイッチングする光制御素子の一例である。光学素子として、保護層で狭持された二光子吸収材料の形態を示すが、この構成が本発明を限定するものではない。
図4は、本発明の二光子吸収材料を、二光子励起し得る波長の制御光により二光子励起させることによって、出力光の光路を光スイッチングする光制御素子の一例である。
制御光及び信号光から入射したレーザー光は、集光装置により二光子吸収材料を主構成要素とする光導波路の分岐路部位に集光され、制御光の強度が極めて強い場合のみ光導波路の分岐路部位により吸収され、その部位の屈折率が変化する。二光子吸収による光導波路の分岐路部位の屈折率変化、信号光の光導波路の屈折率、および出力光の光導波路の屈折率を調整することにより出力光の光路を切り替えることができる。二光子吸収の非線形性に伴う屈折率の変化を利用することにより、光導波路の光路の光スイッチングが可能となる。
蛍光物質としては、蛍光色素を光硬化性物質や種々の樹脂等に分散させたものなどが例示される。
光造形用二光子光硬化性樹脂とは、光を照射することにより二光子重合反応を起こし、液体から固体へと変化する特性を持った樹脂のことである。主成分はオリゴマーと反応性希釈剤からなる樹脂成分と光重合開始剤(必要に応じ光増感材料を含む)である。オリゴマーは重合度が2〜20程度の重合体であり、末端に多数の反応基を持つ。さらに、粘度、硬化性等を調整するため、反応性希釈剤が加えられている。光を照射すると、重合開始剤または光増感材料が二光子吸収し、重合開始剤から直接または光増感材料を介して反応種が発生し、オリゴマー、反応性希釈剤の反応基に反応して重合が開始される。その後、これらの間で連鎖的重合反応を起し三次元架橋が形成され、短時間のうちに三次元網目構造を持つ固体樹脂へと変化する。
本発明の二光子吸収材料は、このような要求を満たす、二光子吸収重合開始剤または二光子吸収光増感材料として用いることができる。本発明の二光子吸収材料は従来に比べ二光子吸収感度が高いため高速造形が可能となり、また二光子吸収現象を利用するため、微細で三次元的な造形を実現することができる。
i)回折限界をこえる加工分解能
二光子吸収の光強度に対する非線形性によって、焦点以外の領域では光硬化性樹脂が硬化しない。このため照射光の回折限界を超えた加工分解能を実現できる。
ii)超高速造形
本発明の二光子吸収材料を用いて加工される造形物においては、従来に比べ、二光子吸収感度が高いため、ビームのスキャン速度を速くすることができる。
iii)三次元加工性
光硬化性樹脂は、二光子吸収を誘起する近赤外光に対して透明である。したがって焦点光を樹脂の内部へ深く集光した場合でも、内部硬化が可能である。従来のSIHでは、ビームを深く集光した場合、光吸収によって集光点の光強度が小さくなり、内部硬化が困難になる問題点が、本発明ではこうした問題点を確実に解決することができる。
iv)高い歩留り
従来法では樹脂の粘性や表面張力によって造形物が破損、変形するという問題があったが、本手法では、樹脂の内部で造形を行うためこうした問題が解消される。
v)大量生産への適用:超高速造形を利用することによって、短時間に、連続的に多数個の部品あるいは可動機構の製造が可能である。
二光子励起蛍光検出法とは、二光子蛍光材料を結合させて標識した被分析物を含む試料に、近赤外のパルスレーザーを集光しながら走査し、被分析物が二光子励起されたときに発生する蛍光を検出することで三次元的に像を得る検出方法のことである。図7にそれら光検出デバイスの一例として、二光子励起蛍光顕微鏡を示した。
光線力学療法(Photodynamic Therapy : PDT)は、ヒト医学においてはすでに一部の早期悪性腫瘍に対して臨床応用が行われている治療法である。
外科的療法では身体を切開してさらに腫瘍を手術によって摘出するため、身体の機能や形態を損なってしまうことがあるが、PDTの場合、可能な限り正常組織を温存して治療できるメリットがある。
本発明のポルフィリン異性体の合成方法は例えば非特許文献3のAngew. Chem. Int. Ed. Engl. 1993,32,No.11,pp.1600-1604に記載の方法を用いることができる。
二光子吸収断面積の測定結果を(表8)に、その二光子吸収スペクトルを図9に示す。
二光子吸収断面積の測定結果を(表8)に、その二光子吸収スペクトルを図10、11に示す。
二光子吸収断面積の測定結果を(表8)に、その二光子吸収スペクトルを図10、11に示す。
二光子吸収断面積の測定結果を(表8)に示す。
二光子吸収断面積の測定結果を(表8)に示す。
二光子吸収断面積の測定結果を(表8)に示す。
二光子吸収断面積の測定結果を(表8)に示す。
二光子吸収断面積の測定結果を(表8)に示す。
二光子吸収断面積の測定結果を(表8)に示す。
以下の(比−1)で示した化合物のテトラヒドロフラン溶液を作成し、下記の二光子吸収断面積の評価方法により、その二光子吸収断面積を測定した。
その測定結果を(表8)に示す。
通常の代表的なポルフィリン構造である(比−2)で示した化合物のテトラヒドロフランを作成し、同様にその二光子吸収断面積を測定した。
その測定結果を(表8)に示す。
従来の代表的なジアザポルフィリン構造である(比−3)で示した化合物のテトラヒドロフランを作成し、同様にその二光子吸収断面積を測定した。
その測定結果を(表8)に示す。
測定システム概略図を図8示す。
測定光源:フェムト秒チタンサファイアレーザ
波長 :720〜920nm パルス幅:100fs
繰り返し:80MHz 光パワー:800mW
測定方法:Zスキャン法
光源波長:780〜900nm キュベット内径:1mm
測定光パワー:約500mW 繰り返し周波数:80MHz
集光レンズ:f=75mm 集光径 :〜40μm
集光されている光路部分に試料溶液を充填した石英セルを置き、その位置を光路に沿って移動させることによりZ-scan測定を実施した。透過率を測定し、その結果から理論式(I)により非線形吸収係数を求めた。
(σ2の単位は1GM=1×10−50cm4・s・photon−1である。)
従来のジアザポルフィリン構造よりも一桁大きな二光子吸収断面積が得られる。
本発明の優れた二光子吸収特性を有する化合物を適用すれば、より高品位の三次元メモリ材料、光制限材料、光造形用光硬化樹脂の硬化材料、光化学療法用材料、二光子蛍光顕微鏡用蛍光色素材料が実現できる。
51 光源
52 ダイクロイックミラー
53 集光装置
54 試料
55 可動または固定ステージ
56 光検出器
Claims (20)
- 下記式で示されるジアザポルフィリン誘導体からなる二光子吸収材料。
R9〜R11はそれぞれ独立に水素原子、置換もしくは未置換のアルキル基、置換もしくは未置換のアルコキシ基を表わし、oは1〜4の整数、p、qは1〜5の整数を表わす。
Mは2個の水素原子、または酸素、ハロゲンを有してもよい2価、3価、もしくは4価の金属原子、または(OR’ 9)a、(OSiR’ 10 R’ 11 R’ 12)b、(OPOR’ 13 R’ 14)c、(OCOR’ 15)dを有してもよい金属原子を表わす。R’ 9〜R’ 15は独立に水素原子、置換もしくは未置換の脂肪族、芳香族炭化水素基を表わし、a、b、c、dは0〜2の整数を表わす。 - 下記式で示されるジアザポルフィリン誘導体からなる二光子吸収材料。
R9〜R15はそれぞれ独立に水素原子、置換もしくは未置換のアルキル基、置換もしくは未置換のアルコキシ基を表わし、oは1〜4の整数、p、qは1〜5の整数を表わす。
Mは2個の水素原子、または酸素、ハロゲンを有してもよい2価、3価、もしくは4価の金属原子、または(OR’ 9)a、(OSiR’ 10 R’ 11 R’ 12)b、(OPOR’ 13 R’ 14)c、(OCOR’ 15)dを有してもよい金属原子を表わす。R’ 9〜R’ 15は独立に水素原子、置換もしくは未置換の脂肪族、芳香族炭化水素基を表わし、a、b、c、dは0〜2の整数を表わす。 - 下記式で示されるジアザポルフィリン誘導体からなる二光子吸収材料。
Mは2個の水素原子、または酸素、ハロゲンを有してもよい2価、3価、もしくは4価の金属原子、または(OR’ 9)a、(OSiR’ 10 R’ 11 R’ 12)b、(OPOR’ 13 R’ 14)c、(OCOR’ 15)dを有してもよい金属原子を表わす。R’ 9〜R’ 15は独立に水素原子、置換もしくは未置換の脂肪族、芳香族炭化水素基を表わし、a、b、c、dは0〜2の整数を表わす。 - 式中、下記式で示されるジアザポルフィリン誘導体からなる二光子吸収材料。
Mは2個の水素原子、または酸素、ハロゲンを有してもよい2価、3価、もしくは4価の金属原子、または(OR’ 9)a、(OSiR’ 10 R’ 11 R’ 12)b、(OPOR’ 13 R’ 14)c、(OCOR’ 15)dを有してもよい金属原子を表わす。R’ 9〜R’ 15は独立に水素原子、置換もしくは未置換の脂肪族、芳香族炭化水素基を表わし、a、b、c、dは0〜2の整数を表わす。 - 下記式で示されるジアザポルフィリン誘導体からなる二光子吸収材料。
R9〜R11、R12〜R14はそれぞれ独立に水素原子、置換もしくは未置換のアルキル基、置換もしくは未置換のアルコキシ基を表わし、o、rは1〜4の整数、p、q、s、tは1〜5の整数を表わす。
Mは2個の水素原子、または酸素、ハロゲンを有してもよい2価、3価、もしくは4価の金属原子、または(OR’ 9)a、(OSiR’ 10 R’ 11 R’ 12)b、(OPOR’ 13 R’ 14)c、(OCOR’ 15)dを有してもよい金属原子を表わす。R’ 9〜R’ 15は独立に水素原子、置換もしくは未置換の脂肪族、芳香族炭化水素基を表わし、a、b、c、dは0〜2の整数を表わす。 - 下記式で示されるジアザポルフィリン誘導体からなる二光子吸収材料。
R9〜R22はそれぞれ独立に水素原子、置換もしくは未置換のアルキル基、置換もしくは未置換のアルコキシ基を表わし、o、rは1〜4の整数、p、q、s、tは1〜5の整数を表わす。Mは2個の水素原子、または酸素、ハロゲンを有してもよい2価、3価、もしくは4価の金属原子、または(OR’ 9)a、(OSiR’ 10 R’ 11 R’ 12)b、(OPOR’ 13 R’ 14)c、(OCOR’ 15)dを有してもよい金属原子を表わす。R’ 9〜R’ 15は独立に水素原子、置換もしくは未置換の脂肪族、芳香族炭化水素基を表わし、a、b、c、dは0〜2の整数を表わす。 - 下記式で示されるジアザポルフィリン誘導体からなる二光子吸収材料。
R9〜R14はそれぞれ独立に水素原子、置換もしくは未置換のアルキル基、置換もしくは未置換のアルコキシ基を表わし、o、rは1〜4の整数、p、q、s、tは1〜5の整数を表わす。
Mは2個の水素原子、または酸素、ハロゲンを有してもよい2価、3価、もしくは4価の金属原子、または(OR’ 9)a、(OSiR’ 10 R’ 11 R’ 12)b、(OPOR’ 13 R’ 14)c、(OCOR’ 15)dを有してもよい金属原子を表わす。R’ 9〜R’ 15は独立に水素原子、置換もしくは未置換の脂肪族、芳香族炭化水素基を表わし、a、b、c、dは0〜2の整数を表わす。 - 前記式(1)〜(7)で、Mが亜鉛原子である請求項1乃至7のいずれかに記載の二光子吸収材料。
- 請求項1乃至8のいずれかに記載の二光子吸収材料を含む光記録材料。
- 請求項1乃至9のいずれかに記載の二光子吸収材料を含む光制限材料。
- 請求項1乃至10のいずれかに記載の二光子吸収材料を含む光造形材料。
- 請求項1乃至11のいずれかに記載の二光子吸収材料を含む二光子励起蛍光材料。
- 平面上に形成され、該平面に対し平面上、及び垂直方向に記録再生が可能な三次元光記録媒体において、請求項1乃至8のいずれかに記載の二光子吸収材料が、光記録が行われる記録層の少なくとも一部として含まれている事を特徴とする三次元光記録媒体。
- 制御光により信号光の光透過光強度を制限する素子を備えた光制限方法において、請求項1乃至8のいずれかに記載の二光子吸収材料が、前記素子の少なくとも一部として含まれている事を特徴とする光制限方法。
- 光硬化性樹脂に光を照射して光造形を行う方法において、請求項1乃至8のいずれかに記載の二光子吸収材料が、前記光硬化性樹脂の少なくとも一部として含まれている事を特徴とする光造形方法。
- 試料中の被分析物に請求項1乃至8のいずれかに記載の二光子吸収材料を選択的に担持させ、該被分析物に光照射して前記二光子吸収材料の二光子蛍光光を発現、検出することによって、被分析物を検出することを特徴とする二光子励起蛍光検出方法。
- 光硬化性樹脂に集光したレーザー光を照射して光造形を行う光造形装置において、請求項1乃至8のいずれかに記載の二光子吸収材料が、前記光硬化性樹脂の少なくとも一部として含まれている事を特徴とする光造形装置。
- 制御光により信号光の光透過光強度を制限する素子を備えた光制限装置において、請求項1乃至8のいずれかに記載の二光子吸収材料が、前記素子の少なくとも一部として含まれている事を特徴とする光制限装置。
- 制御光により信号光の、光の進路を制限する素子を備えた光制限装置において、請求項1乃至8のいずれかに記載の二光子吸収材料が、前記素子の少なくとも一部として含まれている事を特徴とする光制限装置。
- 試料中の被分析物に請求項1乃至8のいずれかに記載の二光子吸収材料を選択的に担持させ、該被分析物に光照射して前記二光子吸収材料の二光子蛍光光を発現、検出することによって、被分析物を検出することを特徴とする二光子励起蛍光検出装置。
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