JP5453113B2 - ナノ粒子を含む層構造 - Google Patents

Description

本発明は、真珠光沢（ｉｒｉｄｅｓｃｅｎｃｅ）を回避するために第１および第２の層の屈折率を適合させる、少なくとも第１および第２の層を含む層構造（ｌａｙｅｒｅｄ ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ）に関する。本発明はまた、基板および低真珠光沢コーティング（ｌｏｗ ｉｒｉｄｅｓｃｅｎｔ ｃｏａｔｉｎｇ）を含むウィンドウフィルムに関する。本発明はさらに、２つの層の屈折率の指数を適合させ、それにより真珠光沢を回避する方法に関する。

太陽光制御フィルムおよび安全フィルムなどのウィンドウフィルムは当分野で公知である。これらのウィンドウフィルムは、例えば赤外線を吸収または反射するために、１つ以上の層を備えた高分子基板を含む。

しかし、この種類の薄い厚さのフィルムに関する問題は、真珠光沢の発生である。真珠光沢は、反射光および程度は低いが透過光中に干渉色を示す光学現象として公知である。この真珠光沢現象は、人工光を用いると、より具体的には蛍光灯を用いると最も顕著である。

本発明の目的は、第１および第２の層の屈折率が適合している、少なくとも第１および第２の層を含む層構造を提供することである。

もう一つの目的は、真珠光沢の発生を回避する層構造を提供することである。

本発明のさらなる目的は、真珠光沢の発生を回避する基板およびコーティングを含むウィンドウフィルムを提供することである。

本発明のなおさらなる目的は、２つの層の屈折率の指数を適合させる方法を提供し、それによって真珠光沢の発生を回避することである。

本発明の第１の態様によれば、第１の層の屈折率η_１および第２の層の屈折率η_２が適合している、少なくとも、屈折率η_１を有する第１の層および屈折率η_２を有する第２の層を含む層構造が提供される。第１の層は、屈折率η_{ｍａｔｒｉｘ１}を有する第１のマトリックス材料を含み、第２の層は、屈折率η_{ｍａｔｒｉｘ２}を有する第２のマトリックス材料を含む。第１のマトリックス材料の屈折率η_{ｍａｔｒｉｘ１}は、第２のマトリックス材料の屈折率η_{ｍａｔｒｉｘ２}とは異なる。波長５１０ｎｍでの第１のマトリックス材料の屈折率η_{ｍａｔｒｉｘ１}と第２のマトリックス材料の屈折率η_{ｍａｔｒｉｘ２}との差は、少なくとも０．１である。層構造は、可視域の各々の波長での第１の層の屈折率η_１と第２の層の屈折率η_２との差が０．０８未満であるように、第１のマトリックス材料の屈折率η_{ｍａｔｒｉｘ１}と第２のマトリックス材料の屈折率η_{ｍａｔｒｉｘ２}との差を適合させるために、第１の層または第２の層のうちの少なくとも１つの層がナノ粒子を含むことを特徴とする。本発明の目的において、可視域は、３８０〜７５０ｎｍの範囲と定義される。

好ましい実施形態では、波長５１０ｎｍでの第１のマトリックス材料の屈折率η_{ｍａｔｒｉｘ１}と第２のマトリックス材料の屈折率η_{ｍａｔｒｉｘ２}との差は０．１２より大きく、例えば０．１５より大きい。

上に述べたように、可視域中の各々の波長での第１の層の屈折率η_１と第２の層の屈折率η_２との差は、０．８より小さい。より好ましくは、可視域中の各々の波長での第１の層の屈折率η_１と第２の層の屈折率η_２との差は、０．６より小さく、最も好ましくは０．０５よりも小さいかまたはさらに０．０２よりも小さい。

ナノ粒子を使用して第１の層および第２の層の屈折率を適合させることにより、透明度および曇りなどの層構造の光学特性は、影響を受けないか、または非常に低い程度しか影響を受けない。

第１の実施形態では、第１の層かまたは第２の層のいずれかがナノ粒子を含む。もう一つの実施形態では、第１の層および第２の層の両方がナノ粒子を含む。

本発明の目的において、ナノ粒子は１〜５００ｎｍの間の範囲の直径を有する粒子として定義される。より好ましくは、粒子の直径は、１０〜１００ｎｍの間、例えば２０〜８０ｎｍの間の範囲である。

ナノ粒子はどのような形状であってもよい。それらは例えば球状、細長い形状、立体形状、楕円形状または任意のその他の規則的もしくは不規則的な形状を有してよい。ナノ粒子は、非晶質、半晶質、または結晶質であってよい。

ナノ粒子は、有機ナノ粒子または無機ナノ粒子のどちらも含み得る。有機ナノ粒子の例は、カーボンナノチューブまたはナノスフェアである。無機粒子の例は、酸化物粒子、硫化物粒子および窒化物粒子である。酸化物粒子は、好ましくは、酸化アルミニウム、酸化シリコン、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化アンチモン、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化インジウム、酸化インジウムスズ、酸化セリウム、酸化ニオブ、酸化バナジウム、酸化タングステン、酸化タンタリウム、ドープ酸化物およびこれらの酸化物のうち１つ以上の混合物からなる群から選択される。ドープ酸化物は、例えばスズでドープした酸化インジウムなどのドープ酸化インジウム、ドープ酸化バナジウム、ドープ酸化タングステンを含む。硫化物粒子は、例えば硫化亜鉛を含む。窒化物粒子は、例えば窒化珪素を含む。

２以上のナノ粒子の混合物を使用することが好ましい。異なる種類のナノ粒子を使用することにより、第１の層と第２の層の間の屈折率の差を、より広い波長範囲にわたってより良好に適合させることができる。好ましいナノ粒子の混合物は、酸化チタンと酸化ジルコニウム粒子の組合せを含む。

第１の層および第２の層の屈折率は、マトリックス材料の屈折率、ナノ粒子の屈折率、ナノ粒子の体積分率、マトリックス材料の体積分率、ナノ粒子のサイズおよび形状などに影響される。

本発明の目的において、１つの層のナノ粒子の体積分率は、該層の総体積で除算した、該層中に存在するナノ粒子の体積と定義される。層に気孔が存在する場合、これらの気孔は層の総体積に含められる。マトリックス材料の体積分率は、該層の総体積で除算した、該層中に存在するマトリックス材料の体積と定義される。

マトリックス材料は、例えば無機もしくは有機結合剤などの結合剤または樹脂を含む。無機結合剤の例として、ケイ酸塩結合剤を検討することができる。有機結合剤として、アクリル系結合剤、ビニル系結合剤、ウレタン系結合剤および同類のものを検討することができる。

場合により、１以上の添加剤がマトリックス材料に加えられる。添加剤の例には、表面調整剤、泡制御剤、レオロジー改質剤、分散剤、湿潤剤、色調調整剤、表面改質剤、硬化開始剤、例えばＵＶ硬化開始剤または電子線硬化開始剤、熱硬化開始剤、光沢防止剤（ａｎｔｉ−ｓｈｉｎｉｎｇ ａｇｅｎｔｓ）、腐蝕防止剤、導電剤（ｃｏｎｄｕｃｔｉｖｉｔｙ ａｇｅｎｔｓ）、ＵＶ吸収剤、光安定剤、殺生物剤、接着促進剤、重合開始剤、ナノ粒子などの太陽光制御添加剤、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）ナノ粒子またはアンチモン酸化スズ（ＡＴＯ）ナノ粒子などが含まれる。

本発明によれば、低真珠光沢コーティングのナノ粒子の濃度は、低真珠光沢コーティングの屈折率が基板の屈折率に近づくような方法で選択される。

１種類のナノ粒子を使用する場合、特定の波長λでの層ｎの屈折率は、次の方程式に従って計算される。
η_{ｌａｙｅｒ ｎ}（λ）＝Ｖ_ＮＰ・η_ＮＰ（λ）＋Ｖ_{ｍａｔｒｉｘ・}η_{ｍａｔｒｉｘ}（λ）
式中、
η_{ｌａｙｅｒ ｎ}（λ）は、波長λでの層ｎの屈折率であり、
Ｖ_ＮＰは、層ｎ中のナノ粒子の体積分率であり、
η_ＮＰ（λ）は、波長λでのナノ粒子の屈折率であり、
Ｖ_{ｍａｔｒｉｘ}は、層ｎ中のマトリックス材料の体積分率であり、
η_{ｍａｔｒｉｘ}（λ）は、波長λでのマトリックス材料の屈折率である。

異なる種類のナノ粒子の混合物を使用する場合、特定の波長λでの層ｎの屈折率は、次の方程式に従って計算される。
η_{ｌａｙｅｒ ｎ}（λ）＝Ｖ_ＮＰ１・η_ＮＰ１（λ）＋…＋Ｖ_ＮＰｎ・η_ＮＰｎ（λ）＋Ｖ_{ｍａｔｒｉｘ・}η_{ｍａｔｒｉｘ}（λ）
式中、
η_ＮＰ１（λ）は、波長λでの第１の種類のナノ粒子の屈折率であり、
Ｖ_ＮＰ１は、層ｎ中の第１の種類のナノ粒子の体積分率であり、
η_ＮＰ２（λ）は、波長λでの第２の種類のナノ粒子の屈折率であり、
Ｖ_ＮＰ２は、層ｎ中の第２の種類のナノ粒子の体積分率であり、
η_ＮＰｎ（λ）は、波長λでのｎ番目の種類のナノ粒子の屈折率であり、
Ｖ_ＮＰｎは、層ｎ中のｎ番目の種類のナノ粒子の体積分率である。

本発明によれば、ナノ粒子は、マトリックス材料中に組み込まれるかまたは埋封される。ナノ粒子をマトリックス材料中に組み込むかまたは埋封するためのあらゆる方法が使用されてよい。一つの可能性のある方法には、押出または共押出が含まれる。あるいは、マトリックス材料とナノ粒子を含む層は、マトリックス材料とナノ粒子を含む混合物を基板上に適用することにより得ることができる。この混合物は、当分野で公知の任意の技法により、好ましくはウェットコーティング法により適用することができる。適した技法は、スピンコーティング、浸漬コーティング、リバースロールコーティング、リバースロール精密コーティング、直接ロールコーティング、ニップロールコーティングおよびフォワードロールコーティングのような自動定量（ｓｅｌｆ−ｍｅｔｅｒｅｄ）コーティング法；メイヤーロッドコーティング、ブレードコーティング、ナイフコーティング、エアナイフコーティング、キスコーティングのようなドクター（ｄｏｃｔｏｒｅｄ）コーティング法；スロットダイコーティング、スライドコーティング、押出コーティング、カーテンコーティング、カーテン精密コーティング、スプレーコーティングのような事前定量（ｐｒｅ−ｍｅｔｅｒｅｄ）コーティング法、または上述の技法のうちの１以上の組合せを用いるハイブリッドコーティング法、例えばグラビアコーティング、マイクログラビアコーティングおよびメニスカスコーティングである。場合により、溶媒が混合物に加えられる。

本発明の具体的な実施形態では、ナノ粒子は、それらの表面に有機基を含む。これらの有機基は、マトリックス材料と架橋ネットワークを形成することができる。これらの有機基は、例えばナノ粒子表面にグラフトされる。例としては、アクリレート基および／またはメタクリレート基を含むナノ粒子である。

本発明による層構造は、層構造の層のうちの１つの厚さが５μｍより薄い（例えば１〜３．５μｍの間の）場合に特に重要である。そのような薄層が使用される場合に真珠光沢が最も顕著であることは当分野で公知である。

本発明の第２の態様によれば、上記のように少なくとも第１の層と第２の層を含む層構造を含むウィンドウフィルムが提供される。

ウィンドウフィルムは、例えば太陽光制御フィルムとして、または安全フィルムとして機能することができる。

好ましくは、第１の層および第２の層のうちの少なくとも１つの層は基板を含む。基板として、原則として、例えば透明な基板、染色した基板、反射基板および吸収基板のような、あらゆる基板を考えることができる。基板は軟質であっても硬質であってもよい。好ましい基板には、ガラス基板およびポリマーフィルムが含まれる。適したポリマーには、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエチレンテレフタラート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリアミド樹脂、塩化ビニル樹脂、オレフィン樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、フルオロ樹脂、ビニル系樹脂、例えばポリビニルブチラール樹脂またはエチレン酢酸ビニル共重合体樹脂、ポリウレタン樹脂およびポリエーテルイミド樹脂が含まれる。

好ましくは、第１の層および第２の層のうちの少なくとも１つの層は、基板上に適用されたコーティング層を含む。

本発明によるコーティング層は、５μｍより薄い、例えば１〜３．５μｍの間の厚さを有することが好ましい。

層構造またはウィンドウフィルムがコーティング層を含む場合、コーティング層の屈折率は、コーティング層自体の屈折率である。

ウィンドウフィルムの第１の群は、第１の層である基板およびこの基板の上に適用された第２の層であるコーティング層を有する層構造を含むウィンドウフィルムを含む。コーティング層は、例えばハードコーティング、接着剤層、赤外線吸収層、防曇層、その他の機能を有し得る。コーティング層は、コーティング層の屈折率と基板の屈折率を適合させるためにナノ粒子を含む。

ウィンドウフィルムのこの第１の群の特定の実施形態では、ウィンドウフィルムは基板およびハードコーティングを含む。ハードコーティングは、例えばアクリレート系コーティング層を含む。ハードコーティングは、ナノ粒子を含む。ハードコーティング中のナノ粒子の体積分率は、可視域の各々の波長でのナノ粒子を含むハードコーティングの屈折率と金属化された基板の屈折率との差が、０．０８未満、より好ましくは０．０６未満、最も好ましくはさらに０．０２未満であるように選択される。ハードコーティングの屈折率は基板の屈折率と適合しているので、この種類のウィンドウフィルムは、真珠光沢を示さない。

この種類のウィンドウフィルムは、接着剤層を用いてガラス基板に付着させることができる。接着剤層とガラス基板の屈折率は異なっているので、接着剤−ガラス基板の界面で真珠光沢が生じる可能性がある。これを回避するため、場合によりナノ粒子を接着剤層に添加して、接着剤層とガラス基板の屈折率の差を適合させることができる。

ウィンドウフィルムの第２の群は、金属化された基板および、例えばハードコーティングであるコーティング層を含む。金属化された基板は、例えば銀層などの金属層を備えた高分子もしくはガラス基板を含む。ハードコーティングは、ナノ粒子を含む。ハードコーティング中のナノ粒子の体積分率は、可視域の各々の波長でのナノ粒子を含むハードコーティングの屈折率と金属化された基板の屈折率との差が、０．０８未満、より好ましくは０．０６未満、最も好ましくはさらに０．０２未満であるように選択される。ハードコーティングの屈折率は基板の屈折率と適合しているので、この種類のウィンドウフィルムは、真珠光沢を示さない。

また、この種類のウィンドウフィルムは、接着剤層を用いてガラス基板に付着させることができる。場合によりナノ粒子を接着剤層に添加して、接着剤層とガラス基板の屈折率の差を適合させることができる。

ウィンドウフィルムの第３の群は、少なくとも第１の基板および第２の基板を含む。ウィンドウフィルムは、第１の基板、接着剤層、第２の基板およびハードコーティングを連続的に含む。ハードコーティングは、ハードコーティングの屈折率と第２の基板の屈折率を適合させるため、および真珠光沢を回避するためにナノ粒子を含む。ハードコーティング中のナノ粒子の体積分率は、可視域の各々の波長でのハードコーティングの屈折率と第２の基板の屈折率との差が、０．０８未満、より好ましくは０．０６未満、最も好ましくはさらに０．０２未満であるように選択される。

場合により、ナノ粒子をまた接着剤層に添加して、接着剤層の屈折率と第１の基板の屈折率を適合させる。

また、この種類のウィンドウフィルムを、接着剤層を用いてガラス基板に付着させることができる。場合により、ナノ粒子を接着剤層に添加して、接着剤層とガラス基板の屈折率の差を適合させることができる。

本発明の第３の態様によれば、第１の層と第２の層との間の屈折率の差を適合させるための方法が提供される。第１の層は、屈折率η_１を有する。第２の層は、屈折率η_２を有する。第１の層は、屈折率ｎ_{ｍａｔｒｉｘ１}を有する第１のマトリックスを含み、第２の層は、屈折率ｎ_{ｍａｔｒｉｘ２}を有する第２のマトリックス材料を含む。屈折率ｎ_{ｍａｔｒｉｘ１}は、屈折率ｎ_{ｍａｔｒｉｘ２}とは異なる。５１０ｎｍの波長での屈折率ｎ_{ｍａｔｒｉｘ１}と屈折率ｎ_{ｍａｔｒｉｘ２}との差は、少なくとも０．１である。
本発明による方法は、前記第１のマトリックス材料および／または前記第２のマトリックス材料のうちの少なくとも１つにナノ粒子を組み込むステップを含む。前記第１および／または前記第２のマトリックス材料中の前記ナノ粒子の体積分率は、第１の層の屈折率ｎ_１と第２の層の屈折率ｎ_２との差が０．０８未満となるように選択される。

より好ましくは、屈折率ｎ_１の屈折率と第２の層の屈折率ｎ_２との屈折率の差は、０．０６未満、またはさらに０．０２未満である。

以下、本発明を、添付の図面を参照してより詳細に説明する。

基板とコーティング層が異なる屈折率を有する、コーティング層を有する基板の可視域における反射スペクトルを説明する図である。 本発明による低真珠光沢コーティングで被覆された基板の可視域における反射スペクトルを説明する図である。 ウィンドウフィルムを備えたガラス基板の可視域における反射スペクトルを説明する図である。

本発明を、特定の実施形態に関して、かつ、特定の図面を参照してさらに説明する。

明細書および特許請求の範囲中の第１の、第２の、および同様の用語は、同様の要素を区別するために用いられるものであり、必ずしも時間的または空間的に順位を付けて、またはその他のいずれの方法で、順序を説明するためのものではない。

被覆された基板の第１の例には、ハードコーティングで被覆されたＰＥＴフィルムが含まれる。ハードコーティングは、アクリレート系コーティング、より特に、９５重量％のペンタエリトリトールアクリレート多官能性モノマーの混合物、２重量％の添加剤および３重量％のＵＶ硬化開始剤を含む。コーティングの厚さは、１．５〜３μｍの間の範囲である。ハードコーティングは、５１０で１．４８の屈折率を有する。ＰＥＴフィルムは、厚さが２３μｍであり、５１０ｎｍで１．６５の屈折率を有する。

この被覆された基板の反射スペクトルを図１に示す。図１の反射パターンは、可視域において顕著なフリンジ（ｆｒｉｎｇｅｓ）を示す。

第２の例には、本発明によるハードコーティング層で被覆された基板が含まれる。ハードコーティングは、第１の例で述べたような、１．５〜３μｍの間の範囲の厚さを有するアクリレート系コーティングを含む。基板は、厚さが２３μｍの、５１０ｎｍで１．６５の屈折率を有するＰＥＴフィルムを含む。ハードコーティングは、ＺｒＯ_２ナノ粒子をさらに含む。ＺｒＯ_２ナノ粒子の濃度は、基板とハードコーティングの間の屈折率の差が適合するように選択される。

この被覆された基板の反射スペクトルを図２に示す。図２と比較して、可視域のフリンジはあまりはっきりせず、その結果、被覆された基板は真珠光沢を示さない。

第３の例には、ウィンドウフィルムを備えたガラス基板が含まれる。ウィンドウフィルムは、ＰＥＴ基板およびＺｒＯ_２粒子を含むハードコーティングを含む。ウィンドウフィルムは接着剤を用いてガラス基板に積層される。ＰＥＴ基板の厚さは２３μｍであり、ガラス基板は３ｍｍの透明ガラスである。ハードコーティングは、第１の例で述べたような、アクリレート系コーティングを含む。

各々異なる濃度のＺｒＯ_２粒子を有する、３種類の異なる実施形態のウィンドウフィルムが検討される。
第１の実施形態Ａは、ＺｒＯ_２粒子を加えないハードコーティングを含む。
第２の実施形態Ｂは、低い体積分率のＺｒＯ_２粒子を有するハードコーティングを含む。
第３の実施形態Ｃは、ＰＥＴ基板とハードコーティングの屈折率の差を適合させる体積分率のＺｒＯ_２粒子を有するハードコーティングを含む。

３種類の異なる実施形態のウィンドウフィルムを備えたガラスの反射スペクトルを図３に示す。図３から、スペクトルのフリンジは、ＰＥＴ基板とハードコーティングの屈折率の差が小さくなるように、ハードコーティング中のナノ粒子の濃度を増加させることにより減少すると結論づけることができる。

Claims (19)

1. 少なくとも、屈折率η_１を有する第１の層と、屈折率η_２を有する第２の層とを含む層構造であって、前記第１の層が、屈折率η_{ｍａｔｒｉｘ１}を有する第１のマトリックス材料を含み、前記第２の層が、屈折率η_{ｍａｔｒｉｘ２}を有する第２のマトリックス材料を含み、波長５１０ｎｍでの前記第１のマトリックス材料の前記屈折率η_{ｍａｔｒｉｘ１}と前記第２のマトリックス材料の前記屈折率η_{ｍａｔｒｉｘ２}との差が少なくとも０．１であり；３８０〜７５０ｎｍの可視域の各々の波長での前記第１の層の屈折率η_１と前記第２の層の屈折率η_２との差が０．０８未満であるように、前記第１の層および前記第２の層が、前記第１のマトリックス材料の屈折率η_{ｍａｔｒｉｘ１}と前記第２のマトリックス材料の屈折率η_{ｍａｔｒｉｘ２}との差を適合させるために１〜５００ｎｍの間の範囲の直径を有するナノ粒子を含むことを特徴とする、層構造。
2. 前記ナノ粒子が、有機ナノ粒子、無機ナノ粒子、または有機ナノ粒子と無機ナノ粒子の組合せを含む、請求項１に記載の層構造。
3. 前記ナノ粒子が、酸化物粒子、硫化物粒子、窒化物粒子、ドープ酸化物粒子、ドープ硫化物粒子、ドープ窒化物粒子およびそれらの組合せからなる群から選択される、請求項１または２に記載の層構造。
4. 前記ナノ粒子が、酸化アルミニウム、酸化シリコン、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化アンチモン、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化インジウム、酸化インジウムスズ、酸化セリウム、酸化ニオブ、酸化バナジウム、酸化タングステン、酸化タンタリウム、硫化亜鉛、窒化珪素、それらのドープ体（ｄｏｐｅｄ ｖａｒｉａｎｔｓ）およびそれらの混合物からなる群から選択される、請求項３に記載の層構造。
5. 前記ナノ粒子が、それらの表面に有機基を含み、前記有機基が前記マトリックス材料と架橋ネットワークを形成する、請求項１〜４のいずれか一項に記載の層構造。
6. 前記有機基が、アクリレート基および／またはメタクリレート基を含む、請求項５に記載の層構造。
7. 前記第１の層または前記第２の層のうちの少なくとも１つの層が、５μｍより薄い厚さの層を含む、請求項１〜６のいずれか一項に記載の層構造。
8. 少なくとも請求項１〜７のいずれか一項に記載される第１の層および第２の層を含む層構造を含む、ウィンドウフィルム。
9. 太陽光制御フィルムまたは安全フィルムとして機能する、請求項８に記載のウィンドウフィルム。
10. 前記第１の層および前記第２の層のうちの少なくとも１つの層が、ガラス基板または高分子基板を含む、請求項８または９に記載のウィンドウフィルム。
11. 前記第１のおよび前記第２の層のうちの少なくとも１つの層が、コーティング層を含む、請求項８〜１０のいずれか一項に記載のウィンドウフィルム。
12. 前記第１の層および／または前記第２の層の厚さが５μｍより薄い、請求項８〜１１のいずれか一項に記載のウィンドウフィルム。
13. 前記第１の層が、高分子基板またはガラス基板を含み、前記第２の層が、前記第１の層に適用されたコーティング層を含み、前記第２の層がナノ粒子を含む、請求項８〜１２のいずれか一項に記載のウィンドウフィルム。
14. 前記コーティング層が、ハードコーティング、接着剤、赤外線吸収層または防曇層として機能する、請求項１３に記載のウィンドウフィルム。
15. 屈折率η_１を有する第１の層と該第１の層上に積層しつつ屈折率η_２を有する第２の層との屈折率の差を適合させるための方法であって、前記第１の層が、屈折率η_{ｍａｔｒｉｘ１}を有する第１のマトリックス材料を含み、前記第２の層が、屈折率η_{ｍａｔｒｉｘ２}を有する第２のマトリックス材料を含み、波長５１０ｎｍでの前記屈折率η_{ｍａｔｒｉｘ１}と前記屈折率η_{ｍａｔｒｉｘ２}との差が少なくとも０．１であり、前記方法が、前記第１のマトリックス材料および前記第２のマトリックス材料の中にナノ粒子を組み込むステップを含み、前記ナノ粒子が、３８０〜７５０ｎｍの可視域の各々の波長での屈折率の差が０．０８未満である体積分率で存在する、方法。
16. 前記ナノ粒子が、有機ナノ粒子、無機ナノ粒子、または有機ナノ粒子と無機ナノ粒子の組合せを含む、請求項１５に記載の方法。
17. 前記ナノ粒子が、酸化物粒子、硫化物粒子、窒化物粒子、ドープ酸化物粒子、ドープ硫化物粒子、ドープ窒化物粒子およびそれらの組合せからなる群から選択される、請求項１５または１６に記載の方法。
18. 前記ナノ粒子が、酸化アルミニウム、酸化シリコン、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化アンチモン、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化インジウム、酸化インジウムスズ、酸化セリウム、酸化ニオブ、酸化バナジウム、酸化タングステン、酸化タンタリウム、硫化亜鉛、窒化珪素、それらのドープ体およびそれらの混合物からなる群から選択される、請求項１５〜１７のいずれか一項に記載の方法。
19. 前記第１の層または前記第２の層のうちの少なくとも１つの層が、５μｍより薄い厚さの層を含む、請求項１５〜１８のいずれか一項に記載の方法。

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