JP5449645B2 - 熱処理用シリコンプレートの製造方法。 - Google Patents
熱処理用シリコンプレートの製造方法。 Download PDFInfo
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Description
〔1〕下部ヒータの上にチルドプレートを設け、該チルドプレートに水平ルツボを載せ、該水平ルツボの上方に上部ヒータを設けた溶融装置を用い、水平ルツボに装入した原料シリコンを上下のヒータによって加熱溶融した後に、チルドプレートに冷媒を通じて溶融シリコンを冷却することによって、少なくとも一辺が500mm以上の大型シリコン板からなる熱処理用シリコンプレートを製造することを特徴とする方法。
本発明の製造方法に係る熱処理用シリコンプレートは、第一の態様として被熱処理部材を載置する均熱板として用いられ、あるいは、第二の態様として熱処理炉の炉壁に設置され、炉内を均熱化する反射板として用いられる。
800mm角のディスプレイ用ガラス基板を、図3の方法によって製造したシリコンプレートに載置し、熱処理炉に装入して800℃でアニール処理した。ガラス基板の中心部と周辺部の温度差は5℃であった。一方、本発明のシリコンプレートを用いない従来の熱処理炉によるアニール処理ではガラス基板の中心部と周辺部の温度差は20℃であり、本発明のシリコンプレートを用いることによって優れた均熱効果が得られた。
熱処理炉(1000mm×1000mm×500mm)について、図2に示すように、炉壁にシリコンプレートを内張したものを使用し、炉内を800℃に昇温したところ、炉内中心部と炉内周辺部の温度差は5℃であった。一方、シリコンプレートを設けない熱処理炉における炉内中心部と炉内周辺部の温度差は20℃であり、本発明のシリコンプレートを用いることによって優れた均熱効果が得られた。
Claims (1)
- 下部ヒータの上にチルドプレートを設け、該チルドプレートに水平ルツボを載せ、該水平ルツボの上方に上部ヒータを設けた溶融装置を用い、水平ルツボに装入した原料シリコンを上下のヒータによって加熱溶融した後に、チルドプレートに冷媒を通じて溶融シリコンを冷却することによって、少なくとも一辺が500mm以上の大型シリコン板からなる熱処理用シリコンプレートを製造することを特徴とする方法。
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