JP5448565B2 - アミノ化フラーレン及びアミノ化フラーレンの製造方法 - Google Patents
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- XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N C60 fullerene Chemical class C12=C3C(C4=C56)=C7C8=C5C5=C9C%10=C6C6=C4C1=C1C4=C6C6=C%10C%10=C9C9=C%11C5=C8C5=C8C7=C3C3=C7C2=C1C1=C2C4=C6C4=C%10C6=C9C9=C%11C5=C5C8=C3C3=C7C1=C1C2=C4C6=C2C9=C5C3=C12 XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 280
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 27
- 229910003472 fullerene Inorganic materials 0.000 claims description 93
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 76
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 70
- 125000000467 secondary amino group Chemical group [H]N([*:1])[*:2] 0.000 claims description 68
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 66
- -1 phosphinediyl group Chemical group 0.000 claims description 39
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 36
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 14
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 14
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 11
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 claims description 5
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 claims description 5
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000001841 imino group Chemical group [H]N=* 0.000 claims description 4
- 125000005036 alkoxyphenyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 3
- 125000004149 thio group Chemical group *S* 0.000 claims description 3
- 125000000101 thioether group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 claims description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 42
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 42
- URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N Para-Xylene Chemical group CC1=CC=C(C)C=C1 URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 38
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 35
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- 238000000034 method Methods 0.000 description 33
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 32
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 26
- 150000002432 hydroperoxides Chemical class 0.000 description 25
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 22
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 22
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 239000010408 film Substances 0.000 description 19
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000000047 product Substances 0.000 description 14
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 13
- FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 3-(2,3-dimethoxyphenyl)prop-2-enal Chemical compound COC1=CC=CC(C=CC=O)=C1OC FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 13
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 12
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 12
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 description 11
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 10
- RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N cumene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1 RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 10
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 10
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 9
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 9
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 9
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000003849 aromatic solvent Substances 0.000 description 8
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 8
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 8
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 7
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 7
- IAZDPXIOMUYVGZ-WFGJKAKNSA-N Dimethyl sulfoxide Chemical compound [2H]C([2H])([2H])S(=O)C([2H])([2H])[2H] IAZDPXIOMUYVGZ-WFGJKAKNSA-N 0.000 description 6
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 6
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 6
- ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N coumarin Chemical compound C1=CC=C2OC(=O)C=CC2=C1 ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 6
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 6
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 6
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 6
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 6
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 5
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 5
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 5
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 5
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 4
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical group 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 3
- 150000001721 carbon Chemical class 0.000 description 3
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 3
- 229960000956 coumarin Drugs 0.000 description 3
- 235000001671 coumarin Nutrition 0.000 description 3
- 238000011161 development Methods 0.000 description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 3
- JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N ethyl methyl carbonate Chemical compound CCOC(=O)OC JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000005669 field effect Effects 0.000 description 3
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 3
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 3
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 3
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 3
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 3
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 3
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 3
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 3
- FYGHSUNMUKGBRK-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-trimethylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC(C)=C1C FYGHSUNMUKGBRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N Formamide Chemical compound NC=O ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATHHXGZTWNVVOU-UHFFFAOYSA-N N-methylformamide Chemical compound CNC=O ATHHXGZTWNVVOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RSPISYXLHRIGJD-UHFFFAOYSA-N OOOO Chemical compound OOOO RSPISYXLHRIGJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- 238000005576 amination reaction Methods 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QARVLSVVCXYDNA-UHFFFAOYSA-N bromobenzene Chemical compound BrC1=CC=CC=C1 QARVLSVVCXYDNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000021615 conjugation Effects 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N hexamethylphosphoric triamide Chemical compound CN(C)P(=O)(N(C)C)N(C)C GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 2
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 2
- IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N m-xylene Chemical group CC1=CC=CC(C)=C1 IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 2
- SYSQUGFVNFXIIT-UHFFFAOYSA-N n-[4-(1,3-benzoxazol-2-yl)phenyl]-4-nitrobenzenesulfonamide Chemical class C1=CC([N+](=O)[O-])=CC=C1S(=O)(=O)NC1=CC=C(C=2OC3=CC=CC=C3N=2)C=C1 SYSQUGFVNFXIIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- HHVIBTZHLRERCL-UHFFFAOYSA-N sulfonyldimethane Chemical compound CS(C)(=O)=O HHVIBTZHLRERCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 description 2
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001973 tert-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N (2s)-2-[[4-[2-(2,4-diaminoquinazolin-6-yl)ethyl]benzoyl]amino]-4-methylidenepentanedioic acid Chemical compound C1=CC2=NC(N)=NC(N)=C2C=C1CCC1=CC=C(C(=O)N[C@@H](CC(=C)C(O)=O)C(O)=O)C=C1 NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N 0.000 description 1
- RELMFMZEBKVZJC-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-trichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC(Cl)=C1Cl RELMFMZEBKVZJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFCSWCVEJLETKA-UHFFFAOYSA-N 2-piperazin-1-ylethanol Chemical compound OCCN1CCNCC1 WFCSWCVEJLETKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UORNTHBBLYBAJJ-UHFFFAOYSA-N 2-piperazin-1-ylphenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1N1CCNCC1 UORNTHBBLYBAJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDSQQXKSEFZAPE-UHFFFAOYSA-N 2-piperidin-4-ylethanol Chemical compound OCCC1CCNCC1 LDSQQXKSEFZAPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OIGWAXDAPKFNCQ-UHFFFAOYSA-N 4-isopropylbenzyl alcohol Chemical compound CC(C)C1=CC=C(CO)C=C1 OIGWAXDAPKFNCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRABAEUHTLLEML-UHFFFAOYSA-N Butyl lactate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)O MRABAEUHTLLEML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005749 Copper compound Substances 0.000 description 1
- JJHHIJFTHRNPIK-UHFFFAOYSA-N Diphenyl sulfoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1S(=O)C1=CC=CC=C1 JJHHIJFTHRNPIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007818 Grignard reagent Substances 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 230000002152 alkylating effect Effects 0.000 description 1
- 125000004653 anthracenylene group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000012620 biological material Substances 0.000 description 1
- 125000002529 biphenylenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3C12)* 0.000 description 1
- 239000001191 butyl (2R)-2-hydroxypropanoate Substances 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 235000013877 carbamide Nutrition 0.000 description 1
- 239000007806 chemical reaction intermediate Substances 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 150000001880 copper compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000010511 deprotection reaction Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMISODWVFHHWNR-UHFFFAOYSA-N diphenyl(4-piperidinyl)methanol Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C=1C=CC=CC=1)(O)C1CCNCC1 ZMISODWVFHHWNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUVUOGQBMYCBQP-UHFFFAOYSA-N dmpu Chemical compound CN1CCCN(C)C1=O GUVUOGQBMYCBQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical group 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- RUJPPJYDHHAEEK-UHFFFAOYSA-N ethyl piperidine-4-carboxylate Chemical compound CCOC(=O)C1CCNCC1 RUJPPJYDHHAEEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 150000004795 grignard reagents Chemical class 0.000 description 1
- 125000005549 heteroarylene group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 1
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 1
- 238000000752 ionisation method Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 231100000053 low toxicity Toxicity 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000006178 methyl benzyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002071 nanotube Substances 0.000 description 1
- 125000004957 naphthylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 238000005580 one pot reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- SXADIBFZNXBEGI-UHFFFAOYSA-N phosphoramidous acid Chemical class NP(O)O SXADIBFZNXBEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003012 phosphoric acid amides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 1
- HDOWRFHMPULYOA-UHFFFAOYSA-N piperidin-4-ol Chemical compound OC1CCNCC1 HDOWRFHMPULYOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003495 polar organic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N propionitrile Chemical compound CCC#N FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N sulfolane Chemical compound O=S1(=O)CCCC1 HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 1
- 150000003509 tertiary alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N tert‐butyl hydroperoxide Chemical compound CC(C)(C)OO CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005628 tolylene group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003672 ureas Chemical class 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 239000003643 water by type Substances 0.000 description 1
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Description
本発明のアミノ化フラーレンは、下記式(20)で表わされる置換されていてもよい水酸基含有環状2級アミノ基(以下、適宜「環状2級アミノ基」ということがある。)が、フラーレンに6個以上結合しているものである。
「フラーレン」とは、炭素原子が球状又はラグビーボール状に配置して形成される、閉殻構造を有する炭素クラスターである。フラーレンの炭素数は、通常60以上、通常120以下である。
環状2級アミノ基は、上記式(20)で表わされるものであり、1個の窒素原子と(n+3)個の炭素原子、または2個の窒素原子と(n+2)個の炭素原子、のいずれかからなる環状アミノ基(以下、適宜「環状2級アミノ骨格」ということがある。)の環上に、直接もしくは2価の有機基Lを介して水酸基が結合しているものである。
上記式(20)中、nは炭素鎖の炭素数を表わす。nの好ましい範囲としては、通常0以上、好ましくは1以上、より好ましくは2以上、また、その上限は、通常4以下、好ましくは3以下、より好ましくは2以下である。中でも、nは2であることが特に好ましい。炭素数が多すぎる場合、極性が低くなりアルコールや水への溶解性が低くなる可能性がある。
上記式(20)中、Xは、NHもしくはCH2を表わす。
なお、環状2級アミノ骨格は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を任意の比率及び組み合わせで用いてもよい。
置換基は、1種を単数又は複数で置換してもよく、2種以上を任意の比率及び組み合わせで置換してもよい。
環状2級アミノ骨格と水酸基とは、直接、もしくは2価の有機基Lを介して結合している。2価の有機基Lの数pが0の時は、この有機基Lは存在せず、環状2級アミノ骨格と水酸基とが直接結合していることを表わしている。
なお、2価の有機基Lは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を任意の比率及び組み合わせで用いてもよい。
置換基は、1種を単独で置換してもよく、2種以上を任意の比率及び組み合わせで置換してもよい。
2価の有機基Lがアルキレン基の場合、上記式(20)で表わされる水酸基含有環状2級アミノ基は、下記式(1)で表わされる基となる。
mは、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常0以上、好ましくは1以上、より好ましくは2以上であり、また、通常4以下、好ましくは3以下、より好ましくは2以下である。中でも、mは2であることが好ましい。mの値が小さすぎるとアルコールに対する溶解性が不十分となる可能性がある。また、大きすぎる場合、環状2級アミノ骨格の極性が低下し、本発明のアミノ化フラーレンの十分な溶解性が発現しない可能性がある。
置換基の種類は、上述の2価の有機基Lにおける置換基と同様のものを挙げることがでる。置換基は、1種を単独で置換してもよく、2種以上を任意の比率及び組み合わせで置換してもよい。さらに、置換基は、本発明の効果を著しく損なわない限り、環を有していてもよい。
2価の有機基Lが芳香族性を有する基の場合、上記式(20)で表わされる水酸基含有環状2級アミノ基は、下記式(21)で表わされる基となる。
なお、芳香族性を有する基Arは、1種の基から単独で構成されていてもよく、2種以上の基から任意の比率及び組み合わせで構成されていてもよい。
置換基は、1種の基が単独で置換してもよく、2種以上の基が任意の比率及び組み合わせで置換してもよい。
さらに、置換基は、本発明の効果を著しく損なわない限り、環を有していてもよい。
水酸基もしくは2価の有機基Lの、環状2級アミノ骨格上の結合位置は、フラーレンに結合する2級アミノ基を1つ残している構造になるのであれば任意である。環状2級アミノ基上のCH2部分に結合していてもよく、X上に結合していてもよい。環状2級アミノ基上の結合位置では、水素原子が、水酸基もしくは2価の有機基Lで置換された構造となる。
本発明のアミノ化フラーレンにおいて、環状2級アミノ基の構造の具体例としては、下記の構造を有するものが挙げられる。
本発明のアミノ化フラーレンにおいては、上記の環状2級アミノ基が有する窒素原子とフラーレンとが直接結合する。1つのフラーレンに結合する環状2級アミノ基の数は、通常6以上、好ましくは7以上、より好ましくは8以上、また、通常12以下、好ましくは10以下、より好ましくは9以下である。環状2級アミノ基の数が少なすぎる場合、アミノ化フラーレンのアルコールへの溶解性が低くなる可能性がある。また、多すぎる場合、フラーレンの共役が狭くなり、フラーレンの有益な性質が損なわれる可能性がある。
例えば、6付加体のアミノ化フラーレンは、上記の3付加体の部分構造を2カ所に有する構造と推測される。
7付加体のアミノ化フラーレンは、上記の3付加体と4付加体の部分構造を1カ所ずつ有する構造と推測される。
8付加体のアミノ化フラーレンは、上記の4付加体の部分構造を2カ所に有する構造、若しくは上記の3付加体と5付加体の部分構造を1カ所ずつ有する構造と推測される。
9付加体はアミノ化フラーレンは、上記の5付加体と4付加体の部分構造を1カ所ずつ有する構造、若しくは上記の3付加体の部分構造を3カ所に有する構造と推測される。
10付加体は、上記の3付加体の部分構造を2カ所と4付加体の部分構造を1カ所とを有する構造、若しくは上記の5付加体の部分構造を2カ所に有する構造と推測される。
本発明のアミノ化フラーレンは、本発明の効果を著しく損なわない限り、任意の方法を用いて製造することが出来る。
その一例としては、フラーレンと、前記の式(20)で表わされる置換されていてもよい水酸基含有環状2級アミノ基を含む環状アミンとを、溶媒中で反応させる工程(以下、「反応工程」ということがある。)と、該溶媒よりもアミノ化フラーレンの溶解度が低い貧溶媒を混合して、アミノ化フラーレンを析出させる工程(以下、「精製工程」ということがある。)とを有するアミノ化フラーレンの製造方法(以下、「本発明のアミノ化フラーレンの製造方法」ということがある。)が挙げられる。
以下、本発明のアミノ化フラーレンの製造方法につき、具体例を用いて詳細に説明するが、上記の工程を満たしていればこれに限定されるものではない。
本発明に係る反応工程は、フラーレンと、前記の式(20)で表わされる置換されていてもよい水酸基含有環状2級アミノ基を含む環状アミンとを、溶媒中で反応させる工程である。
反応工程の一例としては、特開2002−88075号公報、又は特開2006−199674号公報に記載の方法と類似した方法で、可視光又はヒドロペルオキシド存在下、フラーレンとアミノ化フラーレンの原料となる環状2級アミノ基を有するアミン(以下、適宜「環状2級アミン」ということがある。)とを反応させることにより、アミノ化フラーレンを製造することが出来る。
具体的には、例えば、過酸化水素等の無機ヒドロペルオキシド又はクメンヒドロペルオキシド等の有機ヒドロペルオキシドの存在下でフラーレンと環状2級アミンとを反応させたり、酸素分子の存在下でヒドロペルオキシドを生成させた後、フラーレンと環状2級アミンとを反応させたりすることが挙げられる。中でも、工業的な製造方法という観点から、有機ヒドロペルオキシドの存在下でフラーレンと環状2級アミンとを反応させることが好ましい。
フラーレンとしては、本発明のアミノ化フラーレンが得られる限り、任意のものを用いることができる。中でも、上記の[1.アミノ化フラーレン]で説明したフラーレンを用いることが好ましい。なお、フラーレンは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を任意の比率及び組み合わせで用いてもよい。
環状2級アミンは、本発明のアミノ化フラーレンが得られる限り、任意であり、上記の式(20)で表わされる水酸基含有環状2級アミノ基をフラーレンに結合させることが出来るものを任意に用いることが出来る。その具体例としては、上記の式(20)で表わされる環状2級アミノ基の結合手に水素原子が結合した構造のもの(下記式(5)参照。なお、式(5)において、X、L、n、及びpはそれぞれ式(20)と同様のものを表わす。)が挙げられる。
環状2級アミンは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を任意の比率及び組み合わせで用いてもよい。
有機ヒドロペルオキシドとしては、本発明のアミノ化フラーレンが得られる限り任意のものを用いることが出来るが、下記式(6)の構造を有する、過酸化水素に含まれる水素原子1原子を有機基R’で置換した化合物を用いることが好ましい。
なお、有機ヒドロペルオキシドは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を任意の比率及び組み合わせで用いてもよい。また、例えば、後述するクメンヒドロペルオキシドとクメンとのように、有機ヒドロペルオキシドと有機ヒドロペルオキシドの製造原料(以下、適宜「有機ヒドロペルオキシド前駆体」ということがある。)とを組み合わせて用いてもよい。
R’が有する炭素数は、通常1以上、好ましくは4以上、より好ましくは5以上、また、通常15以下、好ましくは12以下、より好ましくは10以下である。R’が有する炭素数が多すぎる場合、単位重量あたりのヒドロペルオキシド部分が少なくなり、有機ヒドロペルオキシドの使用量が多くなるとともに多量の副生物が発生する可能性がある。
本発明に係る反応工程の一様態において、本発明のアミノ化フラーレンが得られる限り、上記のフラーレン、環状2級アミン及び有機ヒドロペルオキシド以外の成分(以下、適宜「その他の成分」ということがある。)が反応系に含まれていてもよい。含んでいてもよい成分としては、例えば、アルカン、トリエチルアミン等の3級アミン、ピリジン、t−ブタノール等の3級アルコール、又はそれらの誘導体等が挙げられる。その他の成分は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を任意の比率及び組み合わせで用いてもよい。
フラーレン、環状2級アミン、有機ヒドロペルオキシド及び必要に応じて用いられるその他の成分は、通常は溶媒に溶解して反応させる。溶媒の種類と使用量は、本発明のアミノ化フラーレンが得られる限り、任意である。ただし、通常は、フラーレン、環状2級アミン及び有機ヒドロペルオキシドが溶解する溶媒を用いる。なお、溶媒は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を任意の比率及び組み合わせで用いてもよい。
フラーレン、環状2級アミン及び有機ヒドロペルオキシドの使用量としては、本発明のアミノ化フラーレンが得られる限り、それぞれ任意である。また、溶媒の使用量、その他の成分の使用量も、本発明のアミノ化フラーレンが得られる限り、任意である。
有機ヒドロペルオキシドを用いる製造方法においては、通常、光を照射しなくても反応が進行するため、反応系に積極的に光を照射しなくてもよい。従って、本発明のアミノ化フラーレンの製造方法においては、光の照射の有無は特に限定されない。具体的には、ガラス等の光透過性材料で作られた反応容器を用いて反応を行っても、金属等の光を透過しにくい材料で作られた反応容器を用いて反応を行ってもよい。
本発明に係る精製工程は、反応工程で用いた溶媒よりもアミノ化フラーレンの溶解度が低い貧溶媒を混合して、アミノ化フラーレンを析出させる工程である。
以下、その一例として、前述の本発明に係る反応工程の一様態で得られたアミノ化フラーレンを析出して単離する方法の一例を説明する。なお、本発明に係る精製工程は、以下の例に限定されるものではなく、本発明の効果を著しく損なわない限り任意の方法を用いてもよい。
本発明のアミノ化フラーレンは、公知の任意の方法を用いて、反応後の反応液から単離することが出来る。中でも、本発明のアミノ化フラーレンの製造方法においては、多量の有機過酸化物を用いる場合があることから、濃縮工程を含まない単離方法を選択することが安全性の観点からより好ましい。
具体的には以下に記載する方法(以下、「本発明に係る精製工程の一様態」ということがある。)で精製することが好ましい。ただし、以下に記載する方法は、単離・精製する方法の一例であり、本発明に係る精製工程の手段は以下の内容に限定されるものではない。
貧溶媒の量が多すぎると生産効率が低下する可能性がある。少なすぎると溶液側に目的物が溶解してしまう可能性がある。
本発明のアミノ化フラーレンは、アルコールおよび中性の水に高い溶解性を示す。
アルコールとしては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等の低級アルコール;エチレングリコール、プロピレングリコール等の2価のアルコール;乳酸エチル、乳酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等が挙げられる。中でも低級アルコールが好ましく、その中でもメタノール、エタノールがより好ましく、メタノールが特に好ましい。
従来、フォトレジストは、被膜形成成分として(メタ)アクリル系、ポリヒドロキシスチレン系またはノボラック系の樹脂等の樹脂成分と、露光により酸を発生する酸発生剤、感光剤等とを組み合わせた組成物が広く用いられている。本発明のアミノ化フラーレンは、通常、フォトレジストに使用される溶媒への溶解度が高いことにより、特殊な溶媒を用いることなく、より高濃度でフォトレジストに複合化が可能である。また、アミノ化フラーレン単独でもレジスト膜を形成することが可能である。
このように本発明のアミノ化フラーレンをフォトレジストの分野に用いた場合、フラーレン骨格を有する事により、超芳香族分子としての高耐熱性、高エッチング耐性を有し、エッジラフネスの低減が可能であり、高解像度のフォトレジストの再現ができる。また、本発明のアミノ化フラーレンを用いて形成した膜は、反射防止膜としての機能も有することより、多層膜の一層として、特に反射防止膜や塗布型のマスク材(ハードマスク)としても優れた機能を発揮することが期待される。さらに、この膜を加熱すること等によって得られるフラーレン膜もしくはフラーレン含有膜も、反射防止膜としての機能も有することより、多層膜の一層として、特に反射防止膜や塗布型のマスク材(ハードマスク)としても優れた機能を発揮することが期待される。
半導体製造等の分野では、例えば500μm以下の微細パターンを生産効率良く形成する方法としてナノインプリント法が検討されている。ナノインプリント法とは、微細パターンを有するモールドのパターンを転写層に転写する微細パターンの形成方法である。
このようなナノインプリント法としては、例えば、熱可塑性重合体からなる転写層を加熱して軟化させる工程と、転写層とモールドとを圧着してモールドのパターンを転写層に形成する工程と、モールドを転写層から離脱させる工程とを順次行なう方法;硬化性単量体からなる転写層をモールドに接触させる工程と、硬化性単量体を硬化させる工程と、硬化性単量体の硬化物からモールドを離脱させる工程とを順次行なう方法;などが知られている。本発明のアミノ化フラーレンは、通常、上記の熱可塑性重合体、硬化性物質等に使用される溶媒への溶解度が高いことにより、特殊な溶媒を用いることなく、上記熱可塑性重合体に高濃度で充填することが可能である。
このように本発明のアミノ化フラーレンをナノインプリント法に用いた場合、溶媒に対する本発明のアミノ化フラーレンの溶解性が高いことから、本発明のアミノ化フラーレンの熱可塑性重合体中での凝集が抑制され、分子状分散となる。このため、高解像度を実現することが可能である。さらに、この材料を加熱すること等によって得られるフラーレン分散材料も同様に用いることができ、高解像度を実現することが可能である。さらに、本発明のアミノ化フラーレン又は本発明の溶液をナノインプリント法に用いることにより、転写層の機械的強度、耐熱性及びエッチング耐性を向上させることが可能であることから、従来のナノインプリント材料の特性を大幅に改善することが可能となる。
近年、コンピュータの中央処理装置(CPU)用回路基盤には、樹脂薄膜を層間絶縁膜とする高密度かつ微細な多層配線に適した樹脂薄膜配線が適用されるようになってきた。将来のより高速な処理能力を有するコンピュータを実現するには、高密度かつ繊細な多層配線を活かし、かつ信号の高速伝播に適した低誘電率絶縁材料の開発が求められている。本発明のアミノ化フラーレンは、通常、上記用途に使用される溶媒への溶解度が高いことより、特殊な溶媒を用いることなく、より高濃度で他の材料と複合化することが可能である。また、アミノ化フラーレン単独で成膜することも可能である。この際、本発明のアミノ化フラーレンは、フラーレン構造が本質的に有する高抵抗、低誘電率の性質を保持しており、複合化して用いる際にはフィラーとしての機械的強度の向上効果を有することができ、これにより、従来無かった優れた性能の低誘電率の層間絶縁膜の実現が可能となる。さらに、この複合材料もしくはアミノ化フラーレンの膜を加熱すること等によって得られるフラーレン含有材料もしくはフラーレン膜も同様に用いることができ、従来無かった優れた性能の低誘電率の層間絶縁膜の実現が可能となる。
有機太陽電池は、シリコン系の無機太陽電池と比較して、優位な点が多数あるものの、エネルギー変換効率が低く、実用レベルに十分には達していない。この点を克服するためのものとして、最近、電子供与体である導電性高分子と、電子受容体であるフラーレン並びにフラーレン誘導体とを混合した活性層を有するバルクヘテロ接合型有機太陽電池が提案されている。このバルクヘテロ接合型有機太陽電池では、導電性高分子とフラーレン誘導体それぞれが分子レベルで混じり合い、その結果非常に大きな界面を作り出すことに成功し、変換効率の大幅な向上が実現されている。
本発明のアミノ化フラーレンは、上記用途で使用される溶媒への溶解度が高いため、p型半導体と効率的なバルクへテロ接合構造を構成することが容易である。また、本発明のアミノ化フラーレンは、本質的にn型半導体としてのフラーレンの性質を有している。従って、本発明のアミノ化フラーレンを用いることで、極めて高性能な有機太陽電池の実現が可能となる。また、バルクへテロ構造を形成した後に加熱等によりアミノ化フラーレンをフラーレンへと変換して用いてもよい。さらにこの高溶解性を利用し、導電性高分子等の電子供与体層との層分離制御や誘導体分子の整列配向性・細密充填性などのモルフォロジー制御を可能にし、これにより特性の向上が実現できる上、デバイス設計において高い柔軟性を与える。また、製造上も通常の印刷法やインクジェットによる印刷、更にはスプレー法等により、低コストで容易に大面積化を実現する事が可能である。
光センサー、整流素子等への応用が期待できる電界効果トランジスタの有機材料として、フラーレン及びフラーレン誘導体を使用することが研究されている。一般的に、フラーレン及びフラーレン誘導体を半導体に用いて電界効果トランジスタを作製した場合、当該電界効果トランジスタはn型のトランジスタとして機能することが知られている。
本発明のアミノ化フラーレンは、上記用途で使用される溶媒への溶解度が高いことにより、塗布による成膜が容易であり、また、n型半導体としてのフラーレンの本質的な性質は保持している。これにより、本発明のアミノ化フラーレンは、低コスト、高性能な有機半導体として利用されることが期待できる。また、塗布した後に加熱等によりアミノ化フラーレンをフラーレンへと変換して用いてもよい。
本発明のアミノ化フラーレンを出発原料として、環状2級アミノ基上の水酸基に特定の有機基(保護基)を導入する工程を経て、新たな機能を有するフラーレン誘導体を製造することができる。以下、その有機基の導入方法に関して代表例を記すが、以下の例に限定されるものではない。
具体的な有機基の導入方法は、導入する有機基の種類に応じて様々である。その例を挙げると、以下のようなものが挙げられる。
(1)本発明のアミノ化フラーレンをエステル化剤と反応させて、エステル化する。
(2)本発明のアミノ化フラーレンをカーボネート化剤と反応させて、カーボネート化する。
(3)本発明のアミノ化フラーレンをエーテル化剤と反応させて、エーテル化する。
(4)本発明のアミノ化フラーレンをウレタン化剤と反応させて、ウレタン化する
さらに、上記(1)〜(4)の方法のほかにも、本発明のアミノ化フラーレンに有機基を導入する条件は、例えば特開2006−56878号公報等に記載の方法を参照することができる。
窒素ガス雰囲気下、フラーレンC60(1.0g、1.39ミリモル)をパラキシレン(15mL)に溶解し、1時間攪拌した。4−(2−ヒドロキシエチル)ピペラジン(2.89g、22.2ミリモル)を5mLのジメチルスルホキシドとともに混合した後、純度83%のクメンヒドロペルオキシド(2.29g、12.5ミリモル)を5mLのパラキシレンとともに混合した。
室温で8時間攪拌したのち14時間静置したところ、タール状の沈殿が生じた。
ジメチルスルホキシド5mLを添加して沈殿を溶解したのち、さらに25時間攪拌を行った。
静置の時間を14時間から10日間とした以外は実施例1と同様にして、褐色固体2.66gを得た。
窒素ガス雰囲気下、フラーレンC60(1.0g、1.39ミリモル)をパラキシレン(5mL)に溶解し、更に5mLのジメチルスルホキシドを加え混合した。4−(2−ヒドロキシエチル)ピペリジン(2.89g、22.2ミリモル)をパラキシレン(10ml)とともに混合した後、純度84%のクメンヒドロペルオキシド(2.26g、12.5ミリモル)を5mLのパラキシレンとともに混合した。
室温で4時間攪拌した後に11時間静置し、再び9時間攪拌したところ、タール状の沈殿が生じた。
窒素ガス雰囲気下、フラーレンC60(1.0g、1.39ミリモル)をパラキシレン(5mL)に溶解し、更に5mLのジメチルスルホキシドを加え混合した。4−(2−ヒドロキシメチル)ピペリジン(2.55g、22.2ミリモル)をパラキシレン(10ml)とともに混合した後、純度84%のクメンヒドロペルオキシド(2.26g、12.5ミリモル)を5mLのパラキシレンとともに混合した。
室温で4時間攪拌した後に11時間静置し、再び9時間攪拌したところ、タール状の沈殿が生じた。
窒素ガス雰囲気下、フラーレンC60(1.0g、1.39ミリモル)をパラキシレン(5mL)に溶解し、更に5mLのジメチルスルホキシドを加え混合した。4−ヒドロキシピペリジン(2.25g、22.2ミリモル)をパラキシレン(10ml)とともに混合した後、純度84%のクメンヒドロペルオキシド(2.26g、12.5ミリモル)を5mLのパラキシレンとともに混合した。
室温で6時間攪拌した後に11時間静置し、再び5時間攪拌したところ、タール状の沈殿が生じた。
窒素ガス雰囲気下、フラーレンC60(1.0g、1.39ミリモル)をパラキシレン(15mL)に溶解し、更に5mLのジメチルスルホキシドを加え混合した。4−ピペリジルベンズヒドロール(5.94g、22.2ミリモル)を混合した後、純度83%のクメンヒドロペルオキシド(2.29g、12.5ミリモル)を5mLのパラキシレンとともに混合し、室温で32時間攪拌した。
その結果、水酸基と2価の酸素原子が1つずつ結合したと仮定すると、下記式(13)で表わされる水酸基含有環状2級アミノ基の付加数は平均9.0であることがわかった。
[1H−NMR(DMSO−d6,400MHz)]
7.0〜8.0ppm(brs,Ph,10H),5.1〜5.7ppm(brs,OH,1H),2.5〜3.8ppm(m,N(CH2CH2)2CH,5H),1.2〜1.8ppm(m,N(CH2CH2)2CH,4H)
窒素ガス雰囲気下、フラーレンC60(1.0g、1.39ミリモル)をパラキシレン(15mL)に溶解し、更に5mLのジメチルスルホキシドを加え混合した。4−(ヒドロキシフェニル)ピペラジン(3.96g、22.2ミリモル)を混合した後、純度83%のクメンヒドロペルオキシド(2.29g、12.5ミリモル)を5mLのパラキシレンとともに混合し、室温で44時間攪拌した。
[1H−NMR(DMSO−d6,400MHz)]
8.83ppm(brs,OH,1H),7.0〜6.5ppm(brs,Ph,4H),2.5〜3.8ppm(m,N(CH2CH2)2N,8H)
窒素ガス雰囲気下、フラーレンC60(1.0g、1.39ミリモル)をパラキシレン(15mL)に溶解し、更に5mLのジメチルスルホキシドを加え混合した。エチルイソニペコテート(3.49g、22.2ミリモル)を混合した後、純度83%のクメンヒドロペルオキシド(2.29g、12.5ミリモル)を5mLのパラキシレンとともに混合し、室温で28時間攪拌した。
[1H−NMR(DMSO−d6,400MHz)]
4.1ppm(brs,0−CH2,2H),2.7〜3.5ppm(brs,N(CH2CH2)2CH,4H),1.5〜2.5ppm(brs,N(CH2CH2)2CH,5H),1.1ppm(brs,CH3,3H)
Claims (12)
- 下記式(20)で表わされる置換されていてもよい水酸基含有環状2級アミノ基が、フラーレンに6個以上結合している
ことを特徴とする、アミノ化フラーレン。
nは、0以上4以下の整数を表わし、
Xは、NHまたはCH2を表わし、
Lは、環状2級アミノ基と水酸基とを連結する、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アルコキシチオ基から選ばれる置換基を有していてもよい炭素数1以上4以下のアルキレン基、またはアルキル基、アリール基、アルコキシ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、ハロゲン原子、チオール基、チオエーテル基、アルコキシフェニル基、有機ケイ素基から選ばれる置換基を有していてもよいアリーレン基を表わし、pは、0または1を表わす。) - 前記式(20)中、
Lが、イミノ基(−NH−)、ホスフィンジイル基(−PH−)、オキシ基(−O−)、及びチオ基(−S−)のうち、何れか1種以上の基を含有していてもよい、炭素数1以上4以下のアルキレン基またはアリーレン基である
ことを特徴とする、請求項1記載のアミノ化フラーレン。 - 前記のフラーレンが、C60である
ことを特徴とする、請求項1〜4の何れか一項に記載のアミノ化フラーレン。 - 前記の水酸基含有環状2級アミノ基が、フラーレンに7個以上結合している
ことを特徴とする、請求項1〜5の何れか一項に記載のアミノ化フラーレン。 - 前記式(1)中、mが2以上である
ことを特徴とする、請求項3、5、6の何れか一項に記載のアミノ化フラーレン。 - 前記式(20)中、nが2である
ことを特徴とする、請求項1〜7の何れか一項に記載のアミノ化フラーレン。 - 請求項1〜11のいずれか一項に記載のアミノ化フラーレンを製造する方法であって、
フラーレンと、前記の式(20)で表わされる置換されていてもよい水酸基含有環状2級アミノ基を含む環状アミンとを、溶媒中で反応させる工程と、
該溶媒よりもアミノ化フラーレンの溶解度が低い貧溶媒を混合して、アミノ化フラーレンを析出させる工程とを含む
ことを特徴とする、アミノ化フラーレンの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008132439 | 2008-05-20 | ||
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JP2008224610 | 2008-09-02 | ||
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JP2009120902A JP5448565B2 (ja) | 2008-05-20 | 2009-05-19 | アミノ化フラーレン及びアミノ化フラーレンの製造方法 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010083864A JP2010083864A (ja) | 2010-04-15 |
JP5448565B2 true JP5448565B2 (ja) | 2014-03-19 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009120902A Active JP5448565B2 (ja) | 2008-05-20 | 2009-05-19 | アミノ化フラーレン及びアミノ化フラーレンの製造方法 |
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JP2002088075A (ja) * | 2000-09-07 | 2002-03-27 | Eiichi Nakamura | アミノ化フラーレン誘導体 |
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