JP5437333B2 - Glass substrate scribing method and processing apparatus - Google Patents
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Description
本発明は、ガラス基板のスクライブ方法、特に、圧縮応力を持たせた強化層を表面に有する強化ガラスを、スクライブ予定ラインに沿ってスクライブするガラス基板のスクライブ方法に関する。また、強化ガラスをスクライブする加工装置に関する。 The present invention relates to a glass substrate scribing method, and more particularly to a glass substrate scribing method for scribing tempered glass having a tempered layer having a compressive stress on its surface along a scribe line. Moreover, it is related with the processing apparatus which scribes tempered glass.
ガラス基板を分断するためにスクライブ溝を形成する方法として、レーザ光を用いてスクライブ溝を形成する方法がある。この場合は、スクライブ予定ラインに沿ってレーザ光が照射され、基板の一部が溶解、蒸発させられてスクライブ溝が形成される。ただ、この方法では、溶解、蒸発された基板の一部が基板表面に付着し、品質の劣化を伴う場合がある。また、溶解、蒸発された部分で形成された疵痕は基板端面強度が低下する原因になる。 As a method of forming a scribe groove for dividing a glass substrate, there is a method of forming a scribe groove using a laser beam. In this case, laser light is irradiated along the scribe line, and a part of the substrate is melted and evaporated to form a scribe groove. However, in this method, a part of the dissolved and evaporated substrate may adhere to the surface of the substrate, which may be accompanied by deterioration of quality. In addition, the scar formed in the melted and evaporated part causes a reduction in the strength of the substrate end face.
そこで、スクライブ溝を形成する他の方法として、特許文献1又は2に示されたような方法がある。ここでは、ガラス基板のスクライブ溝の起点となる場所に初期亀裂が形成され、この初期亀裂にレーザ光が照射される。これにより、レーザ照射部分に熱応力が生じ、亀裂が進展してスクライブ溝が形成される。
Therefore, as another method of forming the scribe groove, there is a method as shown in
また、レーザ光を照射してスクライブ溝を形成する方法では、ガラス基板の周縁部においてスクライブ溝の亀裂が深くなる傾向にある。この状態で、ガラス基板をスクライブ溝に沿って分断すると、分断面の品質が低下するという問題や、スクライブ溝がまっすぐに形成されないという問題が発生する。 Further, in the method of forming a scribe groove by irradiating a laser beam, the scribe groove has a tendency to deepen at the peripheral edge of the glass substrate. If the glass substrate is divided along the scribe groove in this state, there arises a problem that the quality of the divided section is deteriorated and a problem that the scribe groove is not formed straight.
そこで、特許文献3には、スクライブ予定ラインの終端部に、スクライブ溝を形成しない領域を形成するようにしたレーザスクライブ方法が示されている。この方法によれば、ガラス基板の終端部における分断後の断面の品質を、複雑な制御をすることなく向上させることができると記載されている。 Therefore, Patent Document 3 discloses a laser scribing method in which a region where no scribe groove is formed is formed at the end of a scribe line. According to this method, it is described that the quality of a section after division at the terminal portion of the glass substrate can be improved without complicated control.
ところで、最近のFPD(フラットパネルディスプレイ)業界では、基板端面の強度が重要視されるために、ガラス基板として、表面に強化層が形成された化学強化ガラスが主に用いられている。この化学強化ガラスは、イオン交換処理によって表面に圧縮応力を持たせた層(強化層)を有し、内部には引張応力が存在している。このような化学強化ガラスは、最近では、特に端面強度が要求されるタッチパネル等のカバーガラスに用いられている。 By the way, in the recent FPD (flat panel display) industry, since the strength of the substrate end face is regarded as important, chemically tempered glass having a tempered layer formed on the surface is mainly used as a glass substrate. This chemically tempered glass has a layer (strengthening layer) whose surface is given compressive stress by ion exchange treatment, and tensile stress exists inside. Such chemically tempered glass has recently been used for a cover glass such as a touch panel in which end face strength is particularly required.
本件発明者は、このような強化ガラスのなかで、最近開発された、特に表面が高強度の強化ガラスにレーザスクライブ方法によってスクライブ溝を形成した場合、主にスクライブ溝の終端部からスクライブ溝に沿って深い亀裂が進展し、自然分断されることを実験により見出した。ここで、自然分断とは、スクライブ溝を形成した後に、分断工程を実施することなくスクライブ溝に沿ってガラス基板が分断される現象である。 Among the tempered glasses, the present inventor has recently developed a scribe groove by using a laser scribing method, particularly in a tempered glass having a high surface, and mainly from the end of the scribe groove to the scribe groove. Experiments have found that deep cracks propagate along and are naturally divided. Here, the natural division is a phenomenon in which the glass substrate is divided along the scribe groove without performing the division step after the scribe groove is formed.
自然分断は、ガラス基板の周縁部においてスクライブ溝の亀裂が深くなることに起因していると考えられ、この深い亀裂がスクライブ溝に沿って進展し、生じると考えられる。そして、ガラス基板の周縁部においてスクライブ溝の亀裂が深くなるのは、以下の理由が考えられる。 Natural division is considered to be caused by deep cracks in the scribe groove at the peripheral edge of the glass substrate, and this deep crack is considered to develop along the scribe groove. And the following reason can consider that the crack of a scribe groove | channel becomes deep in the peripheral part of a glass substrate.
・スクライブ溝が形成されたガラス基板の終端部では、端面が拘束されないので、スクライブ溝の両側が開きやすくなる。 -Since the end surface is not restrained in the terminal part of the glass substrate in which the scribe groove is formed, both sides of the scribe groove are easily opened.
・スクライブ溝が形成されたガラス基板の終端部では、そこから先に熱の逃げる場所がなく、終端部に熱がこもる。 -In the terminal part of the glass substrate in which the scribe groove is formed, there is no place for heat to escape from there, and heat is accumulated in the terminal part.
以上のような原因によって自然分断が生じると、後工程の処理が困難になる。 When natural separation occurs due to the above-described causes, it becomes difficult to process the subsequent process.
そこで、スクライブ溝がガラス基板の周縁部に形成されないように、スクライブ予定ラインの終端部にアルミテープを貼ってレーザ光を遮蔽することが考えられる。しかし、この方法では、生産性の観点から実用的ではない。 In view of this, it is conceivable to shield the laser light by attaching an aluminum tape to the end of the planned scribe line so that the scribe groove is not formed on the peripheral edge of the glass substrate. However, this method is not practical from the viewpoint of productivity.
また、レーザ光の照射を制御することによって、ガラス基板の周縁部に加熱処理及び冷却処理が実施されないようにすることで、スクライブ溝がスクライブ予定ラインの終端まで達しないようにすることが考えられる。しかし、この方法では、所望の位置でスクライブ溝を止めることが困難であり、安定性がない。 Further, it is conceivable that the scribe groove does not reach the end of the scribe line by controlling the laser light irradiation so that the heat treatment and the cooling treatment are not performed on the peripheral portion of the glass substrate. . However, with this method, it is difficult to stop the scribe groove at a desired position, and there is no stability.
本発明の課題は、強化ガラスに対して、容易にかつ安定して所望のスクライブ溝を形成し、自然分断を防止することにある。 An object of the present invention is to form a desired scribe groove easily and stably in a tempered glass and prevent natural division.
第1発明に係るガラス基板のスクライブ方法は、圧縮応力を持たせた強化層を表面に有するガラスを、互いに直交する複数のスクライブ予定ラインに沿ってスクライブする方法であって、以下の工程を有している。 A scribing method for a glass substrate according to a first invention is a method of scribing glass having a reinforced layer having a compressive stress on a surface along a plurality of scribe lines that are orthogonal to each other , and includes the following steps. doing.
第1工程:基板保持用の複数の吸着孔を有するテーブルにガラスを載置するとともに、ガラスの全外周端部を他の領域に比較して強い吸着圧で吸着する。 First step: Glass is placed on a table having a plurality of suction holes for holding a substrate, and the entire outer peripheral edge of the glass is sucked with a stronger suction pressure than other regions .
第2工程:ガラスの表面に初期亀裂を形成する。 Second step: An initial crack is formed on the surface of the glass.
第3工程:ガラスの表面にレーザ光を照射して加熱するとともに、加熱された領域を冷却し、互いに直交する複数のスクライブ予定ラインに沿って亀裂を進展させてスクライブ溝を形成する。 Third step: The surface of the glass is heated by irradiating a laser beam, the heated region is cooled, and cracks are propagated along a plurality of scribe lines orthogonal to each other to form scribe grooves.
ここでは、まず、加工すべきガラスがテーブルに載置される。テーブルには、複数の吸着用の孔が設けられており、この吸着用孔を介してガラスが吸引されてテーブルの所定位置に保持される。このとき、スクライブ予定ラインの終端側のガラス端部が、他の領域に比較してより強い力で吸引されて保持される。そして、初期亀裂が形成された後、ガラス表面にレーザ光が照射されて加熱され、さらに加熱された領域が冷却される。この加熱及び冷却処理によって、初期亀裂はスクライブ予定ラインに沿って進展し、スクライブ溝が形成される。 Here, the glass to be processed is first placed on a table. The table is provided with a plurality of suction holes, and the glass is sucked through the suction holes and held at a predetermined position of the table. At this time, the glass end portion on the terminal side of the scribe line is sucked and held with a stronger force than other regions. Then, after the initial crack is formed, the glass surface is irradiated with laser light and heated, and the heated region is cooled. By this heating and cooling treatment, the initial crack propagates along the scribe line and a scribe groove is formed.
この方法では、スクライブ予定ラインの終端側のガラス端部が、より強い吸着力でテーブル上に保持される。したがって、ガラス端部は、加熱及び冷却処理を実施した場合に、変形しにくくなる。このため、ガラス端部では亀裂が開きにくくなり、深い亀裂が形成されるのを抑えることができ、自然分断を避けることができる。また、アルミテープを貼る等の煩雑な作業は不要であり、しかも安定してスクライブ溝の形成を所望の位置で止めることができる。 In this method, the glass end portion on the terminal side of the scheduled scribe line is held on the table with a stronger suction force. Therefore, the glass end portion is not easily deformed when the heating and cooling processes are performed. For this reason, it becomes difficult to open a crack in a glass edge part, it can suppress that a deep crack is formed, and a natural division can be avoided. Further, a complicated operation such as applying an aluminum tape is unnecessary, and the formation of the scribe groove can be stably stopped at a desired position.
第2発明に係るガラス基板の加工装置は、圧縮応力を持たせた強化層を表面に有するガラスを、スクライブ予定ラインに沿ってスクライブする装置であり、テーブルと、照射部と、冷却部と、移動手段と、吸着圧制御部と、を備えている。テーブルは、複数の吸着孔を有し、表面に載置されたガラスを吸着して保持する。照射部はレーザビームをガラスに照射する。冷却部は照射部によって加熱された領域を冷却する。移動手段は、照射部及び冷却部を、ガラスに設定されたスクライブ予定ラインに沿って相対移動させる。吸着圧制御部は、テーブルにおける吸着圧を、ガラスの少なくともスクライブ予定ラインの終端側の端部が中央部に比較して強くなるように制御する。The glass substrate processing apparatus according to the second invention is an apparatus for scribing glass having a reinforced layer with compressive stress on the surface along a scribe line, a table, an irradiation unit, a cooling unit, A moving means and an adsorption pressure control unit are provided. The table has a plurality of suction holes, and sucks and holds the glass placed on the surface. The irradiation unit irradiates the glass with a laser beam. The cooling unit cools the region heated by the irradiation unit. The moving means relatively moves the irradiation unit and the cooling unit along a scheduled scribe line set in the glass. The adsorption pressure control unit controls the adsorption pressure at the table so that at least the end portion of the glass at the end of the scribe line is stronger than the central portion.
第3発明に係るガラス基板の加工装置は、第2発明の加工装置において、吸着圧制御部は、前記テーブルにおける吸着圧を、ガラスのスクライブ予定ラインの開始端側の端部および終端側の端部が中央部に比較して強くなるように制御する。The glass substrate processing apparatus according to a third aspect of the present invention is the processing apparatus of the second aspect, wherein the adsorption pressure control unit uses the adsorption pressure in the table to determine the end of the glass scribe line on the start end side and the end end side. Control is performed so that the portion is stronger than the central portion.
例えば初期亀裂の溝深さが深い場合には、スクライブ溝の形成工程において、初期亀裂から加熱及び冷却の走査方向とは逆方向に向かって、すなわちガラス端部に向かって深い亀裂が進展し、自然分断を生じることがある。For example, when the groove depth of the initial crack is deep, in the scribe groove forming process, the deep crack progresses from the initial crack toward the direction opposite to the scanning direction of heating and cooling, that is, toward the glass edge, May cause natural fragmentation.
そこで、この第3発明では、スクライブ予定ラインの終端側の端部に加えて開始端側の端部を強い吸着力で保持するようにしている。これにより、スクライブ溝の形成時におけるガラス端部での変形が抑えられ、スクライブ予定ラインの開始端側に向かって亀裂が進展することも抑えることができる。このため、開始端側からの自然分断を避けることができる。Therefore, in the third aspect of the invention, in addition to the end portion on the end side of the scheduled scribe line, the end portion on the start end side is held with a strong suction force. Thereby, the deformation | transformation in the glass edge part at the time of formation of a scribe groove | channel is suppressed, and it can also suppress that a crack progresses toward the start end side of a scribe plan line. For this reason, natural division from the start end side can be avoided.
第4発明に係るガラス基板の加工装置は、第2発明の加工装置において、互いに直交する複数のスクライブ予定ラインに沿ってスクライブ溝を形成するものである。そして、吸着圧制御部は、ガラスの全外周端部を他の領域に比較して強くなるように制御する。A glass substrate processing apparatus according to a fourth aspect of the present invention is the processing apparatus of the second aspect, wherein the scribe grooves are formed along a plurality of scribe lines that are orthogonal to each other. And an adsorption pressure control part controls all the outer periphery edge parts of glass so that it becomes strong compared with another area | region.
ここでは、クロススクライブを行う場合に、前記同様に、ガラス端部において深い亀裂が形成されるのを抑えることができ、自然分断を避けることができる。Here, in the case of performing cross scribing, it is possible to suppress the formation of deep cracks at the glass edge as in the case described above, and natural fragmentation can be avoided.
以上のように、本発明では、圧縮応力を持たせた強化層を表面に有するガラスに対して、容易にかつ安定してスクライブ予定ラインの終端部手前で亀裂の進展を止めることができる。したがって、ガラスにスクライブ溝を形成した時点でガラスが自然分断するのを防止できる。 As described above, in the present invention, the progress of cracks can be stopped easily and stably before the end portion of the planned scribe line with respect to the glass having the reinforcing layer having a compressive stress on the surface. Accordingly, it is possible to prevent the glass from being naturally divided when the scribe groove is formed in the glass.
[装置構成]
図1は、本発明の一実施形態による方法を実施するためのスクライブ装置の概略構成を示す図である。スクライブ装置1は、例えば、マザーガラス基板を、FPD(フラットパネルディスプレイ)に使用される複数の単位基板に分断するための装置である。ここでのガラス基板は、表面に強化層が形成された化学強化ガラスが主に用いられている。前述のように、この化学強化ガラスは、イオン交換処理によって表面に圧縮応力を持たせた強化層を有している。
[Device configuration]
FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a scribing apparatus for carrying out a method according to an embodiment of the present invention. The
スクライブ装置1は、ガラス基板Gが載置されるテーブル2と、カッターホイール3と、レーザ照射部4と、冷却部5と、駆動機構6と、2つの吸引ポンプ7a,7bと、制御部8と、を備えている。
The
テーブル2には、上部がテーブル表面に解放された複数の貫通孔10が形成されている。複数の貫通孔10のうちのガラス基板Gの外周端部に対応する位置に形成された貫通孔10aは、実線で示す第1通路11を介して第1吸引ポンプ7aに接続されている。また、貫通孔10a以外の複数の貫通孔10bは一点鎖線で示す第2通路12を介して第2吸引ポンプ7bに接続されている。
The table 2 is formed with a plurality of through-
カッターホイール3は、ガラス基板Gの端部にスクライブの起点となる初期亀裂を形成するためのツールである。このカッターホイール3は主に、ホルダと、ホルダに支持されたスクライビングホイールとを有している。 The cutter wheel 3 is a tool for forming an initial crack serving as a starting point for scribing at the end of the glass substrate G. This cutter wheel 3 mainly has a holder and a scribing wheel supported by the holder.
レーザ照射部4は、レーザビームを照射するレーザ発振器(例えば、CO2レーザ)を有し、このレーザビームを、光学系を介してガラス基板G上にビームスポットとして照射する。また、冷却部5は、図示しない冷媒源から供給される冷媒(例えば、水と空気、ヘリウムガス等)を、ノズルを介して噴射して冷却スポットを形成する。
The
駆動機構6は、カッターホイール3、レーザ照射部4、及び冷却部5を、レール14に沿って移動させる機構である。この駆動機構6によって、カッターホイール3、レーザ照射部4、及び冷却部5が、ガラス基板Gに設定されたスクライブ予定ラインに沿って移動させられる。
The drive mechanism 6 is a mechanism that moves the cutter wheel 3, the
制御部8は、カッターホイール3、レーザ照射部4、冷却部5、駆動機構6、及び2つの吸引ポンプ7a,7bを制御する。具体的には、制御部8によって、カッターホイール3のガラス基板Gへの押圧力、レーザ出力、冷媒の噴射量、駆動速度(走査速度)、吸引ポンプ7a,7bの回転数(吸着圧)が制御される。
The
[基板吸着圧とスクライブとの関係]
レーザ出力と走査速度とを変えて、それぞれの条件で吸着圧を変えた場合のスクライブ結果を以下に示す。各実験例のまとめを図2に示している。
[Relationship between substrate adsorption pressure and scribe]
The scribing results are shown below when the laser output and the scanning speed are changed and the adsorption pressure is changed under the respective conditions. A summary of each experimental example is shown in FIG.
<実験例1>
ガラス基板Gのテーブル2への吸着圧(kPa):5,10,20
レーザ出力:140W
走査速度:190mm/s
この実験例1では、低い吸着圧5kPaではスクライブが可能(図2において「○」で示している)であったが、高い吸着圧10及び20kPaではスクライブすることができなかった(図中「×」で示している)。
<Experimental example 1>
Adsorption pressure of glass substrate G to table 2 (kPa): 5, 10, 20
Laser output: 140W
Scanning speed: 190mm / s
In Experimental Example 1, scribing was possible at a low adsorption pressure of 5 kPa (indicated by “◯” in FIG. 2), but scribing was not possible at high adsorption pressures of 10 and 20 kPa (“×” in the figure). ”).
<実験例2>
ガラス基板Gのテーブル2への吸着圧(kPa):5,10,20
レーザ出力:160W
走査速度:230mm/s
この実験例2では、吸着圧5及び10kPaではスクライブが可能であったが、吸着圧20kPaではスクライブすることができなかった。
<Experimental example 2>
Adsorption pressure of glass substrate G to table 2 (kPa): 5, 10, 20
Laser output: 160W
Scanning speed: 230mm / s
In Experimental Example 2, scribing was possible at adsorption pressures of 5 and 10 kPa, but scribing was not possible at adsorption pressure of 20 kPa.
<実験例3>
ガラス基板Gのテーブル2への吸着圧(kPa):5,10,20
レーザ出力:170W
走査速度:250mm/s
この実験例3では、吸着圧5及び10kPaではスクライブが可能であったが、吸着圧20kPaではスクライブすることができなかった。
<Experimental example 3>
Adsorption pressure of glass substrate G to table 2 (kPa): 5, 10, 20
Laser output: 170W
Scanning speed: 250mm / s
In Experimental Example 3, scribing was possible at adsorption pressures of 5 and 10 kPa, but scribing was not possible at adsorption pressure of 20 kPa.
<実験例4>
ガラス基板Gのテーブル2への吸着圧(kPa):5,10,20
レーザ出力:180W
走査速度:260mm/s
この実験例4では、吸着圧5及び10kPaではスクライブが可能であったが、吸着圧20kPaではスクライブすることができなかった。
<Experimental example 4>
Adsorption pressure of glass substrate G to table 2 (kPa): 5, 10, 20
Laser output: 180W
Scanning speed: 260mm / s
In Experimental Example 4, scribing was possible at adsorption pressures of 5 and 10 kPa, but scribing was not possible at adsorption pressure of 20 kPa.
以上の実験例から明らかなように、吸着圧を高めると、すなわち吸引力を強くして、スクライブ溝の形成時にガラス基板の変形を抑えると、亀裂の進展が止まることがわかる。 As is clear from the above experimental examples, it is understood that when the adsorption pressure is increased, that is, the suction force is increased to suppress the deformation of the glass substrate during the formation of the scribe groove, the progress of the crack is stopped.
[スクライブ方法]
以上の知見に基づいて、本実施形態では、以下のようなスクライブ方法によってスクライブ溝が形成される。
[Scribe method]
Based on the above knowledge, in this embodiment, a scribe groove | channel is formed with the following scribe methods.
まず、加工対象となるガラス基板Gをテーブル2上に載置する。そして、第1吸引ポンプ7a及び第2吸引ポンプ7bを駆動して、ガラス基板Gをテーブル2上に吸着する。このとき、制御部8によって各吸引ポンプ7a,7bの回転数を制御し、第1吸引ポンプ7aによる吸着圧が20kPa以上になるように制御し、第2吸引ポンプ7bによる吸着圧が10kPa以下になるように制御する。
First, the glass substrate G to be processed is placed on the table 2. Then, the
次に、カッターホイール3を用いてガラス基板Gの端部にスクライブの起点となる初期亀裂を形成する。 Next, an initial crack serving as a starting point for scribing is formed at the end of the glass substrate G using the cutter wheel 3.
次に、ガラス基板Gに対して、レーザ照射部4からレーザビームが照射される。このレーザビームはビームスポットとしてガラス基板G上に照射される。そして、レーザ照射部4から出射されるレーザビームが、スクライブ予定ラインに沿って走査される。ガラス基板Gはビームスポットによってガラス基板Gの軟化点よりも低い温度に加熱される。また、冷却スポットをビームスポットの移動方向後方において追従させる。
Next, the laser beam is irradiated from the
以上のようにして、レーザビームの照射によって加熱されたビームスポットの近傍には圧縮応力が生じるが、その直後に冷媒の噴射によって冷却スポットが形成されるので、垂直クラックの形成に有効な引張応力が生じる。この引張応力により、ガラス基板Gの端部に形成された初期亀裂を起点としてスクライブ予定ラインに沿った垂直クラックが形成され、所望のスクライブ溝が形成される。 As described above, compressive stress is generated in the vicinity of the beam spot heated by the laser beam irradiation, but immediately after that, a cooling spot is formed by the injection of the refrigerant. Occurs. Due to this tensile stress, a vertical crack is formed along the scribe line from the initial crack formed at the end of the glass substrate G, and a desired scribe groove is formed.
ここで、スクライブ溝の形成工程において、スクライブ予定ラインの開始端部及び終端部、すなわちガラス基板Gの端部は強い吸着圧(吸引力)で保持されている。したがって、加熱及び冷却処理によるガラス基板Gの変形が抑えられ、亀裂の進展を抑えることができる。このため、ガラス基板Gの端部において深い亀裂が形成されるのを抑えることができ、基板が自然に分断されるのを防止することができる。 Here, in the step of forming the scribe groove, the start end portion and the end portion of the planned scribe line, that is, the end portion of the glass substrate G is held with a strong adsorption pressure (suction force). Therefore, the deformation of the glass substrate G due to the heating and cooling processes can be suppressed, and the progress of cracks can be suppressed. For this reason, it can suppress that a deep crack is formed in the edge part of the glass substrate G, and can prevent that a board | substrate is divided naturally.
[特徴]
この実施形態では、ガラス基板の端部を強い力でテーブル上に保持し、加工中の変形を抑えるようにしたので、ガラス基板端部に深い亀裂が形成されるのを抑えることができる。このため、基板の自然分断を避けることができる。
[Feature]
In this embodiment, the end of the glass substrate is held on the table with a strong force to suppress deformation during processing, so that formation of deep cracks at the end of the glass substrate can be suppressed. For this reason, natural division of the substrate can be avoided.
また、ガラス基板端部における亀裂進展を停止させるための手段として、テーブルへの基板の吸着圧を制御により実現しているので、簡単な方法で基板の自然分断を避けることができる。 In addition, since the adsorption pressure of the substrate to the table is realized as a means for stopping the crack growth at the edge of the glass substrate, natural separation of the substrate can be avoided by a simple method.
[他の実施形態]
本発明は以上のような実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲を逸脱することなく種々の変形又は修正が可能である。
[Other Embodiments]
The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various changes or modifications can be made without departing from the scope of the present invention.
(a)前記実施形態では、ガラス基板におけるスクライブ予定ラインの開始側の端部及び終端側の端部の両方を強い力でテーブルに保持するようにしたが、スクライブ予定ラインの終端側の端部のみを強い力で保持するようにしてもよい。また、開始側の端部を強い力で保持すると、初期亀裂の進展が抑えられ、スクライブ溝が形成されない場合があるので、開始側の端部は、終端側の端部に比較して弱く、かつ中央部に比較して強く保持するようにしてもよい。 (A) In the above embodiment, both the start side end and the end side end of the planned scribe line in the glass substrate are held on the table with a strong force, but the end side end of the planned scribe line You may make it hold | maintain only with strong force. Also, if the start side end is held with a strong force, the development of the initial crack is suppressed, and the scribe groove may not be formed, so the start side end is weak compared to the end side end, Further, it may be held stronger than the central portion.
(b)前記実施形態では、テーブルを固定し、レーザ照射部等を移動させるようにしたが、レーザ照射部等を固定し、テーブルを移動させるようにしてもよい。 (B) In the above embodiment, the table is fixed and the laser irradiation unit and the like are moved. However, the laser irradiation unit and the like may be fixed and the table may be moved.
(c)前記実施形態では、初期亀裂を形成するためのカッターホイールをレーザ照射部等とともに同じ装置に設けたが、カッターホイールをレーザ照射部等とは別の装置に設けてもよい。この場合は、まず初期亀裂を形成した後に、ガラス基板がテーブル上に吸着されることになる。すなわち、初期亀裂形成工程(第2工程)と、ガラス基板のテーブルへの載置工程(第1工程)とが、前記実施形態とは順序が逆になる。 (C) In the above embodiment, the cutter wheel for forming the initial crack is provided in the same apparatus together with the laser irradiation unit and the like. However, the cutter wheel may be provided in an apparatus different from the laser irradiation unit and the like. In this case, after forming an initial crack first, a glass substrate will be adsorb | sucked on a table. That is, the order of the initial crack forming step (second step) and the placing step of the glass substrate on the table (first step) is reversed from that of the above embodiment.
(d)前記実施形態では、初期亀裂を形成するためにカッターホイールを用いたが、レーザーアブレーションや、改質などのレーザ加工を用いて初期亀裂を形成することとしてもよい。この場合は、初期亀裂形成用にUVレーザやグリーンレーザなどを光源とするレーザ照射機構を設ける。 (D) In the above-described embodiment, the cutter wheel is used to form the initial crack. However, the initial crack may be formed using laser processing such as laser ablation or modification. In this case, a laser irradiation mechanism using a UV laser or a green laser as a light source is provided for initial crack formation.
1 スクライブ装置
2 テーブル
3 カッターホイール
4 レーザ照射部
5 冷却部
6 駆動機構
7a,7b 吸引ポンプ
8 制御部
10 貫通孔
G ガラス基板
DESCRIPTION OF
G Glass substrate
Claims (4)
基板保持用の複数の吸着孔を有するテーブルにガラスを載置するとともに、ガラスの全外周端部を他の領域に比較して強い吸着圧で吸着する第1工程と、
ガラスの表面に初期亀裂を形成する第2工程と、
ガラスの表面にレーザ光を照射して加熱するとともに、加熱された領域を冷却し、互いに直交する複数のスクライブ予定ラインに沿って亀裂を進展させてスクライブ溝を形成する第3工程と、
を含むガラス基板のスクライブ方法。 A glass substrate scribing method for scribing a glass having a reinforcing layer having a compressive stress on a surface, along a plurality of scribing lines orthogonal to each other ,
A first step of placing the glass on a table having a plurality of suction holes for holding the substrate, and suctioning the entire outer peripheral edge of the glass with a stronger suction pressure than other regions ;
A second step of forming an initial crack on the surface of the glass;
A third step of irradiating and heating the surface of the glass with laser light, cooling the heated region, and developing a scribe groove by extending cracks along a plurality of scribe lines orthogonal to each other ;
A method for scribing a glass substrate.
複数の吸着孔を有し、表面に載置されたガラスを吸着して保持するテーブルと、
レーザビームをガラスに照射する照射部と、
前記照射部によって加熱された領域を冷却する冷却部と、
前記照射部及び冷却部を、ガラスに設定されたスクライブ予定ラインに沿って相対移動させる移動手段と、
前記テーブルにおける吸着圧を、ガラスの少なくともスクライブ予定ラインの終端側の端部が中央部に比較して強くなるように制御する吸着圧制御部と、
を備えたガラス基板の加工装置。 A glass substrate processing apparatus that scribes a glass having a reinforced layer having a compressive stress on a surface thereof along a scribe line.
A table having a plurality of suction holes and sucking and holding the glass placed on the surface;
An irradiation unit for irradiating the glass with a laser beam;
A cooling unit for cooling the region heated by the irradiation unit;
Moving means for relatively moving the irradiation unit and the cooling unit along a scribe line set in the glass;
An adsorption pressure control unit for controlling the adsorption pressure in the table so that at least the end of the scribe line on the terminal side of the glass is stronger than the central part;
A glass substrate processing apparatus comprising:
前記吸着圧制御部は、前記テーブルにおける吸着圧を、ガラスの全外周端部を他の領域に比較して強くなるように制御する、請求項2に記載のガラス基板の加工装置。The glass substrate processing apparatus according to claim 2, wherein the adsorption pressure control unit controls the adsorption pressure of the table so that the entire outer peripheral edge of the glass is stronger than other regions.
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