JP5422841B2 - 生体分子とセラミックスとの生体適合性を判定する判定方法及び判定装置 - Google Patents
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Description
1.光学プリズムに金属薄膜を積層し、SPR素子を作成するSPR素子作成ステップと、
前記金属薄膜の表面上に2nm〜25nmの膜厚を有したセラミックス薄膜を積層する最表層積層ステップと、
前記セラミックス薄膜の表面上に生体分子注入セルを配置するセル配置ステップと、
前記生体分子注入セル内に緩衝液のみを注入してSPR角を測定する第1のSPR角測定ステップと、
前記生体分子注入セル内に生体分子溶液を溶かした緩衝液を注入してSPR角を測定する第2のSPR角測定ステップと、
前記生体分子注入セル内に再び緩衝液のみを注入してSPR角を測定する第3のSPR角測定ステップと、
上記ステップにより測定されたSPR角を比較する比較ステップと、
を含み、かつ、
前記セラミックス薄膜は、水素化アモルファス炭素薄膜又はアモルファス炭素薄膜であることを特徴とする生体分子とセラミックスとの生体適合性を判定する判定方法。
2.前記SPR素子作成ステップにはスパッタリング法が使用され、かつ、
前記最表層積層ステップには大気開放型CVD法が使用されることを特徴とする前記1に記載の判定方法。
3.前記最表層積層ステップの後に、前記セラミックス薄膜の表面を改質するか否かを選択するステップをさらに含み、かつ、
前記ステップで前記表面を改質する選択した場合には疎水化処理又は親水化処理を施すことを特徴とする前記1又は2に記載の判定方法。
4.前記SPR素子作成ステップと最表層積層ステップとを用いて、前記セラミックス薄膜の膜厚が異なったSPR素子を複数作製するステップと、
前記作製されたSPR素子に対してX線反射率測定とSPR角測定とを行う解析ステップと、
前記解析ステップから得られた測定結果から生体適合性判定に最適な膜厚のセラミックス薄膜を特定する特定ステップと、
を含んだ予備光学特性解析ステップをさらに含み、かつ、
前記予備光学特性解析ステップを行った後に、最適な膜厚のセラミックス薄膜を有するSPR素子を用いて、前記判定方法の各ステップを実行することを特徴とする前記1〜3のいずれかに記載の判定方法。
5.前記SPR素子作成ステップと最表層積層ステップとを用いて、前記セラミックス薄膜の密度が異なったSPR素子を複数作製するステップと、
前記作製されたSPR素子に対してX線反射率測定とSPR角測定とを行う解析ステップと、
前記解析ステップから得られた測定結果から生体適合性判定に最適な密度のセラミックス薄膜を特定する特定ステップと、
を含んだ予備光学特性解析ステップをさらに含み、かつ、
前記予備光学特性解析ステップを行った後に、最適な密度のセラミックス薄膜を有するSPR素子を用いて、前記判定方法の各ステップを実行することを特徴とする前記1〜3のいずれかに記載の判定方法。
6.前記1〜5のいずれかに記載の生体分子とセラミックスとの生体適合性を判定する判定方法に用いられる判定装置であって、
光学プリズムに中間層の金属薄膜と最表層のセラミックス薄膜とが積層されたクレッシュマン配置のSPR素子と、
前記セラミックス薄膜の表面を覆うように配置された生体分子注入セルと、を備え、
前記生体分子注入セルには、生体分子を注入する注入口と排出口とが設けられ、かつ、
前記セラミックス薄膜は、水素化アモルファス炭素薄膜又はアモルファス炭素薄膜であることを特徴とする判定装置。
(1)セラミックス薄膜と生体分子との適合性判定にSPR角測定を使用しているため、評価者の評価作業負担(目視確認等)を排除するとともに、評価精度を高めることが可能となる。
(2)セラミックス薄膜の積層ステップに大気開放型CVD法を使用することで、真空引き等に要する複雑な装置構成、コスト及び時間を掛けることなく薄膜を合成することができる。つまり、簡素な設備により、セラミックス薄膜の種類や膜厚等の試験条件が異なる多くの供試材料を用いて迅速に生体適合性評価が行うことができる。
(3)セラミックス薄膜の表面を改質するか(例えば、親水性表面又は疎水性表面のいずれか)を選択することにより、同一セラミックス材料における表面状態の違いが生体適合性に影響するかを検討でき、評価対象の生体分子に対して好適な表面を特定することができる。
(4)セラミックス薄膜と生体分子との生体適合性を判定する前(すなわち、セラミックス薄膜を備えたSPR素子と生体分子とを接触させた状態のSPR角測定を行う前)に、セラミックス薄膜を備えたSPR素子のみに対して、予備的に光学特性解析を行うことにより、生体適合性判定方法に最適なセラミックス薄膜の構造パラメータ(膜厚、密度等)を特定することができる。
(装置構成)
実施例1のセラミックス薄膜4として酸化物系セラミックスであるチタニア(TiO2)を使用した。本発明の装置構成として、光学プリズム2には屈折率1.51のガラスプリズム(BK7)を用い、金属薄膜3には金(Au)薄膜を用いた。金薄膜3及びチタニア薄膜4は、それぞれスパッタリング法及び大気開放型CVD法により光学プリズム2上に形成した。光源10には可視光半導体レーザー光源を用い、励起されたレーザーの波長は635ナノメートル(nm)とした。また、光検出器15に光パワー・メータを用いてプリズム2から反射されたレーザー強度を測定した。また、SPR測定角度範囲はAu膜3でSPR現象が観測できる範囲を考慮し、40°〜89°に設定した。
図4に、本発明の実施例1(チタニア薄膜4付きSPR素子5)のSPR素子自体のSPR角測定結果を示す。図4中、公知のSPR素子5(Au/BK7)のSPR角を破線で示し、本発明のチタニア薄膜4付きSPR素子5(TiO2/Au/BK7)のSPR角を実線で示している。チタニア薄膜4の膜厚は、XRR測定により15.0nmであった。図4より、チタニア薄膜4の存在によりSPR角がシフトしていることがわかる。詳しくは、金薄膜のみのSPR素子のSPR角は45.07°であり、一方、チタニア薄膜4付のSPR素子のSPR角は約51.19°であり、このときのSPR角シフト量は6.12°である。
以上の解析により、チタニア薄膜4付きSPR素子5自体のSPR特性がわかったので、本発明の生体分子注入セル6を、膜厚3nmのチタニア薄膜4の表面上に配置し、チタニア薄膜4と生体分子8とを接触させることで両者間の生体適合性の判定を行った。緩衝液7としてはリン酸緩衝液(PB,Phosphate buffer solution、水素イオン指数pH=7)を用い、生体分子8にはタンパク質の一種であるリゾチームを使用した。ここで、リゾチームとは細菌細胞壁を加水分解する酵素で唾液や卵白などに存在しており、分子量14300、等電点11、分子の大きさは4.5×3×3nm 3である。
(装置構成)
実施例2の装置構成は、SPR素子5上のセラミックス薄膜4にシリカ(SiO2)を採用した以外の基本的構成は、実施例1の装置構成と同様であり、説明を省略する。
実施例1の場合と同様に、シリカ薄膜4付きSPR素子5の素子自体に対して予備光学特性解析を行った。図7はシリカ薄膜4の膜厚変化に対するSPR角のシフト量を示す。
以上の解析により、シリカ薄膜4付きSPR素子5自体のSPR特性がわかったので、本発明の生体分子注入セル6を膜厚15nmのシリカ薄膜4の表面上に配置し、シリカ薄膜4と生体分子8とを接触させることで両者間の生体適合性の判定を行った。
(装置構成)
実施例3の装置構成は、SPR素子5上のセラミックス薄膜4にアルミナ(アモルファスAl2O3)を採用した以外の基本的構成は、前記実施例1及び2の装置構成と同様であり、説明を省略する。
前記実施例の場合と同様に、アルミナ薄膜4付きSPR素子5の素子自体に対して予備光学特性解析を行った。図9はアルミナ薄膜4の膜厚変化に対するSPR角のシフト量を示す。
以上の解析により、アルミナ薄膜4付きSPR素子5自体のSPR特性がわかったので、本発明の生体分子注入セル6を膜厚2nmのアルミナ薄膜4の表面上に配置し、アルミナ薄膜4と生体分子8とを接触させることで両者間の生体適合性の判定を行った。
上述した具体的な実施例1〜3はいずれも酸化物系セラミックス薄膜4を使用した。本実施例では、酸化物系セラミックス薄膜4以外でも本発明の適用可能性を検討するため、ダイヤモンドライクカーボン(DLC)の一種である水素化アモルファス炭素(a−C:H)薄膜を適用して予備的な光学解析特性評価を行った。
実施例4の装置構成は、SPR素子5上のセラミックス薄膜4に水素化アモルファス炭素を採用した以外の基本的構成は、前記実施例1〜3の装置構成と同様であり、説明を省略する。
前記実施例1〜3の場合と同様に、水素化アモルファス炭素薄膜4付きSPR素子5の素子自体に対して予備光学特性解析(XRR測定及びSPR測定)を行った。XRR測定より得られた水素化アモルファス炭素薄膜4の真密度は、MS法作製の膜で1.6g/cm3であり、ECR−CVD法作製の膜で1.4g/cm3であった。
2 光学プリズム
3 金属薄膜
4 セラミックス薄膜
5 SPR素子
6 生体分子注入セル
6a 注入口
6b 排出口
7 緩衝液
8 生体分子(溶液)
10 励起光光源
11 絞り
12 偏光子
13 入射光
14 反射光
15 光検出器
100 本発明の判定方法におけるメインフロー
101 評価すべきセラミックス薄膜の種類を設定するステップ
102 光学プリズムに金属薄膜を積層するステップ
103 金属薄膜の表面上にセラミックス薄膜を積層するステップ
104 セラミックス薄膜の表面を改質するか否かを選択するステップ
105 セラミックス薄膜の表面上に生体分子注入セルを配置するステップ
106 緩衝液のみを注入した状態でのSPR角測定を行うステップ
107 緩衝液及び生体分子溶液を注入した状態でのSPR角測定を行うステップ
108 再び緩衝液のみを注入した状態でのSPR角測定を行うステップ
109 他の評価対象セラミックス薄膜の存在の有無を選択するステップ
110 生体分子と各セラミックス薄膜との生体適合性を評価・検証するステップ
200 本発明の予備光学特性解析ステップ
201 評価すべきセラミックス薄膜の種類を設定するステップ
202 膜厚の異なるSPR素子を複数用意するステップ
203 SPR素子自体にXRR測定及びSPR測定を行うステップ
204 測定結果からセラミックス薄膜の構造パラメータ(膜厚、密度など)の影響を検討するステップ
Claims (6)
- 光学プリズムに金属薄膜を積層し、SPR素子を作成するSPR素子作成ステップと、
前記金属薄膜の表面上に2nm〜25nmの膜厚を有したセラミックス薄膜を積層する最表層積層ステップと、
前記セラミックス薄膜の表面上に生体分子注入セルを配置するセル配置ステップと、
前記生体分子注入セル内に緩衝液のみを注入してSPR角を測定する第1のSPR角測定ステップと、
前記生体分子注入セル内に生体分子溶液を溶かした緩衝液を注入してSPR角を測定する第2のSPR角測定ステップと、
前記生体分子注入セル内に再び緩衝液のみを注入してSPR角を測定する第3のSPR角測定ステップと、
上記ステップにより測定されたSPR角を比較する比較ステップと、
を含み、かつ、
前記セラミックス薄膜は、水素化アモルファス炭素薄膜又はアモルファス炭素薄膜であることを特徴とする生体分子とセラミックスとの生体適合性を判定する判定方法。 - 前記SPR素子作成ステップにはスパッタリング法が使用され、かつ、
前記最表層積層ステップには大気開放型CVD法が使用されることを特徴とする請求項1に記載の判定方法。 - 前記最表層積層ステップの後に、前記セラミックス薄膜の表面を改質するか否かを選択するステップをさらに含み、かつ、
前記ステップで前記表面を改質する選択をした場合には疎水化処理又は親水化処理を施すことを特徴とする請求項1又は2に記載の判定方法。 - 前記SPR素子作成ステップと最表層積層ステップとを用いて、前記セラミックス薄膜の膜厚が異なったSPR素子を複数作製するステップと、
前記作製されたSPR素子に対してX線反射率測定とSPR角測定とを行う解析ステップと、
前記解析ステップから得られた測定結果から生体適合性判定に最適な膜厚のセラミックス薄膜を特定する特定ステップと、
を含んだ予備光学特性解析ステップをさらに含み、かつ、
前記予備光学特性解析ステップを行った後に、最適な膜厚のセラミックス薄膜を有するSPR素子を用いて、前記判定方法の各ステップを実行することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の判定方法。 - 前記SPR素子作成ステップと最表層積層ステップとを用いて、前記セラミックス薄膜の密度が異なったSPR素子を複数作製するステップと、
前記作製されたSPR素子に対してX線反射率測定とSPR角測定とを行う解析ステップと、
前記解析ステップから得られた測定結果から生体適合性判定に最適な密度のセラミックス薄膜を特定する特定ステップと、
を含んだ予備光学特性解析ステップをさらに含み、かつ、
前記予備光学特性解析ステップを行った後に、最適な密度のセラミックス薄膜を有するSPR素子を用いて、前記判定方法の各ステップを実行することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の判定方法。 - 前記請求項1〜5のいずれかに記載の生体分子とセラミックスとの生体適合性を判定する判定方法に用いられる判定装置であって、
光学プリズムに中間層の金属薄膜と最表層のセラミックス薄膜とが積層されたクレッシュマン配置のSPR素子と、
前記セラミックス薄膜の表面を覆うように配置された生体分子注入セルと、を備え、
前記生体分子注入セルには、生体分子を注入する注入口と排出口とが設けられ、かつ、
前記セラミックス薄膜は、水素化アモルファス炭素薄膜又はアモルファス炭素薄膜であることを特徴とする判定装置。
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