JP5419932B2 - 基板処理装置、基板処理方法及びその基板処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記憶媒体 - Google Patents
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(実施の形態)
始めに、図1を参照し、本発明の実施の形態に係る基板処理装置の概略構成について説明する。
32 基板保持機構
35 回転機構
42 保持プレート
43 クランプ部材
45 レーザセンサ
88 光源
89 受光素子
100 制御部
Claims (13)
- 基板を処理する基板処理装置において、
基板が載置される載置台と、
前記載置台の中心を回転軸として、前記載置台を前記基板とともに回転させる回転部と、
前記基板の表面に光を照射する光源と、
前記基板の表面に照射された光が前記基板の表面で反射した光量を検出する検出部と、
前記回転部及び前記検出部の動作を制御する制御部と
を有し、
前記制御部は、検出した前記光量の検出値が予め決められた所定値よりも小さいか否かを判定する判定処理を、前記基板の検出位置を変えながら複数回行い、前記検出値が前記所定値よりも小さいと判定された回数の合計が予め決められた回数に達したとき、前記基板の保持状態が正常でないと判定するものである、基板処理装置。 - 前記制御部は、前記判定処理を、前記回転部により前記検出位置を連続的に変えながら複数回行うものである、請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記制御部は、前記判定処理を複数回行う際に、前記所定回数連続して前記検出値が前記所定値よりも小さいと判定されたときに、前記基板の保持状態が正常でないと判定するものである、請求項2に記載の基板処理装置。
- 前記基板処理装置は、前記載置台に載置されている基板を保持する保持部を更に有し、
前記保持部は、前記基板の周縁部を保持する複数の保持部であり、
前記制御部は、前記基板の検出位置を、一の保持部に対応した第1の検出位置から前記一の保持部の隣の保持部に対応した第2の検出位置まで変えながら、前記判定処理を複数回行うものである、請求項1から請求項3のいずれかに記載の基板処理装置。 - 前記光源は、前記基板の表面であって、前記基板の中心以外の領域に光を照射するものである、請求項1から請求項4のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記制御部は、前記基板を処理する前に前記判定処理を行うとともに、前記基板を処理した後に前記判定処理を行うものである、請求項1から請求項5のいずれかに記載の基板処理装置。
- 基板を処理する基板処理方法において、
載置台に載置されている基板を保持部により保持する保持工程と、
前記基板の表面に照射した光が前記基板の表面で反射した光量を検出部により検出する検出工程と、
検出した検出値が所定値よりも小さいか否かを判定する判定工程と
を有し、
前記検出工程は、前記載置台の中心を回転軸として、前記保持部により保持された前記基板を回転させ、前記基板の検出位置を変えながら複数回行い、
前記判定工程は、前記検出値が前記所定値よりも小さいと判定された回数の合計が所定回数に達したとき、前記基板の保持状態が正常でないと判定する、基板処理方法。 - 前記検出工程を、前記検出位置を連続的に変えながら複数回行う、請求項7に記載の基板処理方法。
- 前記判定工程を複数回行う際に、前記所定回数連続して前記検出値が前記所定値よりも小さいと判定されたときに、前記基板の保持状態が正常でないと判定する、請求項8に記載の基板処理方法。
- 前記保持部は、前記基板の外周に沿って等間隔に設けられた、前記基板の周縁部を保持する複数の保持部であり、
前記検出工程は、前記基板の検出位置を、一の保持部に対応した第1の検出位置から前記一の保持部の隣の保持部に対応した第2の検出位置まで変えながら行い、前記判定工程を複数回行う際に、前記回数の合計が前記所定回数に達したとき、前記基板の保持状態が正常でないと判定する、請求項7から請求項9のいずれかに記載の基板処理方法。 - 前記検出工程は、前記基板の表面であって、前記基板の中心以外の領域に照射した光が前記領域で反射した光量を検出するものである、請求項7から請求項10のいずれかに記載の基板処理方法。
- 前記基板を処理する前に前記判定工程を行うとともに、前記基板を処理した後に前記判定工程を行う、請求項7から請求項11のいずれかに記載の基板処理方法。
- コンピュータに請求項7から請求項12のいずれかに記載の基板処理方法を実行させるためのプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記憶媒体。
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