JP5417997B2 - 撮像検査方法 - Google Patents
撮像検査方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5417997B2 JP5417997B2 JP2009134903A JP2009134903A JP5417997B2 JP 5417997 B2 JP5417997 B2 JP 5417997B2 JP 2009134903 A JP2009134903 A JP 2009134903A JP 2009134903 A JP2009134903 A JP 2009134903A JP 5417997 B2 JP5417997 B2 JP 5417997B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- imaging
- interval
- resolution
- pattern
- inspection object
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Image Input (AREA)
- Testing, Inspecting, Measuring Of Stereoscopic Televisions And Televisions (AREA)
- Studio Devices (AREA)
Description
P=Z÷R (数1)
となる。画素ごとに比較を行う観点から、Pは整数であることが望ましい。例えば図16に、撮像した画像における繰り返し周期Pがちょうど「4」となるように被検査物11を撮像した画像について比較処理を行う例を示す。撮像画像は50a、比較結果が60aである。このように、画像の繰り返し周期Pが整数の場合、原理的に欠陥でない部分のパターンを完全に消去することができる。
分解能Rxを制御するためには、画素サイズCまたは倍率Mを制御すればよい。ここで、Mを制御することによってPを整数とするようなRxを選択する手法については、特許文献1などで提案されている。
ただし、(数3)はRxとRyの値が大きく異なる場合には成立しない場合がある。
この時、Pが整数となるようにRyを選択することを考える。(数4)より、Ryを変化させることはHdを変化させることと同義である。ところが、実際にはHdは離散的な値しか取ることができない。リニアエンコーダの分解能に制限されるからである。リニアエンコーダの分解能が1[μm]の場合、Hdの取り得る値は{1,2,3,…}である。前述の例では、分解能Rとして10.09090909…[μm/画素]という値を設定する必要があったが、この分解能は例え0.01[μm]のリニアエンコーダを用いたとしても正確には実現不可能である。また、リニアエンコーダによって計測できる分解能と精度には限りがあり、当然高い分解能のものは計測に時間がかかり、また高価である。すなわち、これまでの技術では、Pを整数とするようなRyを常に実現することは実質不可能である。
図1は、本発明の実施の形態1におけるラインセンサ(カメラ)を用いた検査装置の例を示す図である。図1において、被検査物101をカメラ102を用いて撮像する。カメラ102はカメラ走査軸104によって移動走査される。カメラ走査軸104の位置はリニアエンコーダ固定子105aおよびリニアエンコーダ可動子105bによって把握できる。リニアエンコーダ固定子105aには等間隔の格子が刻まれており、これをリニアエンコーダ可動子105bを用いて読み取ることで、一定距離の移動ごとにリニアエンコーダ可動子105bから信号が出力される。
ここで、カメラ102における撮像の間隔を等間隔ではなく不等間隔とすれば、Y方向の画素ごとの分解能、すなわち画素ごとの撮像範囲の大きさを変化させることができる。撮像時のH間隔を、例えば{1,2,1,2,…}というように、「1」と「2」を交互に繰り返すようなパターンで不等間隔となるよう撮像を行った場合、得られる画像はRy=1Vの部分とRy=2Vの部分が混在したものとなる。ここで、この画像の分解能は、大局的には、Ry=(1+2)÷2×V=1.5Vであるような画像であるとみなすことができる。
ここで、Rは撮像の分解能[μm/画素]を、Tは被検査物の繰り返し周期[μm]を、Nは1以上の整数をそれぞれ示す。
(数7)のRsが所望のRに近いようなNk,Hkの組合せを、例えば総当たりで探せばよい。
RH=ceiling(R÷D)×D (数9)
なお、(数8)のfloor(X)および(数9)のceiling(X)は、Xについての床関数,天井関数をそれぞれ表す。
RH=ceiling(9.8125÷1)×1=10 (数11)
H間隔「9」で撮像する画素の数をN9、H間隔「10」で撮像する画素の数をN10として(数7)に代入すると、(数12)となる。
(数12)にも多くの解が存在する場合がある。この場合、(数7)におけるΣ(Nk)、つまり(数12)における(N9+N10)の値に制約を設定するとよい。例えば、パターンの周期(N9+N10)が、撮像された画像上における被検査物の繰り返し周期の約数であるように制約するとよい。前記の例ではこれは「16」である。「16」の約数は「1,2,4,8,16」であるから、パターンの周期がこのいずれかになるものの中で、最もRが9.8125に近いものを選択する。
(数12)および(数13)について解き、Rが希望する値である9.8125に最も近くなるようなN9およびN10をそれぞれ求めれば、N9=3,N10=13が得られる。この時、RsはちょうどRと等しい9.8125となる。ただし、一般にRsとRはこの例のように必ずしもちょうど一致するとは限らない。
撮像パターンは、例えば{9,9,9,10,10,10,10,10,10,10,10,10,10,10,10,10}でも構わないし、{10,10,10,10,10,9,10,10,9,10,10,10,10,10,10,9}でも構わない。
本実施の形態2における被検査物の撮像について、図8,図9を用いて説明する。本実施の形態2では、カメラが次に取り込む位置を、撮像する画像の座標と取り込みピッチとの乗算によって算出することにより、撮像を行うH間隔のパターンをあらかじめ設定することなく、都度H間隔を算出しながら撮像を行うことができる。
本実施の形態3における被検査物の撮像について、図10〜図13を用いて説明する。被検査物のパターンによっては、その位置によって繰り返しピッチが異なる場合がある。例えば、図10に示すように、1つの被検査物101の上に繰り返しピッチの異なる複数の部分、例えばパターンA101aおよびパターンB101bが作成されているような被検査物がある。あるいは、図11に示すように、被検査物101上に形成されたあるピッチの繰り返しを持つパターンC101cの周辺に、別の繰り返しピッチを持つパターンD101dが構成されているような場合がある。
2,102 カメラ
3 測定ヘッド
50,50a,50b 撮像画像
51,52,53,54,55 繰り返し部
60,60a,60b 比較結果
61,62,63,64 隣接繰り返し部の比較結果
57,66,67 欠陥
101’ 被検査物の一部分
101a パターンA
101b パターンB
101c パターンC
101d パターンD
104 カメラ走査軸
105 リニアエンコーダ
105a リニアエンコーダ固定子
105b リニアエンコーダ可動子
106 分周器
107 設定手段(分周器)
108 エンコーダカウンタ
109 設定手段(撮像ピッチ)
110 ライン数カウンタ
111 乗算器
112 比較器
113 保持手段
202 変形部分
Claims (4)
- 被検査物上の等間隔なパターンの画像をエンコーダからの信号に基づいて撮像して検査する際に、
前記被検査物のパターン間の間隔に基づいて決定された前記エンコーダからの信号の取り込み間隔で撮像する工程と、
決定された前記エンコーダからの信号の取り込み間隔と異なる不等間隔で撮像する工程と、を含み、
前記エンコーダからの信号の取り込み間隔をHkとし、Hkとなるパターンの数をNkとしたときに、Rs=Σ(Nk×Hk)÷Σ(Nk)で得られる分解能Rsが所望の分解能となる条件で撮像することを特徴とする撮像検査方法。 - 前記等間隔なパターンの間隔と前記被検査物のパターン間の間隔に基づいて決定された前記エンコーダからの信号の取り込み間隔との差の累積が閾値を越えた場合に、前記不等間隔で撮像する工程を行うこと
を特徴とする請求項1に記載の撮像検査方法。 - 前記被検査物におけるパターンの位置に応じて、前記被検査物のパターン間の間隔に基づいて決定された前記エンコーダからの信号の取り込み間隔を変化させること
を特徴とする請求項1又は2に記載の撮像検査方法。 - 前記不等間隔が、前記被検査物のパターン間の間隔に基づいて決定された前記エンコーダからの信号の取り込み間隔よりも大きいこと
を特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の撮像検査方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009134903A JP5417997B2 (ja) | 2009-06-04 | 2009-06-04 | 撮像検査方法 |
TW99113480A TWI416094B (zh) | 2009-06-04 | 2010-04-28 | Camera inspection method |
CN 201010200538 CN101923060B (zh) | 2009-06-04 | 2010-06-02 | 摄像检查方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009134903A JP5417997B2 (ja) | 2009-06-04 | 2009-06-04 | 撮像検査方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010281666A JP2010281666A (ja) | 2010-12-16 |
JP2010281666A5 JP2010281666A5 (ja) | 2012-04-12 |
JP5417997B2 true JP5417997B2 (ja) | 2014-02-19 |
Family
ID=43338115
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009134903A Active JP5417997B2 (ja) | 2009-06-04 | 2009-06-04 | 撮像検査方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5417997B2 (ja) |
CN (1) | CN101923060B (ja) |
TW (1) | TWI416094B (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018155600A (ja) * | 2017-03-17 | 2018-10-04 | 東レエンジニアリング株式会社 | 外観検査装置 |
CN110609439B (zh) * | 2018-06-15 | 2023-01-17 | 夏普株式会社 | 检查装置 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3371764B2 (ja) * | 1997-06-27 | 2003-01-27 | 株式会社日立製作所 | 撮像方法及び装置 |
JP2001148017A (ja) * | 1999-11-24 | 2001-05-29 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | 基板検査装置 |
JP2002199178A (ja) * | 2000-12-25 | 2002-07-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 画像読み取り装置および画像読み取り方法 |
JP4165115B2 (ja) * | 2002-05-09 | 2008-10-15 | 松下電器産業株式会社 | パターン消去方法および欠陥検査方法 |
CN1249800C (zh) * | 2002-08-30 | 2006-04-05 | 旺宏电子股份有限公司 | 排除不影响合格率的重复性缺陷来监控真正缺陷的方法 |
KR100598096B1 (ko) * | 2003-12-01 | 2006-07-07 | 삼성전자주식회사 | 패턴 검사 장치 및 검사 방법 |
JP4462232B2 (ja) * | 2006-05-10 | 2010-05-12 | 株式会社ニコン | 表面検査装置 |
CN101377576A (zh) * | 2007-08-27 | 2009-03-04 | 东捷科技股份有限公司 | 液晶面板瑕疵点精确定位方法 |
CN101398393B (zh) * | 2007-09-28 | 2011-02-02 | 上海华虹Nec电子有限公司 | 硅片制品缺陷分析方法及装置 |
-
2009
- 2009-06-04 JP JP2009134903A patent/JP5417997B2/ja active Active
-
2010
- 2010-04-28 TW TW99113480A patent/TWI416094B/zh active
- 2010-06-02 CN CN 201010200538 patent/CN101923060B/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI416094B (zh) | 2013-11-21 |
CN101923060A (zh) | 2010-12-22 |
TW201105956A (en) | 2011-02-16 |
JP2010281666A (ja) | 2010-12-16 |
CN101923060B (zh) | 2013-01-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100808653B1 (ko) | 패턴 비교 검사 방법 및 패턴 비교 검사 장치 | |
US7577288B2 (en) | Sample inspection apparatus, image alignment method, and program-recorded readable recording medium | |
JP4932819B2 (ja) | 表面検査装置及び方法 | |
JP4762351B2 (ja) | 撮像検査装置および撮像検査方法 | |
JP2009522561A (ja) | 周期構造の光学検査方法及びシステム | |
KR20140044395A (ko) | 결함 관찰 방법 및 결함 관찰 장치 | |
JP2013250101A (ja) | 基板検査装置および基板検査方法 | |
JP2006276454A (ja) | 画像補正方法、およびこれを用いたパターン欠陥検査方法 | |
JP2004279244A (ja) | パターン検査装置 | |
JP2006258582A (ja) | 画像入力装置および画像入力方法 | |
JP5417997B2 (ja) | 撮像検査方法 | |
CN113076517B (zh) | 基于希尔伯特变换的土木工程结构动态监测相位评估方法 | |
JP2007078483A (ja) | 液面測定方法及び液量測定方法 | |
JP2002140694A (ja) | 画像処理装置、画像処理方法および画像処理プログラムを記録した記録媒体 | |
KR20200044252A (ko) | 표시 패널 검사 시스템, 표시 패널 검사 방법 및 이를 이용한 표시 패널. | |
JP4502186B2 (ja) | 欠陥検出装置および欠陥検出方法 | |
JP4823981B2 (ja) | 表示装置の動画解像度評価装置 | |
JPH0658215B2 (ja) | 半導体ウエハ上の被検査パターンの欠陥検査方法およびその装置 | |
JP2004037136A (ja) | パターン検査装置およびパターン検査方法 | |
JPH10311705A (ja) | 画像入力装置 | |
JP2008175550A (ja) | 欠陥検出装置および欠陥検出方法 | |
JP4634478B2 (ja) | 試料検査装置及び試料検査方法 | |
JP4827896B2 (ja) | 画像欠陥検査方法、画像欠陥検査装置及び外観検査装置 | |
JP5378340B2 (ja) | ひずみ測定装置およびひずみ測定方法 | |
JP2000121337A (ja) | 画像補正方法および画像補正装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20100910 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20100915 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120223 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120223 |
|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20121217 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130226 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130416 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130521 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20131022 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20131104 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5417997 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |