JP5412773B2 - 回折格子又はホログラム - Google Patents
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そのために、高額紙幣や商品券等の金券類は、デザインの一部にカラーコピー機のセンサーでは読み取ることができない小さな網点や細線を、同じ反射濃度でデザインされた絵柄の中に組み込んでいる。その結果、これらの高額紙幣や商品券をカラーコピー機によって複写しようとすると、コピー機のスキャナーが小さな網点や細線を読み落とし、その部分が白く抜けることでコピー品であると判別している。
また、高度な複製技術を必要とするホログラムが、一部の高額紙幣や、その他の金券類に採用されている。
ホログラムは、また、その凹凸面に金属の反射層を形成することにより、ホログラムをコピーした時にホログラム形成部を黒に再現するため、コピー牽制手段として利用されている。
しかしながら、技術の進歩によって、ホログラムに近似の偽造品が出現するようになってきた。そして、このような偽造品をチェックするために、ホログラムの光回折構造即ち回折格子の中に判別困難な隠し情報を組み込んで真偽判別の手段として使用する技術が開示されている。
ところがこれらの技術を使用した製品も、見る角度によって隠し情報が微かに判別されてしまうという課題があった。
本発明の回折格子又はホログラムの1つの態様は、赤外光波長の2倍の長さの周期のレリーフ形状を有する回折格子または、その回折格子で構成されるホログラム、であって、その回折格子線が、所定の文字、記号、図柄の何れか、または、これらの組み合わせ情報(以下所定情報という)を表示する一列の凹凸構造からなる。
このレリーフ形状は、「完全な周期性」(曲線が、その一周期分を、全く同一形状で繰り返して形成されている。)を有する。
この範囲の中でどの数値を採用するかは、実際に使用する観察する光の波長もしくは波長域や、回折光により再現する再生画像、すなわち、回折画像やホログラム画像のデザインにより決定される。正規な画像情報は、この所定の光源によって得られる。可視光観察や、他の光源によって観察した場合は画像にボケ・歪みが生じて判読不能であったり別の情報となってしまうことから、高い偽造防止効果を得ることができる。
すなわち、本発明の複数の回折格子線を俯瞰すると、一本の回折格子線に沿った複雑な
凹凸構造が、それと平行に、全く同じ形状で何本も並んでいることが判る。
もちろん、所定情報は上記例に限るものでなく、文字、記号、図柄の何れか、または、これらの組み合わせ情報とすることができ、また周期や角度の異なる回折格子線群を組み合わせて、複数の光源を使用したホログラムを再現することも好適である。複数光源を使用する場合は、その強度、光干渉性等にバラツキがあるため、個々の回折光を測定し、ホログラム画像設計にフィードバックする。
凹凸の形状は、所定情報を表わす凸部と平坦な凹部、所定情報を表わす凸部と点対称となる凹部、もしくはその逆の組み合わせ、さらには、3階層以上の階層を持つ階段構造等、所定情報を読み出せる構造であれば、あらゆる構造を採用することができる。
この範囲の中でどの数値を採用するかは、実際に使用する観察する光の波長もしくは波長域や、回折光により再現する再生画像、すなわち、回折画像やホログラム画像のデザインにより決定される。正規な画像情報は、この所定の光源によってのみ得られ、可視光観察や、他の光源によって観察した場合は画像がでない、ボケ・歪みが生じるなど、判読不能であったり別の情報となってしまうことから、高い偽造防止効果を得ることができる。
すなわち、本発明の複数の回折格子線を俯瞰すると、一本の回折格子線に沿った複雑な凹凸形状が、それと平行に、全く同じ形状で何本も並んでいることが判る。
もちろん、所定情報は上記例に限るものでなく、文字、記号、図柄の何れか、または、これらの組み合わせ情報とすることができ、また回折格子周期や回折格子角度を組み合わせて、複数の光源を使用したホログラムを再現することも好適である。複数光源を使用する場合は、その強度、光干渉性等にバラツキがあるため、個々の回折光を測定し、ホログラム画像設計にフィードバックする。
凹凸の形状は、所定情報を表わす凸部と平坦な凹部、所定情報を表わす凸部と点対称となる凹部、もしくはその逆の組み合わせ、さらには、3階層以上の階層を持つ階段構造等、所定情報を読み出せる構造であれば、あらゆる構造を採用することができる。
また、赤外光対応の回折格子はその周期が比較的大きいためより複雑な図形等をその情報として使用でき、隠し情報そのものを複雑なものとして(所定情報を複数行とするか、凹凸のごく一部に設ける等)、さらに偽造防止性を高めることができる。
本発明の回折格子又はホログラムの第3の態様によれば、凹凸構造を矩形波形とすることにより、回折光強度を高め、設計段階での再生像予測を容易にする効果がある。
図1を参照して、本発明の所定情報を表わす回折格子の一例について説明する。
図1の回折格子線は、所定の文字、記号、図柄の何れか、または、これらの組み合わせ情報(以下所定情報という)を表示する一列の凹凸構造からなる所定情報を表わす、一列の凹凸構造からなる。この所定情報は、任意の文字、記号、図柄の何れか、または、これらの組み合わせ情報とすることができる。凹凸構造形成方法もサブミクロン加工(1μm以下のパターン加工)が可能な微細加工方法のいずれをも採用することができる。
図3は、回折格子Aを上から見た図である。
これと同様に、同一所定情報の配列にて、文字高さ・幅が、1.5μm×1.5μm(周期3.0μmの回折格子となる)、及び1.8μm×1.8μm(周期3.6μmの回折格子となる)の回折格子線群を形成し、それぞれを図4の3つのエリア(B1、B2、B3)に配置して円形の回折格子体Bの原盤を作成できる。
透明基材として、厚みを薄くすることが可能であって、機械的強度や、回折格子又はホログラムシート、ラベル、及び転写シートを製造する際の加工に耐える耐溶剤性および耐熱性を有するものを使用する。使用目的にもよるので、限定されるものではないが、フィルム状もしくはシート状のプラスチックが好ましい。
透明基材の厚さは、同様の配慮から、5〜50μm、特に5〜15μmとすることが望ましい。転写シートを形成する際、透明基材1に、通常用いられる酢酸セルロース樹脂やメタクリル樹脂等からなる剥離層を設けても良い。
この場合、複製方式は、平板式もしくは、回転式を用い、線圧0.1トン/m〜10トン/m、複製温度は、通常60℃〜200℃とすることが好適である。
反射性薄膜としては、真空薄膜法などにより形成される金属薄膜などの金属光沢反射層、又は透明反射層のいずれでもよいが、金属光沢反射層を部分的に設けたり、透明反射層を設けた場合は、その反射層に接して設けたセキュリティ対象物をこの透明反射層を通して確認できるので好ましい。
回折格子又はホログラムをラベル形態で使用する場合は、上記反射層の上に粘着剤層を形成し、粘着剤面を剥離紙で被覆して、基材フィルムを剥離紙と一緒に所定の大きさに打ち抜いてラベルとし、剥離紙を剥がしてセキュリティ対象物に貼付して使用する。
これらは、素材が透明であるので外部から光学的に所定情報を読み出すことができる。
ただし、この垂直方向の同一性を垂直方向でなく、80度方向、70度方向としても(位置精度を維持した上で)、強い回折強度を得ることができるが、垂直方向が最も回折効率が高く望ましい。
凹凸の深さも、400nm〜4μmまで、なだらかな曲線状でも階段状でもよいが、所定情報一つ一つの凹凸形状で想定される回折強度が高いものが望ましく、複数の所定情報の凹凸形状で想定される回折強度さらには、回折格子線群としての回折強度が高いものがさらに望ましい。
この所定情報は、目視や簡易顕微鏡では判別できないため、真正性を確認するためには
倍率の高い精密顕微鏡を用いてその情報を読み出し、「正規な情報」(所定情報を実際に物理的形状として形成した時の、真正であると判定するための情報。所定情報そのものだけでなく、形状等の情報を含めても良い。また、所定情報でなく、その形状を測定したデータ等や、部分的に変形した情報等を用いても良い。)か否かを判定する必要がある。
所定情報の「正規な情報」をデータで残す方法として、高解像度のレーザー顕微鏡による3次元形状情報を取得しておき、このデータと、鑑定のために測定した「真正性を確認するもの」のデータを照合し、「50%以上の一致」あるいは照合項目によっては「100%の一致」等のある程度の一致をもって「真正」と判断する方法を使用することも好適である。
もちろん、回折格子線群毎に、所定情報を変更してもよいが、この場合は、所定情報毎の回折効率を考慮した配置とする必要がある。
凹凸構造形成方法としては、上記した電子線リソグラフィー、X線リソグラフィー等の高精度なパターンを形成することができるリソグラフィー法のみならず、金属薄膜形成法等の高精度な均一膜厚さを形成することができる各種薄膜形成方法とそのパターン化方法を組み合わせる方法等を用いることができる。
もちろん、これより解像度の高い顕微鏡、例えば、共焦点レーザー顕微鏡 、電子顕微鏡
透過型電子顕微鏡 、走査型電子顕微鏡、走査型プローブ顕微鏡 、原子間力顕微鏡、走査型トンネル顕微鏡 、走査型近接場光顕微鏡 、X線顕微鏡等、物理的に測定が可能なように対応できる範囲で利用できる。さらに、共焦点法や、位相シフト干渉法等の解像度を向上する手法も利用できる。これらの顕微鏡映像を高解像度CCDカメラ等を用いた画像処理方法により、画像を精密につなぎ合わせて、広範囲のエリアに対する情報とすることもできる。
この場合、注目した部分を全て同一のものとせず、少し変形(太さを2倍としたり、欠陥を付加したりする。)しておき、それらの情報を、「真正性」判定用に使用することができる。すなわち、「真正性」判定に使用する情報は、セキュリティ管理をする側が定めることができ(その任意性がさらに偽造防止性を高める。)、偽造者からは到底類推できないものとすることが可能となる。
1本の回折格子線に沿って「HHHHHHH・・」と形成されている。この回折格子線と平行に複数形成されている回折格子線群は、端から端までこの回折格子線とまったく同一の立体形状をしており、且つ、上記した垂直な方向にみると、全格子線上の文字が同一位置に位置するように配置されている。
回折格子線のa−a断面の形状を図6に、b−b断面の形状を図7示す。いずれも矩形状になっている。
文字の高さ・幅は、1.2μm×0.7μm(周期2.4μmの回折格子となる。)であり、これは、電子線リソグラフィーにより形成できる。電子線レジストの厚さを0.8μmとし、電子線を十分にあて、現像処理後、電子線をあてた部分の電子線レジストがすべて除かれ、あてていない部分の電子線レジストがほぼ残存する形となり、矩形とすることができた。
回折格子Cは、回折格子線に垂直な方向での周期性だけでなく、回折格子線に平行な方向にも周期性を有するため、回折光が十字方向へ回折し(1次回折光が4方向へ向かって回折する。)、その対角方向にも回折光が存在する(2次回折光。4方向あり。)ため、回折光が各方向へ分散し、一方向のみの回折効率測定値は、あまり大きくなっていない。
隠し文字としての「HHH・・」は、目視ではもちろんのこと、簡易顕微鏡(倍率200倍、400倍)で判読しようとしたが、文字・記号まで読み取ることは出来なかったものの、類推はできた。これも、“H”の単純さに因るところが大きく、他の文字、記号により改善可能である。
図1の例(回折格子A)において、文字の高さ・幅を、120nm×120nm(周期240nmの回折格子となる)とし、電子線リソグラフィーにより形成する。電子線レジストの厚さを0.3μmとし、電子線強度を線対称に分布させ、現像処理時間を抑えることで、凹凸が連続的に変化するレリーフ原盤を形成することができる。
図3は、回折格子Aを上から見た図である。
これと同様に、同一所定情報の配列にて、文字高さ・幅が、150nm×150nm(周期300nmの回折格子となる)、及び180nm×180nm(周期360nmの回折格子となる)の回折格子線群を形成し、それぞれを図4の3つのエリア(B1、B2、B3)に配置して円形の回折格子体B(上記例とは、凹凸周期が異なる)の原盤を作成できる。
また、回折格子Cも同様に作製したところ、回折効率は、7%と高い回折効率を得た。
電子線レジストを0.8μm形成したパターン形成基盤に、予め用意した制御データにより、電子ビームの強度を変化させながら所定の回折格子パターンに沿って電子ビームを照射した。まず、1.2μm幅の線上に、所定情報「A○C○E○G○I○・・○Y」、及びその繰り返し」を各文字サイズが、1.2μm×1.2μmとなるように、続いて、その回折格子線に接して、1.2μm幅の線状に、その電子ビーム強度変化を逆にして同様に「A○C○E○G○H○・・○Y」を同様のサイズで、且つ、そのスタート位置を高精度に合わせて照射した。この照射を、図4の半径20mmの円の一つのエリアにそのエリアが埋まるまで実施した。
さらに、図4の残るエリアを、1.8μm幅の線状に、1.8μm×1.8μmサイズの所定文字をそのエリアが埋まるように照射し、図4の円内の全エリアを埋めた。
この基盤を現像処理して、所望の凹凸レリーフ原盤を得た。
・<電離放射線硬化組成物A>
2−ヒドロキシエチルアクリレート 100重量部
ジブチルチンジラウリレート 0.1重量部
イソシアン酸メチル 50重量部
を反応させて得られた電離放射線硬化組成物Aを用いて、
・<電離放射線硬化組成物B>
電離放射線硬化組成物A 80重量部
ポリウレタン樹脂(デスモコール130、住友バイエルウレタン社製) 20重量部
上記、電離放射線硬化組成物Bを作製し、この電離放射線硬化組成物Bを10μm導入して、フィルムを送り出しながら電子線照射装置「エレクトロカーテン」(アメリカのESI社製)を用い、150KeV、15mAの条件で3Mradの線量を照射して、硬化させた。
この透明樹脂の表面に真空蒸着法によりアルミニウム薄膜100nmを形成し、ホログラムシートとした。このホログラムシートに接着剤を塗工し、パスポートの顔写真を一部覆うように接着した。
このパスポートのホログラム部分をハロゲンランプで照明し、目視で観察すると、円形ホログラムが3色に分かれて鮮明に見えた。さらに、倍率20倍と400倍の顕微鏡で拡大して確認したところ、所定情報を判読することは出来なかった。
電子線レジストを0.3μm形成したパターン形成基盤に、予め用意した制御データにより、電子ビームの強度を変化させながら所定の回折格子パターンに沿って電子ビームを照射した。まず、120nm幅の線上に、所定情報「HHHHHHH・・」を各文字サイズが、120nm×100nmとなるように、続いて、その回折格子線に接して、120nm幅の線状に、全面露光で電子ビームを照射した。この照射を、図4の半径20mmの円の一つのエリアにそのエリアが埋まるまで実施し、実施例1と同様に現像処理した。
さらに、図4の残るエリアを、電子線レジスト厚さを0.3μm、180nm幅の線状に、180nm×100nmサイズの所定文字をそのエリアが埋まるように照射した以外は実施例1と同様とし、図4の円内の全エリアを埋めた。
この基盤を現像処理することにより、非画線部のレジストを完全に除去し、この位置を凹凸の凹部底面とし、画線部を凸部上面として、所望の矩形状レリーフ原盤を得た。
このパスポートのホログラム部分を複数の紫外線光源で照明し、紫外線カメラで観察すると、円形ホログラムが3部分に分かれて鮮明に見えた。さらに、倍率20倍と400倍の顕微鏡で拡大して確認したところ、所定情報を判読することは出来なかった。
電子線レジストを0.4μm形成したパターン形成基盤に、予め用意した制御データにより、電子ビームの強度を変化させながら所定の回折格子パターンに沿って電子ビームを照射した。まず、1.2μm幅の線上に、所定情報「HHH・・」、文字サイズが、1.2μm×1.2μmとなるように、続いて、その回折格子線に接して、1.2μm幅の線状に照射した。この照射を、図4の半径20mmの円の一つのエリアにそのエリアが埋まるまで実施した。
さらに、図4の残るエリアを、1.8μm幅の線状に、1.8μm×1.8μmサイズの所定文字をそのエリアが埋まるように照射し、図4の円内の全エリアを埋めた。
この基盤を電子線照射部が全て除去され、その部分の基盤面が露出するまで現像処理して、矩形状の凹凸レリーフ原盤を得た。
以下、実施例1と同様とし、それぞれ回折効率として、7%、8%、8%を得た。
実施例3の所定情報として、「HHH・・」としたが、その文字のサイズを、文字高さ、文字幅とも0.3μm〜6.0μmの間でランダムに選択したサイズとしたことと、図4の円形エリアを全てこの条件で埋めた意外は、すべて実施例3と同様として、比較例を得た。
このパスポートのホログラム部分を赤外線光源で照明し、赤外対応カメラで観察すると、円形ホログラムが3パターンに分かれておらず、少し虹色を呈しているだけであった。さらに、倍率20倍と400倍の顕微鏡で拡大して確認したところ、ところどころ所定情報を判読することができた。
別途、このホログラムの回折効率を各赤外線光源を用いて測定したところ、2〜3%と低い回折効率を得た。これは、光が種々の方向へ回折しており、一方向へ集中していないためと推察された。
赤外線光源:モリテックス者製赤外ハロゲン光源 MHAB−100W−IR
同上 :トキー社製テクノライトKTX−IR
赤外対応カメラ:モリテックス社製MC−781P0030
紫外線光源:浜松ホトニクス社製UV−LED光源
紫外対応カメラ:同社製C8484−16C
目視判定基準 :○ 再生画像が鮮やかにムラなく見える。隠し情報は見えない。
:× 隠し情報は見えないが、再生画像が判別できない。
回折効率測定:光源:上記各光源
:回折効率:反射光強度/入射光強度*100(%)
:判定基準:◎:回折効率が高い 回折効率 5%以上
:×:回折効率が低い 〃 5%未満
B 回折格子体
B1、B2、B3 各回折格子線群
Claims (1)
- 赤外光波長の2倍の長さの周期または、400nm以下の周期のレリーフ形状を有する回折格子または、その回折格子で構成されるホログラムであって、
前記回折格子を構成するそれぞれの回折格子線が、所定の文字、記号、図柄の何れか、または、何れかの組み合わせ情報(以下所定情報という)を表示する一列の凹凸構造からなり、かつ、前記回折格子線の並びに垂直な方向での断面が周期性を有する回折格子線群のレリーフ形状を構成するとともに、前記断面の形状が周期性を備え、
前記所定情報を表す凸部と凹部とが一周期内の中心点を対称点とする点対称性を有することを特徴とする回折格子又はホログラム。
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