JP5411357B2 - 圧延銅箔 - Google Patents
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- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 124
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 title claims description 105
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 claims description 45
- 238000005097 cold rolling Methods 0.000 claims description 41
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 29
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 19
- 238000001887 electron backscatter diffraction Methods 0.000 claims description 14
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 10
- 238000000137 annealing Methods 0.000 claims description 9
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 claims description 6
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims description 5
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 19
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 19
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 description 13
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 9
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 8
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 8
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 7
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 6
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 5
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 238000011161 development Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 238000000879 optical micrograph Methods 0.000 description 4
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 4
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 238000005098 hot rolling Methods 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000010731 rolling oil Substances 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000012787 coverlay film Substances 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000002003 electron diffraction Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010191 image analysis Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B21—MECHANICAL METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL; PUNCHING METAL
- B21B—ROLLING OF METAL
- B21B3/00—Rolling materials of special alloys so far as the composition of the alloy requires or permits special rolling methods or sequences ; Rolling of aluminium, copper, zinc or other non-ferrous metals
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B21—MECHANICAL METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL; PUNCHING METAL
- B21B—ROLLING OF METAL
- B21B1/00—Metal-rolling methods or mills for making semi-finished products of solid or profiled cross-section; Sequence of operations in milling trains; Layout of rolling-mill plant, e.g. grouping of stands; Succession of passes or of sectional pass alternations
- B21B1/40—Metal-rolling methods or mills for making semi-finished products of solid or profiled cross-section; Sequence of operations in milling trains; Layout of rolling-mill plant, e.g. grouping of stands; Succession of passes or of sectional pass alternations for rolling foils which present special problems, e.g. because of thinness
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C9/00—Alloys based on copper
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C9/00—Alloys based on copper
- C22C9/02—Alloys based on copper with tin as the next major constituent
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22F—CHANGING THE PHYSICAL STRUCTURE OF NON-FERROUS METALS AND NON-FERROUS ALLOYS
- C22F1/00—Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22F—CHANGING THE PHYSICAL STRUCTURE OF NON-FERROUS METALS AND NON-FERROUS ALLOYS
- C22F1/00—Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working
- C22F1/08—Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working of copper or alloys based thereon
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/09—Use of materials for the conductive, e.g. metallic pattern
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B21—MECHANICAL METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL; PUNCHING METAL
- B21B—ROLLING OF METAL
- B21B3/00—Rolling materials of special alloys so far as the composition of the alloy requires or permits special rolling methods or sequences ; Rolling of aluminium, copper, zinc or other non-ferrous metals
- B21B2003/005—Copper or its alloys
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/03—Conductive materials
- H05K2201/0332—Structure of the conductor
- H05K2201/0335—Layered conductors or foils
- H05K2201/0355—Metal foils
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Mechanical Engineering (AREA)
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
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Description
ところで、銅箔を用いてFPCを製造する際、カバーレイフィルムとの密着性を向上させるために銅箔表面をエッチングすると、表面に直径数10μm程度のくぼみ(ディッシュダウン)が発生することがある。この原因は、再結晶焼鈍後に立方体組織が発達するように結晶方位が(200)面に制御されると、均一な組織の中に結晶方位の異なる結晶粒が単独で存在することによると考えられる。そして、エッチングされる結晶面によってエッチング速度が異なるため、この単独結晶粒が周囲よりも深くエッチングされて、くぼみとなる。このくぼみは、回路のエッチング性を低下させたり、外観検査で不良と判定され歩留まりを低下させたりする原因となる。
一方、銅箔の製造時のロールとの密着性を確保したり、銅箔製品の取り扱いを容易にするため、最終冷間圧延でのロール粗度を大きくして銅箔表面を粗くすることが行われているが、銅箔表面を粗くすると、銅箔表面の結晶の配向度が低下して屈曲性が劣ったり、ディッシュダウンが生じやすいことが判明した。
すなわち、本発明は上記の課題を解決するためになされたものであり、銅箔表面を適度に粗くして取り扱い性を向上し、さらに屈曲性に優れるとともに、表面エッチング特性が良好な圧延銅箔の提供を目的とする。
上記の目的を達成するために、本発明の圧延銅箔は、圧延平行方向に測定した表面のJIS-Z8741に従った60度光沢度G60RDが100以上300以下で、200℃で30分間加熱して再結晶組織に調質した状態において、圧延面のX線回折で求めた(200)面の強度(I)が、微粉末銅のX線回折で求めた(200)面の強度(I0)に対し、I/I0≧50であり、銅箔表面で圧延平行方向に長さ175μmで、かつ圧延直角方向にそれぞれ50μm以上離間する3本の直線上で、オイルピットの最大深さに相当する各直線の厚み方向の最大高さと最小高さの差の平均値dと、前記銅箔の厚みtとの比率d/tが0.1以下であり、圧延平行方向に測定した表面の60度光沢度G60 RDと、圧延直角方向に測定した表面のJIS-Z8741に従った60度光沢度G60 TDとの比率G60 RD /G60 TDが0.8未満である。
鋳塊を熱間圧延後、冷間圧延と焼鈍とを繰り返し、最後に最終冷間圧延を行って製造され、当該最終冷間圧延工程において、最終パスの1パス前の段階で圧延平行方向に測定した表面の60度光沢度G60 RDが300を超えることが好ましい。
一方、銅箔の屈曲性を得るために光沢度(表面粗さ)を高める手法が従来から知られている。これは、粗度の低いロールで最終冷間圧延することで、銅箔の厚み方向にせん断変形帯が生じ難くなるためと考えられる。但し、銅箔の光沢度を高くする(表面粗さを小さくする)と、銅箔の取り扱い性が低下する(図1の従来例2)。
つまり、従来、銅箔の配向性は単に銅箔表面の粗さに依存すると考えられてきたが、実際には材料内部のせん断変形帯の規模が配向度(及びディッシュダウン)に影響することが分かった。そして、最終冷間圧延において、最終パス以前のパスでせん断帯の発達を充分に抑制できれば、最終パスで銅箔表面を粗く仕上げても、高い配向性を得ることが出来る。
まず、図2(a)の「本発明例」の場合、圧延平行方向RDに沿って光沢度G RDを測定すると、オイルピットで反射光の向きが変わって検出されず、光沢度は低くなる。一方、圧延直角方向TDに沿って光沢度G TDを測定した場合、オイルピットがTDに沿って延びていることから、オイルピットで反射光の向きが横に(RD方向に)ずれるものの検出され、光沢度は高くなる。つまり、G RDに比べてG TDが相対的に高くなり、後述する60度光沢度を測定すると、G60 RD /G60 TD<0.8の関係を満たす。
(1)光沢度G60RD
圧延平行方向RDに測定した表面の60°光沢度G60 RDを100以上300以下とする。G60 RDが300を超えると、銅箔表面が平滑になり過ぎて銅箔の製造時のロールとの密着性が低下したり、銅箔製品の取り扱いに難がある。一方、G60 RDが100未満になると、銅箔表面が粗くなり過ぎ、材料内部でせん断変形帯が発達して銅箔表面の結晶の配向度が低下し、屈曲性が劣ったり、ディッシュダウンが生じやすくなる。
上記したように、最終冷間圧延の最終パスの手前では銅箔の表面をあまり粗くせず、最終冷間圧延の最終パスで銅箔の表面を粗くすることで、最終的な銅箔の表面を粗くしつつ、せん断変形帯を少なくし、屈曲性を向上させ、ディッシュダウンが少なくなる。そして、このようなせん断変形帯が少ない表面は、G60 RD /G60 TD<0.8となることが本発明者らの実験(後述する実施例)によって明らかとなった。従って、圧延平行方向に測定した表面の60°光沢度G60 RDと、圧延直角方向に測定した表面の60°光沢度G60 TDとの比率G60 RD /G60 TDを0.8未満に規定する。なお、比を採用したのは、全体の光沢度の影響を相殺させるためである。
G60 RD /G60 TD≧0.8となると、上記した図2(b)のように銅箔表面が平滑になり過ぎ、銅箔の製造時のロールとの密着性が低下したり、銅箔製品の取り扱いに難がある。又、上記した図2(c)のようにG60 RD /G60 TD>1となると、銅箔表面が粗くなり過ぎ、せん断変形帯が発達して屈曲性が低下したり、ディッシュダウンが生じ易くなる。
ここで、最終冷間圧延において、最終パスの1パス前の段階で圧延平行方向に測定した表面の光沢度G60 RDが300を超えるようにすると、最終冷間圧延の最終パス以前のパスでは銅箔表面が比較的平滑となり、せん断変形帯が導入され難くなるので好ましい。
銅箔の厚みtが薄くなると、同じ表面粗さであっても銅箔厚みに占める表面凹凸の割合が大きくなるため、上記したG60 RD /G60 TDによる銅箔表面の評価が十分に行えないことがある。そこで本発明では、d/t≦0.1に規定することで、銅箔の厚みによらず銅箔表面の評価が行える。
ここで、dは、図3に示すように銅箔表面で圧延平行方向RDに長さ175μmで、かつ圧延直角方向TDにそれぞれ50μm以上離間する3本の直線L1〜L3上で、オイルピットの最大深さに相当する各直線L1〜L3の厚み方向の最大高さHMと最小高さHSの差diの平均値である。具体的には、接触式粗さで、L1〜L3上の厚み方向のプロファイルを測定して最大高さHMと最小高さHSを求め、各直線L1〜L3のdiを平均すればよい。
銅箔(又は銅合金箔)の厚みは特に制限されないが、例えば5〜50μmのものを好適に用いることができる。
200℃で30分間加熱して再結晶組織に調質した状態において、圧延面のX線回折で求めた(200)面の強度(I)を、微粉末銅のX線回折で求めた(200)面の強度(I0)に対し、I/I0≧50に規定する。これにより、屈曲性に優れた(200)面の配向度が高まる。I/I0<50になると、屈曲性が低下する。上記200℃30分の焼鈍は、CCL製造工程において銅箔に付与される温度履歴を模したものである。
200℃で30分間加熱して再結晶組織に調質した状態において、銅箔表面を電解研磨後にEBSDで観察した場合に、[100]方位からの角度差が15度以上の結晶粒の面積率が20%以下であることが好ましい。上記200℃30分の焼鈍は、CCL製造工程において銅箔に付与される温度履歴を模したものである。なお、すでに熱履歴を受けてCCLとなった銅箔についても、200℃で30分間加熱してよい。一度再結晶するまで熱処理された銅箔の組織は、それ以上加熱してもほぼ変化しないため、EBSDでの観察においては、熱履歴を受けた銅箔と受けない銅箔を区別せず、200℃で30分間加熱することとしている。
EBSDで観察した場合に上記面積率が20%未満であれば、銅箔表面の結晶粒同士の方位差が小さく、均一な組織の中に結晶方位の異なる結晶粒が単独で存在する割合が少なくなるので、エッチングによるくぼみ(ディッシュダウン)が低減する。なお、EBSDで観察した場合に上記面積率を20%未満とするには、上記したように最終冷間圧延において、最終パス以前のパスでせん断帯の発達を抑制する、つまり最終冷間圧延の最終パス以前のパスで粗さ(表面粗さRaが例えば0.05μm以下)が比較的小さいロールを用いて圧延すればよい。
銅箔としては、純度99.9wt%以上のタフピッチ銅、無酸素銅を用いることができ、又、要求される強度や導電性に応じて公知の銅合金を用いることができる。無酸素銅はJIS-H3510(合金番号C1011)、JIS-H3100(合金番号C1020)に規格され、タフピッチ銅はJIS-H3100(合金番号C1100)に規格されている。
公知の銅合金としては、例えば、0.01〜0.3wt%の錫入り銅合金(より好ましくは0.001〜0.02wt%の錫入り銅合金);0.01〜0.05wt%の銀入り銅合金;0.005〜0.02wt%のインジウム入り銅合金;0.005〜0.02wt%のクロム入り銅合金;錫、銀、インジウム、及びクロムの群から選ばれる一種以上を合計で0.05wt%以下含む銅合金等が挙げられ、中でも、導電性に優れたものとしてCu-0.02wt%Agがよく用いられる。
ここで、上記したように、最終冷間圧延の最終パスの手前では銅箔の表面をあまり粗くせず、最終冷間圧延の最終パスで銅箔の表面を粗くすることで、最終的な銅箔の表面を粗くしつつ、せん断変形帯を少なくし、屈曲性を向上させ、ディッシュダウンが少なくなる。そして、このようなせん断変形帯が少ない表面は、G60 RD /G60 TD<0.8となる。
なお、最終的な銅箔の表面を粗くしつつ、せん断変形帯を少なくするためには、最終冷間圧延の最終2パス、又は最終パスで、上記したように粗いロールを用いたり粘度の高い圧延油を用いて圧延することが必要であるが、調整し易いことから最終パスでの圧延条件を調整することが好ましい。一方、最終冷間圧延の最終3パス以前からロールの粗さを粗くすると、せん断変形帯が発達する。
なお、最終冷間圧延は10〜15パスで行い、表1に示すように、最終パスの手前までのロールの表面粗さ、及び最終パスのロールの表面粗さを変えて圧延を行った。最終パスの1パス目から最終パスの手前までのロールの表面粗さはすべて同じである。
なお、表1の組成の欄の「0.02%Ag添加TPC」は、JIS-H3100(合金番号C1100)のタフピッチ銅(TPC)に0.02質量%のAgを添加したこと意味する。また、表1の組成の欄の「0.007%Sn添加OFC」はJIS-H3100(合金番号C1020)の無酸素銅(OFC)に0.007質量%のSnを添加したことを意味する。但し、実施例6のみ無酸素銅としてJIS-H3510(合金番号C1011)に規格されている無酸素銅(OFC)を用い、実施例4、5、7、9、10、比較例7は無酸素銅としてJIS-H3100(合金番号C1020)に規格されている無酸素銅(OFC)を用いた。
(1)光沢度
圧延平行方向RD、及び圧延直角方向TDにそれぞれ沿って銅箔表面の光沢度G60 RD、G60 TDをJIS-Z8741に従って測定した。
(2)立方体集合組織
試料を200℃で30分間加熱した後、圧延面のX線回折で求めた(200)面強度の積分値(I)を求めた。この値をあらかじめ測定しておいた微粉末銅(325mesh,水素気流中で300℃で1時間加熱してから使用)の(200)面強度の積分値(I0 )で割り、I/I0 値を計算した。
接触式粗さ計(小坂研究所製 SE-3400)を用い、図3に示すようにして、銅箔表面で圧延平行方向RDに長さ175μmで、かつ圧延直角方向TDにそれぞれ50μm以上離間する3本の直線L1〜L3上の最大高さHMと最小高さHSの差diをそれぞれ求めた。各直線L1〜L3のdiを平均してdとした。なお、d(mm)/t(mm)とした。
(4)EBSDによる方位差
(2)で200℃で30分間加熱した後の試料表面を電解研磨後にEBSD(後方散乱電子線回析装置、日本電子株式会社JXA8500F、加速電圧20kV、電流2e-8A、測定範囲1000μm×1000μm、ステップ幅5μm)で観察した。[100]方位からの角度差が15度以上の結晶粒の面積率を画像解析で求めた。さらに、試料表面1mm四方の観察範囲内で結晶粒径が20μmを超えるものの個数を目視で数えた。そして、この観察範囲を含む試料について、アデカテックCL-8(株式会社アデカ製)20%溶液を用いて常温で2分間エッチングを行い、エッチング後の表面を光学顕微鏡で撮影した画像を明暗二値化し、短径50μmを越える暗部をディッシュダウンとして数えた。なお、エッチング後の銅箔表面は結晶方位を反映した形状となり、[100]方位を持った組織は銅箔表面に平行な面となるのに対し、その他の結晶方位を持った部分は結晶方位に起因する凹凸ができる。従って、ディッシュダウンの部分は光学顕微鏡で暗く見えることになる。
なお、図4は実施例1の光学顕微鏡像を示し、図5は比較例3の光学顕微鏡像を示す。又、図6は実施例1のEBSD測定結果を示し、図7は比較例1のEBSD測定結果を示す。図6、図7において、灰色や黒色の領域が[100]方位からの角度差が15度以上の結晶粒を示す。
各試料の表面を目視し、圧延方向に10mm以上の長さをもつ傷が、5箇所/m2以上ある場合を×とした。
(6)屈曲性
試料を200℃で30分間加熱して再結晶させた後、図4に示す屈曲試験装置により、屈曲疲労寿命の測定を行った。この装置は、発振駆動体4に振動伝達部材3を結合した構造になっており、被試験銅箔1は、矢印で示したねじ2の部分と3の先端部の計4点で装置に固定される。振動部3が上下に駆動すると、銅箔1の中間部は、所定の曲率半径rでヘアピン状に屈曲される。本試験では、以下の条件下で屈曲を繰り返した時の破断までの回数を求めた。
なお、板厚が0.012mmである場合、試験条件は次の通りである:試験片幅:12.7mm、試験片長さ:200mm、試験片採取方向:試験片の長さ方向が圧延方向と平行になるように採取、曲率半径r:2.5mm、振動ストローク:25mm、振動速度:1500回/分。なお、屈曲疲労寿命が3万回以上の場合に、優れた屈曲性を有していると判断した。
また、それぞれ板厚が0.018mm、0.006mmである場合、板厚が0.012mmの場合の屈曲試験と曲げ歪が同じとなるよう、曲率半径rをそれぞれ4mm、1.3mmに変更したが、他の試験条件は同一とした。
最終冷間圧延で、最終パスの手前までのロールの表面粗さをRa=0.06μm以上に粗くし、最終パスのロールの表面粗さをRa=0.05μm以下とした比較例2の場合、上記面積率が20%を超えてディッシュダウンの個数が増えた。又、銅箔表面のG60RDが300を超え、銅箔表面に傷が付いて取り扱い性に劣った。
なお、比較例3、4の場合、最終冷間圧延のすべてのパスのロール表面粗さを粗くしたため、材料内部でせん断変形帯が発達して銅箔表面の結晶の配向度が低下し、I/I0<50となった。一方、比較例6の場合、最終パスの手前までのロールの粗さを比較例3、4より平滑としたため、光沢度及びI/I0は比較例3、4よりも高い値となったが、やはりせん断帯の抑制が不十分となり、上記面積率が20%を超えてディッシュダウンの個数が増えた。なお、最終パスの手前までのロール粗さを0.07μmとしたままで、せん断帯を抑制するためには、通板速度を下げるなどの方法があるが、その場合は光沢度が300を超えてしまい、表面傷判定が×になると考えられる。
Claims (3)
- 圧延平行方向に測定した表面のJIS-Z8741に従った60度光沢度G60RDが100以上300以下で、200℃で30分間加熱して再結晶組織に調質した状態において、圧延面のX線回折で求めた(200)面の強度(I)が、微粉末銅のX線回折で求めた(200)面の強度(I0)に対し、I/I0≧50であり、
銅箔表面で圧延平行方向に長さ175μmで、かつ圧延直角方向にそれぞれ50μm以上離間する3本の直線上で、オイルピットの最大深さに相当する各直線の厚み方向の最大高さと最小高さの差の平均値dと、前記銅箔の厚みtとの比率d/tが0.1以下であり、
圧延平行方向に測定した表面の60度光沢度G60 RDと、圧延直角方向に測定した表面のJIS-Z8741に従った60度光沢度G60 TDとの比率G60 RD /G60 TDが0.8未満である圧延銅箔。 - 前記200℃×30分熱処理後の銅箔表面を電解研磨後にEBSDで観察した場合に、[100]方位からの角度差が15度以上の結晶粒の面積率が20%以下である、請求項1記載の圧延銅箔。
- 鋳塊を熱間圧延後、冷間圧延と焼鈍とを繰り返し、最後に最終冷間圧延を行って製造され、当該最終冷間圧延工程において、最終パスの1パス前の段階で圧延平行方向に測定した表面の60度光沢度G60 RDが300を超える、請求項1又は2記載の圧延銅箔。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012516404A JP5411357B2 (ja) | 2010-09-28 | 2011-09-26 | 圧延銅箔 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010217233 | 2010-09-28 | ||
JP2010217233 | 2010-09-28 | ||
PCT/JP2011/071862 WO2012043462A1 (ja) | 2010-09-28 | 2011-09-26 | 圧延銅箔 |
JP2012516404A JP5411357B2 (ja) | 2010-09-28 | 2011-09-26 | 圧延銅箔 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2012043462A1 JPWO2012043462A1 (ja) | 2014-02-06 |
JP5411357B2 true JP5411357B2 (ja) | 2014-02-12 |
Family
ID=45892907
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012516404A Active JP5411357B2 (ja) | 2010-09-28 | 2011-09-26 | 圧延銅箔 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5411357B2 (ja) |
KR (1) | KR101387301B1 (ja) |
CN (1) | CN103118812B (ja) |
TW (1) | TWI424888B (ja) |
WO (1) | WO2012043462A1 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5261595B1 (ja) * | 2012-06-29 | 2013-08-14 | Jx日鉱日石金属株式会社 | 圧延銅箔及びその製造方法、並びに、積層板 |
JP5298225B1 (ja) * | 2012-06-29 | 2013-09-25 | Jx日鉱日石金属株式会社 | 圧延銅箔及びその製造方法、並びに、積層板 |
JP5918075B2 (ja) * | 2012-08-16 | 2016-05-18 | Jx金属株式会社 | グラフェン製造用圧延銅箔、及びグラフェンの製造方法 |
WO2015029211A1 (ja) * | 2013-08-30 | 2015-03-05 | 古河電気工業株式会社 | 光半導体装置用リードフレーム用の基体とその製造方法、これを用いた光半導体装置用リードフレームとその製造方法、および光半導体装置 |
KR101942621B1 (ko) * | 2015-02-06 | 2019-01-25 | 제이엑스금속주식회사 | 캐리어 부착 동박, 적층체, 프린트 배선판, 전자 기기 및 프린트 배선판의 제조 방법 |
JP6634184B1 (ja) * | 2019-09-30 | 2020-01-22 | 株式会社フジクラ | フレキシブルプリント配線板及びその製造方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11286760A (ja) * | 1998-03-31 | 1999-10-19 | Nippon Mining & Metals Co Ltd | 圧延銅箔およびその製造方法 |
JP2001058203A (ja) * | 1999-08-19 | 2001-03-06 | Nippon Mining & Metals Co Ltd | 屈曲性に優れた圧延銅箔 |
JP2006307288A (ja) * | 2005-04-28 | 2006-11-09 | Nikko Kinzoku Kk | 銅張積層基板用低光沢圧延銅箔 |
JP2009292090A (ja) * | 2008-06-06 | 2009-12-17 | Nippon Mining & Metals Co Ltd | 屈曲性に優れた二層フレキシブル銅貼積層板およびその製造方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4522972B2 (ja) * | 2005-04-28 | 2010-08-11 | 日鉱金属株式会社 | 銅張積層基板用高光沢圧延銅箔 |
JP2007268596A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Nikko Kinzoku Kk | 粗化処理用銅合金箔 |
CN101293256A (zh) * | 2007-04-27 | 2008-10-29 | 来庆德 | 镀银窄铜箔带轧制工艺 |
JP4955106B2 (ja) * | 2008-12-26 | 2012-06-20 | Jx日鉱日石金属株式会社 | 電子回路用の圧延銅箔又は電解銅箔及びこれらを用いた電子回路の形成方法 |
-
2011
- 2011-09-26 JP JP2012516404A patent/JP5411357B2/ja active Active
- 2011-09-26 WO PCT/JP2011/071862 patent/WO2012043462A1/ja active Application Filing
- 2011-09-26 CN CN201180046620.3A patent/CN103118812B/zh active Active
- 2011-09-26 KR KR1020137000917A patent/KR101387301B1/ko active IP Right Grant
- 2011-09-27 TW TW100134930A patent/TWI424888B/zh active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11286760A (ja) * | 1998-03-31 | 1999-10-19 | Nippon Mining & Metals Co Ltd | 圧延銅箔およびその製造方法 |
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JP2006307288A (ja) * | 2005-04-28 | 2006-11-09 | Nikko Kinzoku Kk | 銅張積層基板用低光沢圧延銅箔 |
JP2009292090A (ja) * | 2008-06-06 | 2009-12-17 | Nippon Mining & Metals Co Ltd | 屈曲性に優れた二層フレキシブル銅貼積層板およびその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20130020834A (ko) | 2013-02-28 |
JPWO2012043462A1 (ja) | 2014-02-06 |
TW201231179A (en) | 2012-08-01 |
CN103118812A (zh) | 2013-05-22 |
CN103118812B (zh) | 2015-05-13 |
WO2012043462A1 (ja) | 2012-04-05 |
KR101387301B1 (ko) | 2014-04-18 |
TWI424888B (zh) | 2014-02-01 |
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---|---|---|---|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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