JP5411295B2 - モノシラン工程を使用した多結晶ケイ素生成用反応基 - Google Patents
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- モノシラン工程を使用して多結晶ケイ素を生成するための反応器(10)であって、該反応器は、ベースプレートに形成されたケイ素含有ガスが通って流れる多数のノズル(4)を有する反応器のベースプレート(2)と、該反応器のベースプレート(2)上に同じように取り付けられた複数のフィラメントロッド(6)と、使用済みのモノシランを濃縮および/または処理ステージに供給するための、該ノズルからある距離を置いているガスの出口開口(8)とを有し、該ガスの出口開口(8)が内部管(20)の自由終端(21)に形成されており、そして該内部管(20)が該反応器のベースプレート(2)を通って導入されており、そして該内部管(20)が外壁(20a)および内壁(20i)を有し、それ故に少なくとも1つの冷却水回路(71)が導入されている中間スペースを形成していることを特徴とする、反応器。
- 該内部管(20)が、該反応器のベースプレート(2)の中心(3)に位置し、そして多数のノズル(4)および該フィラメントロッド(6)のためのホルダーが、該反応器のベースプレート(2)中で該内部管(20)を取り囲んでいることを特徴とする、請求項1に記載の反応器(10)。
- 該内部管(20)の該中間スペース中に形成された該少なくとも1つの冷却水回路(71)が、該フィラメントロッド(6)でのほぼ等しい工程温度を確かにすることを特徴とする、請求項1に記載の反応器。
- 該内部管(20)が、二重壁になるように構成されていることを特徴とする、請求項3に記載の反応器。
- 該反応器(10)および該反応器のベースプレート(2)が、内壁(9i)および外壁(9a)の二重壁ジャケットとして構成されており、そして冷却のための水が該二重壁のジャケット中に位置していることを特徴とする、請求項1および4のいずれか一項に記載の反応器。
- 該反応器のベースプレート(2)は、第1の領域(18)および第2の領域(19)を含み、該第1の領域(18)が板(31)と中間板(32)とから形成されており、そして該板(31)は該反応器(10)の内部に面しており、該中間板(32)は該ノズル(4)を有し、そして該第2の領域(19)が、該中間板(32)および該フィラメント(6)のための供給接続(24、26)を有する底板(33)によって形成されていることを特徴とする、請求項5に記載の反応器。
- 冷却水が、該第1の領域(18)中に導入されていることを特徴とする、請求項6に記載の反応器。
- 未使用のモノシランが該第2の領域(19)中に導入され、該未使用のモノシランが該反応器のベースプレート(2)中の該多数のノズル(4)を通って該反応器(10)中に入ることを特徴とする、請求項6に記載の反応器。
- 該フィラメント(6)のための該供給接続(24、26)が、高電圧接続および冷却水接続であることを特徴とする、請求項6に記載の反応器。
- 該フィラメント(6)が、グラファイトアダプター(16)中に位置し、該グラファイトアダプター(16)が、グラファイトをクランプするリング(14)中に係合し、該グラファイトをクランプするリング(14)それ自身が、石英リング(12)を介して該板(31)と接触していることを特徴とする、請求項6〜9のいずれか一項に記載の反応器。
- 該内部管(20)が、該第1の領域(18)および該第2の領域(19)を密閉する該底板(33)上のポット(40)中に位置しており、該内部管(20)のためのホルダー(42)が該ポット(40)中に導入されており、放射状のシール(41)が該ポット(40)、該ホルダー(42)、および該反応器を相互に離間して密封していることを特徴とする、請求項1〜10のいずれか一項に記載の反応器。
- 使用済みのモノシランのための放出ライン(45)が、該内部管(20)から該ホルダー(42)および該ポット(40)を通って導入され、放出ラインが、該反応器のベースプレート(2)より下に、使用済みのモノシランを放出することを特徴とする、請求項11に記載の反応器。
- 該中間スペース中に、第1の冷却水回路(71)および第2の冷却水回路(72)が形成されており、そして該中間スペース中に該冷却水の通路(70)が開口(67)から溝形の開口(68)へ形成されるような様式で、それぞれの冷却水回路(71、72)がパーティション(65)によってさらに分割されていることを特徴とする、請求項1〜12のいずれか一項に記載の反応器。
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