JP5410062B2 - タイヤ用サイドウォールゴム組成物およびそれを用いたタイヤ - Google Patents

Description

本発明は、タイヤ回転時に発生するヒステリシスロスを低減するタイヤ用サイドウォールゴム組成物およびそれを用いたタイヤに関する。

近年、あらゆる分野において省エネルギー化が重要視されるなか、自動車用タイヤにおいても例外ではなく、車の省燃費化によるＣＯ₂排出量削減に貢献し得る省燃費タイヤであることが強く望まれている。こうした省燃費タイヤを実現するには、タイヤの転がり抵抗を低減する必要があり、そのためにはタイヤに用いるゴム組成物を低ヒステリシスロス化することが極めて効果的である。

このようなタイヤにおける種々の部位のなかでも、特にサイドウォール部は過酷な使用条件にさらされることから、該サイドウォール部に用いられるゴム組成物（サイドウォールゴム組成物）を低ヒステリシスロス化するのが省燃費タイヤを実現する上で最も有効な手段である。

従来より、ゴム組成物を低ヒステリシスロス化するために、カーボンブラックなどの充填剤を低充填化する手法が広く採用されているが、該手法では未加硫ゴムの収縮性が大きくなるために形状安定性が低下したり、加工性が悪化したりする問題が生じるおそれがある。

こうしたなか、特許文献１には、天然ゴム、合成ポリイソプレンゴム等のゴム成分に特定のカーボンブラックを配合した、タイヤのサイドウォール部にも採用し得るゴム組成物が開示されている。該組成物は比較的低グレードのカーボンブラックを低配合量で用いるものであり、低弾性化、低発熱化を実現するとともに良好な加工性をも発揮し得るものである。

特開平５−５１４９０号公報

しかしながら、このようにカーボンブラックなどの充填剤の配合量を低減したり、あるいは低グレードのカーボンブラックを用いたりすると、低発熱性の向上効果は得られるものの、サイドウォールゴム組成物として採用した場合には、耐摩耗性、特に耐縁石こすれ性（縁石等の擦れに対する耐摩耗性）が低下するおそれがある。また、タイヤ加工時におけるゴムの収縮性が増大して、性状が安定しない等のタイヤ性能不足が引き起こされる可能性もある。

そこで、本発明は、過酷な使用条件を課されるタイヤのサイドウォール部に採用した場合に、良好な耐久性を保持しつつ、低ヒステリシスロス化を実現して転がり抵抗を有効に低減できるタイヤ用サイドウォールゴム組成物を提供することを目的としている。

本発明者は、上記課題を解決すべく、特定の方法により製造された重合体とカーボンブラックとを配合したタイヤ用サイドウォールゴム組成物を見出し、本発明を完成させるに至った。

すなわち、本発明のタイヤ用サイドウォールゴム組成物は、ブタジエン系重合体が、
（Ａ）成分：周期律表の原子番号５７〜７１の希土類元素含有物、またはこれらの化合物とルイス塩基との反応物
を含む触媒系の存在下、少なくとも１，３−ブタジエンを含む単量体を重合することにより製造されてなり、該ブタジエン系重合体が複素環式ニトリル化合物で変性されてなる変性ブタジエン系重合体を含むゴム成分に、カーボンブラックを配合してなることを特徴とする。

前記触媒系は、さらに
（Ｂ）成分：ルイス酸、金属ハロゲン化物とルイス塩基との錯化合物、および活性ハロゲンを含む有機化合物の少なくとも１種
を含んでいてもよく、さらに
（Ｃ）成分：ＡｌＲ¹Ｒ²Ｒ³（式中、Ｒ¹およびＲ²は同一であっても異なっていてもよく、炭素数１〜１０の炭化水素基または水素原子、Ｒ³は炭素数１〜１０の炭化水素基であり、ただし、Ｒ³は上記Ｒ¹またはＲ²と同一であっても異なっていてもよい。）で表される有機アルミニウム化合物、および／または
（Ｄ）成分：アルミノキサン
を含んでいてもよい。

前記ゴム成分１００質量％中、前記変性ブタジエン系重合体が１０質量％以上の量で含まれるのが望ましい。
また、前記ゴム成分１００質量部に対し、前記カーボンブラックを３０〜１００質量部の量で配合してなるのが望ましい。

また、前記ゴム成分中、天然ゴムを含むのが望ましい。
さらに、前記タイヤ用サイドウォールゴム組成物は、さらに老化防止剤を配合してもよい。
本発明のタイヤは、上記タイヤ用サイドウォールゴム組成物を用いたことを特徴とする。

本発明のタイヤ用サイドウォールゴム組成物によれば、優れた低ヒステリシスロス化を発揮するとともに、良好な加工性および耐摩耗性を実現できる。
したがって、該ゴム組成物をサイドウォール部に用いた本発明のタイヤは、転がり抵抗を有効に低減することができ、省燃費に大きく貢献し得る。

本発明のタイヤ用サイドウォールゴム組成物は、ブタジエン系重合体が、
（Ａ）成分：周期律表の原子番号５７〜７１の希土類元素含有物、またはこれらの化合物とルイス塩基との反応物
を含む触媒系の存在下、少なくとも１，３−ブタジエンを含む単量体を重合することにより製造されてなり、該ブタジエン系重合体が変性されてなる変性ブタジエン系重合体を含むゴム成分に、カーボンブラックを配合してなることを特徴としている。

[ブタジエン系重合体の製造における触媒系]
上記触媒系の（Ａ）成分は、周期律表の原子番号５７〜７１の希土類元素を含有する化合物、またはこれらの化合物とルイス塩基との反応物である。ここで、原子番号５７〜７１の希土類元素の中でも、ネオジム、プラセオジウム、セリウム、ランタン、ガドリニウム等、またはこれらの混合物が好ましく、ネオジムが特に好ましい。

上記希土類元素含有化合物としては、炭化水素溶媒に可溶な塩または錯体が好ましく、具体的には、上記希土類元素のカルボン酸塩、アルコキサイド、β−ジケトン錯体、リン酸塩および亜リン酸塩が挙げられ、これらの中でも、カルボン酸塩およびリン酸塩が好ましく、カルボン酸塩が特に好ましい。

ここで、炭化水素溶媒としては、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の炭素数４〜１０の飽和脂肪族炭化水素、シクロペンタン、シクロヘキサン等の炭素数５〜２０の飽和脂環式炭化水素、１−ブテン、２−ブテン等のモノオレフィン類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、塩化メチレン、クロロホルム、トリクロロエチレン、パークロロエチレン、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン、ブロモベンゼン、クロロトルエン等のハロゲン化炭化水素が挙げられる。

上記希土類元素のカルボン酸塩としては、下記一般式（Ｉ）：
（Ｒ⁴−ＣＯ₂）₃Ｍ・・・（Ｉ）
（式中、Ｒ⁴は炭素数１〜２０の炭化水素基で、Ｍは周期律表の原子番号５７〜７１の希土類元素である）で表される化合物が挙げられる。ここで、Ｒ⁴は、飽和または不飽和でもよく、アルキル基およびアルケニル基が好ましく、直鎖状、分岐状および環状のいずれでもよい。また、カルボキシル基は、１級、２級または３級の炭素原子に結合している。該カルボン酸塩として、具体的には、オクタン酸、２−エチルヘキサン酸、オレイン酸、ネオデカン酸、ステアリン酸、安息香酸、ナフテン酸、バーサチック酸［シェル化学（株）製の商品名であって、カルボキシル基が３級炭素原子に結合しているカルボン酸］等の塩が挙げられ、これらの中でも、２−エチルヘキサン酸、ネオデカン酸、ナフテン酸、バーサチック酸の塩が好ましい。

上記希土類元素のアルコキサイドとしては、下記一般式（II）：
（Ｒ⁵Ｏ）₃Ｍ・・・（II）
（式中、Ｒ⁵は炭素数１〜２０の炭化水素基で、Ｍは周期律表の原子番号５７〜７１の希土類元素である）で表される化合物が挙げられる。Ｒ⁵Ｏで表されるアルコキシ基としては、２−エチル−ヘキシルオキシ基、オレイルオキシ基、ステアリルオキシ基、フェノキシ基、ベンジルオキシ基等が挙げられる。これらの中でも、２−エチル−ヘキシルオキシ基、ベンジルオキシ基が好ましい。

上記希土類元素のβ−ジケトン錯体としては、上記希土類元素のアセチルアセトン錯体、ベンゾイルアセトン錯体、プロピオニトリルアセトン錯体、バレリルアセトン錯体、エチルアセチルアセトン錯体等が挙げられる。これらの中でも、アセチルアセトン錯体、エチルアセチルアセトン錯体が好ましい。

上記希土類元素のリン酸塩および亜リン酸塩としては、上記希土類元素と、リン酸ビス（２−エチルヘキシル）、リン酸ビス（１−メチルヘプチル）、リン酸ビス（ｐ−ノニルフェニル）、リン酸ビス（ポリエチレングリコール−ｐ−ノニルフェニル）、リン酸（１−メチルヘプチル）（２−エチルヘキシル）、リン酸（２−エチルヘキシル）（ｐ−ノニルフェニル）、２−エチルヘキシルホスホン酸モノ−２−エチルヘキシル、２−エチルヘキシルホスホン酸モノ−ｐ−ノニルフェニル、ビス（２−エチルヘキシル）ホスフィン酸、ビス（１−メチルヘプチル）ホスフィン酸、ビス（ｐ−ノニルフェニル）ホスフィン酸、（１−メチルヘプチル）（２−エチルヘキシル）ホスフィン酸、（２−エチルヘキシル）（ｐ−ノニルフェニル）ホスフィン酸等との塩が挙げられ、これらの中でも、上記希土類元素と、リン酸ビス（２−エチルヘキシル）、リン酸ビス（１−メチルヘプチル）、２−エチルヘキシルホスホン酸モノ−２−エチルヘキシル、ビス（２−エチルヘキシル）ホスフィン酸との塩が好ましい。

上記希土類元素含有化合物の中でも、ネオジムのリン酸塩、およびネオジムのカルボン酸塩がさらに好ましく、特にネオジムの２−エチルヘキサン酸塩、ネオジムのネオデカン酸塩、ネオジムのバーサチック酸塩等のネオジムの分岐カルボン酸塩が最も好ましい。

また、（Ａ）成分は、上記希土類元素含有化合物とルイス塩基との反応物でもよい。該反応物は、ルイス塩基によって、希土類元素含有化合物の溶剤への溶解性が向上しており、また、長期間安定に貯蔵することができる。上記希土類元素含有化合物を溶剤に容易に可溶化させるため、また、長期間安定に貯蔵するために用いられるルイス塩基は、希土類元素１モル当り０〜３０モル、好ましくは１〜１０モルの割合で、両者の混合物として、または予め両者を反応させた生成物として用いられる。ここで、ルイス塩基としては、アセチルアセトン、テトラヒドロフラン、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、チオフェン、ジフェニルエーテル、トリエチルアミン、有機リン化合物、１価または２価のアルコールが挙げられる。

以上に述べた（Ａ）成分としての希土類元素含有化合物またはこれらの化合物とルイス塩基との反応物は、一種単独で使用することも、二種以上を混合して用いることもできる。

本発明では、さらに上記触媒系として、
（Ｂ）成分：ルイス酸、金属ハロゲン化物とルイス塩基との錯化合物、および活性ハロゲンを含む有機化合物の少なくとも１種
を含んでもよい。

上記ルイス酸は、ルイス酸性を有し、炭化水素に可溶である。具体的には、二臭化メチルアルミニウム、二塩化メチルアルミニウム、二臭化エチルアルミニウム、二塩化エチルアルミニウム、二臭化ブチルアルミニウム、二塩化ブチルアルミニウム、臭化ジメチルアルミニウム、塩化ジメチルアルミニウム、臭化ジエチルアルミニウム、塩化ジエチルアルミニウム、臭化ジブチルアルミニウム、塩化ジブチルアルミニウム、セスキ臭化メチルアルミニウム、セスキ塩化メチルアルミニウム、セスキ臭化エチルアルミニウム、セスキ塩化エチルアルミニウム、二塩化ジブチルスズ、三臭化アルミニウム、三塩化アンチモン、五塩化アンチモン、三塩化リン、五塩化リン、四塩化スズ、四塩化ケイ素等が例示できる。これらの中でも、塩化ジエチルアルミニウム、セスキ塩化エチルアルミニウム、二塩化エチルアルミニウム、臭化ジエチルアルミニウム、セスキ臭化エチルアルミニウム、および二臭化エチルアルミニウムが好ましい。
また、トリエチルアルミニウムと臭素の反応生成物のようなアルキルアルミニウムとハロゲンの反応生成物を用いることもできる。

上記金属ハロゲン化物とルイス塩基との錯化合物を構成する金属ハロゲン化物としては、塩化ベリリウム、臭化ベリリウム、ヨウ化ベリリウム、塩化マグネシウム、臭化マグネシウム、ヨウ化マグネシウム、塩化カルシウム、臭化カルシウム、ヨウ化カルシウム、塩化バリウム、臭化バリウム、ヨウ化バリウム、塩化亜鉛、臭化亜鉛、ヨウ化亜鉛、塩化カドミウム、臭化カドミウム、ヨウ化カドミウム、塩化水銀、臭化水銀、ヨウ化水銀、塩化マンガン、臭化マンガン、ヨウ化マンガン、塩化レニウム、臭化レニウム、ヨウ化レニウム、塩化銅、ヨウ化銅、塩化銀、臭化銀、ヨウ化銀、塩化金、ヨウ化金、臭化金等が挙げられ、これらの中でも、塩化マグネシウム、塩化カルシウム、塩化バリウム、塩化マンガン、塩化亜鉛、塩化銅が好ましく、塩化マグネシウム、塩化マンガン、塩化亜鉛、塩化銅が特に好ましい。

また、上記金属ハロゲン化物とルイス塩基との錯化合物を構成するルイス塩基としては、リン化合物、カルボニル化合物、窒素化合物、エーテル化合物、アルコール等が好ましい。具体的には、リン酸トリブチル、リン酸トリ−２−エチルヘキシル、リン酸トリフェニル、リン酸トリクレジル、トリエチルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、ジエチルホスフィノエタン、ジフェニルホスフィノエタン、アセチルアセトン、ベンゾイルアセトン、プロピオニトリルアセトン、バレリルアセトン、エチルアセチルアセトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸フェニル、マロン酸ジメチル、マロン酸ジエチル、マロン酸ジフェニル、酢酸、オクタン酸、２−エチル−ヘキサン酸、オレイン酸、ステアリン酸、安息香酸、ナフテン酸、バーサチック酸、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、テトラヒドロフラン、ジフェニルエーテル、２−エチル−ヘキシルアルコール、オレイルアルコール、ステアリルアルコール、フェノール、ベンジルアルコール、１−デカノール、ラウリルアルコール等が挙げられ、これらの中でも、リン酸トリ−２−エチルヘキシル、リン酸トリクレジル、アセチルアセトン、２−エチルヘキサン酸、バーサチック酸、２−エチルヘキシルアルコール、１−デカノール、ラウリルアルコールが好ましい。

上記ルイス塩基は、上記金属ハロゲン化物１モル当り、通常０．０１〜３０モル、好ましくは０．５〜１０モルの割合で反応させる。このルイス塩基との反応物を使用すると、ポリマー中に残存する金属を低減することができる。
上記活性ハロゲンを含む有機化合物としては、ベンジルクロライド等が挙げられる。

また、本発明では、さらに上記触媒系として、
（Ｃ）成分：ＡｌＲ¹Ｒ²Ｒ³（式中、Ｒ¹およびＲ²は同一であっても異なっていてもよく、炭素数１〜１０の炭化水素基または水素原子、Ｒ³は炭素数１〜１０の炭化水素基であり、ただし、Ｒ³は上記Ｒ¹またはＲ²と同一であっても異なっていてもよい。）で表される有機アルミニウム化合物、および／または
（Ｄ）成分：アルミノキサン
を含んでもよい。

上記触媒系の（Ｃ）成分であるＡｌＲ¹Ｒ²Ｒ³で表される有機アルミニウム化合物としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリ−ｎ−プロピルアルミニウム、トリイソプロピルアルミニウム、トリ−ｎ−ブチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリ−ｔ−ブチルアルミニウム、トリペンチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム、トリシクロヘキシルアルミニウム、トリオクチルアルミニウム；水素化ジエチルアルミニウム、水素化ジ−ｎ−プロピルアルミニウム、水素化ジ−ｎ−ブチルアルミニウム、水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化ジヘキシルアルミニウム、水素化ジイソヘキシルアルミニウム、水素化ジオクチルアルミニウム、水素化ジイソオクチルアルミニウム；エチルアルミニウムジハイドライド、ｎ−プロピルアルミニウムジハイドライド、イソブチルアルミニウムジハイドライド等が挙げられ、これらの中でも、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、水素化ジエチルアルミニウム、水素化ジイソブチルアルミニウムが好ましい。以上に述べた（Ｃ）成分としての有機アルミニウム化合物は、一種単独で使用することも、二種以上を混合して用いることもできる。

上記触媒系の（Ｄ）成分であるアルミノキサンとは、有機アルミノキサン化合物を意味し、メチルアルミノキサン、エチルアルミノキサン、プロピルアルミノキサン、ブチルアルミノキサン、クロロアルミノキサン等が挙げられる。（Ｄ）成分としてアルミノキサンを加えることで、分子量分布がシャープになり、触媒としての活性も向上する。

本発明で使用する触媒系の各成分の量又は組成比は、その目的又は必要性に応じて適宜選択される。このうち、（Ａ）成分は、１，３−ブタジエン １００ｇに対し、０．００００１〜１．０ミリモル用いるのが好ましく、０．０００１〜０．５ミリモル用いるのがさらに好ましい。（Ａ）成分の使用量が０．００００１ミリモル未満では、重合活性が低くなり、１．０ミリモルを超えると、触媒濃度が高くなり、脱灰工程が必要となる。

また、（Ａ）成分と（Ｂ）成分中のハロゲンの割合は、モル比で、通常１：０．１〜１：３０、好ましくは１：０．２〜１：１５、さらに好ましくは１：２．０〜１：５．０である。さらに、（Ａ）成分と（Ｃ）成分の割合は、モル比で、（Ａ）成分：（Ｃ）成分が通常１：１〜１：７００、好ましくは１：３〜１：５００である。また、（Ｄ）成分中のアルミニウムと（Ａ）成分との割合は、モル比で、通常１：１〜７００：１、好ましくは３：１〜５００：１である。これらの触媒量または構成成分比の範囲内にすることで、高活性な触媒として作用し、また、触媒残渣を除去する工程の必要性がなくなるため好ましい。なお、上記の（Ａ）〜（Ｄ）成分を全て含むのが好ましい。
上記の（Ａ）〜（Ｄ）成分以外に、重合体の分子量を調節する目的で、水素ガスを共存させて重合反応を行ってもよい。

触媒成分として、上記の（Ａ）成分、必要により用いられる（Ｂ）成分、（Ｃ）成分および／または（Ｄ）成分以外に、必要に応じて、１，３−ブタジエン等の共役ジエン化合物を少量、具体的には、（Ａ）成分の化合物１モル当り０〜１０００モルの割合で用いてもよい。触媒成分としての１，３−ブタジエン等の共役ジエン化合物は必須ではないが、これを併用すると、触媒活性が一段と向上する利点がある。

上記触媒の製造は、例えば、溶媒に（Ａ）成分、必要に応じて（Ｂ）成分、（Ｃ）成分を溶解させ、または（Ｄ）成分を添加し、さらに必要に応じて、１，３−ブタジエン等の共役ジエン化合物を反応させる。その際、各成分の添加順序は、特に限定されない。

重合活性の向上、重合開始誘導期間の短縮の観点からは、これら各成分を、予め混合して、反応させ、熟成させることが好ましい。ここで、熟成温度は、０〜１００℃程度であり、２０〜８０℃が好ましい。０℃未満では、充分に熟成が行われにくく、１００℃を超えると、触媒活性の低下や、分子量分布の広がりが起こる場合がある。また、熟成時間は、特に制限なく、重合反応槽に添加する前にライン中で接触させることでも熟成でき、通常は、０．５分以上あれば充分であり、数日間は安定である。

上記ブタジエン系重合体の製造においては、上記希土類元素含有化合物を含む触媒系を用いて有機溶媒中で、ブタジエン系単量体の溶液重合を行うことが好ましい。ここで、重合溶媒としては、不活性の有機溶媒を用いる。不活性の有機溶媒としては、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の炭素数４〜１０の飽和脂肪族炭化水素、シクロペンタン、シクロヘキサン等の炭素数５〜２０の飽和脂環式炭化水素、１−ブテン、２−ブテン等のモノオレフィン類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、トリクロロエチレン、パークロロエチレン、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン、ブロモベンゼン、クロロトルエン等のハロゲン化炭化水素が挙げられる。これらの中でも、炭素数５〜６の脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素が特に好ましい。これらの溶媒は、１種単独で使用してもよく、２種以上を混合して使用してもよい。また、溶液中の単量体の濃度は、好ましくは５〜５０質量％、より好ましくは１０〜３０％である。

本発明において、ブタジエン系重合体の重合反応における温度は、好ましくは−８０〜１５０℃、より好ましくは−２０〜１２０℃の範囲で選定される。重合反応は、発生圧力下で行うことができるが、通常は単量体を実質的に液相に保つに充分な圧力で操作することが望ましい。すなわち、圧力は重合される個々の物質や、用いる重合触媒および重合温度にもよるが、所望ならばより高い圧力を用いることができ、このような圧力は重合反応に関して不活性なガスで反応器を加圧する等の適当な方法で得られる。

これらの重合においては、重合開始剤、溶媒、単量体等、重合に関与する全ての原材料は、水、酸素、二酸化炭素、プロトン性化合物等の反応阻害物質を除去したものを用いることが望ましい。また、上記ブタジエン系重合体の製造における重合形式は、回分式及び連続式のいずれで行ってもよいが、後述する変性ブタジエン系重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）との比（Ｍｗ／Ｍｎ）を好適な範囲内とするには、回分式であるのが望ましい。

[変性ブタジエン系重合体]
本発明で用いる変性ブタジエン系重合体は、上記製造により得られたブタジエン系重合体を変性してなる重合体であって、比較的高シス含量の変性ブタジエン系重合体である。この変性ブタジエン系重合体には変性基が存在しており、これによってカーボンブラックに対する親和性をより向上させることができ、極めて効果的にカーボンブラックを分散させることが可能となる。これにより、低ヒステリシスロス化を実現できるとともに、比較的高シス含量であることも相まって良好な耐久性をも保持することが可能となる。

変性前の上記ブタジエン系重合体は、ブタジエン単量体と、必要に応じてその他の共重合可能な単量体とを重合してなる重合体であり、このようなブタジエン系重合体としては、１，３−ブタジエン単量体単位が８０〜１００質量％で、１，３−ブタジエンと共重合可能なその他の単量体単位が２０〜０質量％であるのが好ましい。重合体中の１，３−ブタジエン単量体単位含量が８０質量％未満では、後述する変性ブタジエン系重合体全体に対する１，４−シス結合含量が必要以上に低下するおそれがあるため、本発明の効果が発現しにくくなる。なお、本発明で用いるブタジエン系重合体は、１，３−ブタジエン単量体のみからなるのが特に好ましく、すなわち、ポリブタジエンゴム（ＢＲ）であるのが特に好ましい。

ここで、１，３−ブタジエンと共重合可能なその他の単量体としては、例えば、炭素数５〜８の共役ジエン単量体、芳香族ビニル単量体等が挙げられ、これらの中でも、炭素数５〜８の共役ジエン単量体が好ましい。上記炭素数５〜８の共役ジエン単量体としては、２−メチル−１，３−ブタジエン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン、１，３−ペンタジエン、１，３−ヘキサジエン等が挙げられる。上記芳香族ビニル単量体としては、スチレン、ｐ−メチルスチレン、α−メチルスチレン、ビニルナフタレン等が挙げられる。

上記ブタジエン系重合体が変性されてなる変性ブタジエン系重合体は、タイヤ用サイドウォールゴム組成物のゴム成分１００質量％中、１０質量％以上、好ましくは２０〜８０質量％、より好ましくは３０〜７０質量％の量で含まれる。このような含有量とすることにより、後述するカーボンブラックとも相まって、本発明の目的とする効果を充分に発揮することができる。

また、上記変性ブタジエン系重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）との比（Ｍｗ／Ｍｎ）は、好ましくは１．６〜３．５、より好ましくは１．６〜３．０であるのが望ましい。ここで、ＭｎおよびＭｗ／Ｍｎは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によりポリスチレンを標準物質として求められる値を意味する。

[変性剤]
本発明で用いる変性ブタジエン系重合体は、上記ブタジエン系重合体が変性剤により変性されてなるものであるのが望ましく、変性剤としては窒素含有化合物や、ケイ素含有化合物などが挙げられる。なかでも、窒素含有化合物が好適な変性剤である。これら変性剤は１種単独で用いてもよく、２種以上混合して用いてもよい。このような変性剤を用いて変性することにより、さらに優れた低ヒステリシスロス化の実現という観点から、ブタジエン系重合体に好適な変性基を導入することができる。

（ｉ）窒素含有化合物
上記ブタジエン系重合体を変性する変性剤として、窒素含有化合物を用いてもよい。該窒素含有化合物とは、窒素原子を含む化合物を意味し、たとえば、置換若しくは非置換のアミノ基、アミド基、イミノ基、イミダゾール基、ニトリル基またはピリジル基を有する化合物が挙げられる。より具体的には、ジフェニルメタンジイソシアネート、クルードＭＤＩ、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート等のイソシアネート化合物，４-(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、４-(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、４-ジメチルアミノベンジリデンアニリン、４-ジメチルアミノベンジリデンブチルアミン、ヘキサメチレンジアミン、３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、ヘプタメチレンジアミン、ノナメチレンジアミン、ドデカメチレンジアミン、デカメチレンジアミン、１,５-ナフタレンジアミン、１,８-ナフタレンジアミン、１,３-ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、１,４-ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ペンタエチレンヘキサミンジメチルイミダゾリジノン、Ｎ-メチルピロリドン、２−シアノピリジン等が挙げられる。なかでも、アミノ基を有する化合物であるヘキサメチレンジアミン、３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、ヘプタメチレンジアミン、ノナメチレンジアミン、ドデカメチレンジアミン、デカメチレンジアミン、１,５-ナフタレンジアミン、１,８-ナフタレンジアミン、１,３-ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、１,４-ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ペンタエチレンヘキサミン、さらにニトリル基をも有する２−シアノピリジン、３−シアノピリジン、４−シアノピリジンのように、第一級アミン化合物および複素環式ニトリル化合物であるのが好ましい。

これら窒素含有化合物のなかでも、カーボンブラックに対するより好適な親和性を発揮するという観点から、特に複素環式ニトリル化合物が好適である。該複素環式ニトリル化合物で変性された変性ブタジエン系重合体は、より効果的にカーボンブラックと結合してこれを分散させることができ、カーボンブラック同士の擦れによる発熱を抑制して、ヒステリシスロスをより低減することができる。

上記複素環式ニトリル化合物としては、具体的には式（W1）または式（W2）で表される化合物であるのが望ましい。
θ−Ｃ≡Ｎ ・・・（W1）
θ−Ｒ_x−Ｃ≡Ｎ ・・・（W2）
上記式（W1）および（W2）中、θは複素環基を示す。さらにθが窒素原子を含む複素環基、酸素原子を含む複素環基、硫黄原子を含む複素環基、２以上のヘテロ原子を含む複素環基、および１以上のシアノ基を含む複素環基からなる群より選ばれる少なくとも１種の複素環基であるのが好ましい。また、チオフェン、ピリジン、フラン、ピペリジン、ジオキサンなどの複素芳香環基または複素非芳香環基であってもよく、さらに単環式、二環式、三環式、または多環式の複素環基であってもよい。

このようなθとして具体的には、たとえば、窒素原子を含む複素環基として、２−ピリジル、３−ピリジル、４−ピリジル、ピラジニル、２−ピリミジニル、４−ピリミジニル、５−ピリミジニル、３−ピリダジニル、４−ピリダジニル、Ｎ−メチル−２−ピロリル、Ｎ−メチル−３−ピロリル、Ｎ−メチル−２−イミダゾリル、Ｎ−メチル−４−イミダゾリル、Ｎ−メチル−５−イミダゾリル、Ｎ−メチル−３−ピラゾリル、Ｎ−メチル−４−ピラゾリル、Ｎ−メチル−５−ピラゾリル、Ｎ−メチル−１，２，３−トリアゾール−４−イル、Ｎ−メチル−１，２，３−トリアゾール−５−イル、Ｎ−メチル−１，２，４−トリアゾール−３−イル、Ｎ−メチル−１，２，４−トリアゾール−５−イル、１，２，４−トリアジン−３−イル、１，２，４−トリアジン−５−イル、１，２，４−トリアジン−６−イル、１，３，５−トリアジニル、Ｎ−メチル−２−ピロリン−２−イル、Ｎ−メチル−２−ピロリン−３−イル、Ｎ−メチル−２−ピロリン−４−イル、Ｎ−メチル−２−ピロリン−５−イル、Ｎ−メチル−３−ピロリン−２−イル、Ｎ−メチル−３−ピロリン−３−イル、Ｎ−メチル−２−イミダゾリン−２−イル、Ｎ−メチル−２−イミダゾリン−４−イル、Ｎ−メチル−２−イミダゾリン−５−イル、Ｎ−メチル−２−ピラゾリン−３−イル、Ｎ−メチル−２−ピラゾリン−４−イル、Ｎ−メチル−２−ピラゾリン−５−イル、２−キノリル、３−キノリル、４−キノリル、１−イソキノリル、３−イソキノリル、４−イソキノリル、Ｎ−メチルインドール−２−イル、Ｎ−メチルインドール−３−イル、Ｎ−メチルイソインドール−１−イル、Ｎ−メチルイソインドール−３−イル、１−インドリジニル、２−インドリジニル、３−インドリジニル、１−フタラジニル、２−キナゾリニル、４−キナゾリニル、２−キノキサリニル、３−シンノリニル、４−シンノリニル、１−メチルインダゾール−３−イン、１，５−ナフチリジン−２−イル、１，５−ナフチリジン−３−イル、１，５−ナフチリジン−４−イル、１，８−ナフチリジン−２−イル、１，８−ナフチリジン−３−イル、１，８−ナフチリジン−４−イル、２−プテリジニル、４−プテリジニル、６−プテリジニル、７−プテリジニル、１−メチルベンズイミダゾール−２−イル、６−フェナンスリジニル、Ｎ−メチル−２−プリニル、Ｎ−メチル−６−プリニル、Ｎ−メチル−８−プリニル、Ｎ−メチル−β−カルボリン−１−イル、Ｎ−メチル−β−カルボリン−３−イル、Ｎ−メチル−β−カルボリン−４−イル、９−アクリジニル、１，７−フェナントロリン−２−イル、１，７−フェナントロリン−３−イル、１，７−フェナントロリン−４−イル、１，１０−フェナントロリン−２−イル、１，１０−フェナントロリン−３−イル、１，１０−フェナントロリン−４−イル、４，７−フェナントロリン−１−イル、４，７−フェナントロリン−２−イル、４，７−フェナントロリン−３−イル、１−フェナジニル、２−フェナジニル、ピロリジノ、ピペリジノが挙げられる。

酸素原子を含む複素環基として、２−フリル、３−フリル、２−ベンゾ[ｂ]フリル、３−ベンゾ[ｂ]フリル、１−イソベンゾ[ｂ]フリル、３−イソベンゾ[ｂ]フリル、２−ナフト[２，３−ｂ]フリル、３−ナフト[２，３−ｂ]フリルが挙げられる。

硫黄原子を含む複素環基として、２−チエニル、３−チエニル、２−ベンゾ[ｂ]チエニル、３−ベンゾ[ｂ]チエニル、１−イソベンゾ[ｂ]チエニル、３−イソベンゾ[ｂ]チエニル、２−ナフト[２，３−ｂ]チエニル、３−ナフト[２，３−ｂ]チエニルが挙げられる。

２以上のヘテロ原子を含む複素環基として、２−オキサゾリル、４−オキサゾリル、５−オキサゾリル、３−イソオキサゾリル、４−イソオキサゾリル、５−イソオキサゾリル、２−チアゾリル、４−チアゾリル、５−チアゾリル、３−イソチアゾリル、４−イソチアゾリル、５−イソチアゾリル、１，２，３−オキサジアゾール−４−イル、１，２，３−オキサジアゾール−５−イル、１，３，４−オキサジアゾール−２−イル、１，２，３−チアジアゾール−４−イル、１，２，３−チアジアゾール−５−イル、１，３，４−チアジアゾール−２−イル、２−オキサゾリン−２−イル、２−オキサゾリン−４−イル、２−オキサゾリン−５−イル、３−イソオキサゾリニル、４−イソオキサゾリニル、５−イソオキサゾリニル、２−チアゾリン−２−イル、２−チアゾリン−４−イル、２−チアゾリン−５−イル、３−イソチアゾリニル、４−イソチアゾリニル、５−イソチアゾリニル、２−ベンゾチアゾリル、モルホリノが挙げられる。

これらのなかでも、θは窒素原子を含む複素環基であるのが好ましく、特に２−ピリジル、３−ピリジル、４−ピリジルであるのが好ましい。

上記式（W1）および（W2）中、Ｒ_xは２価の炭化水素基を示し、後述する複素環式ニトリル化合物に対応したアルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基などに相当する。

このような複素環式ニトリル化合物としては、具体的には、たとえば、窒素原子を含む複素環基を有する化合物として、２−ピリジンカルボニトリル、３−ピリジンカルボニトリル、４−ピリジンカルボニトリル、ピラジンカルボニトリル、２−ピリミジンカルボニトリル、４−ピリミジンカルボニトリル、５−ピリミジンカルボニトリル、３−ピリダジンカルボニトリル、４−ピリダジンカルボニトリル、Ｎ−メチル−２−ピロールカルボニトリル、Ｎ−メチル−３−ピロールカルボニトリル、Ｎ−メチル−２−イミダゾールカルボニトリル、Ｎ−メチル−４−イミダゾールカルボニトリル、Ｎ−メチル−５−イミダゾールカルボニトリル、Ｎ−メチル−３−ピラゾールカルボニトリル、Ｎ−メチル−４−ピラゾールカルボニトリル、Ｎ−メチル−５−ピラゾールカルボニトリル、Ｎ−メチル−１，２，３−トリアゾール−４−カルボニトリル、Ｎ−メチル−１，２，３−トリアゾール−５−カルボニトリル、Ｎ−メチル−１，２，４−トリアゾール−３−カルボニトリル、Ｎ−メチル−１，２，４−トリアゾール−５−カルボニトリル、１，２，４−トリアジン−３−カルボニトリル、１，２，４−トリアジン−５−カルボニトリル、１，２，４−トリアジン−６−カルボニトリル、１，３，５−トリアジンカルボニトリル、Ｎ−メチル−２−ピロリン−２−カルボニトリル、Ｎ−メチル−２−ピロリン−３−カルボニトリル、Ｎ−メチル−２−ピロリン−４−カルボニトリル、Ｎ−メチル−２−ピロリン−５−カルボニトリル、Ｎ−メチル−３−ピロリン−２−カルボニトリル、Ｎ−メチル−３−ピロリン−３−カルボニトリル、Ｎ−メチル−２−イミダゾリン−２−カルボニトリル、Ｎ−メチル−２−イミダゾリン−４−カルボニトリル、Ｎ−メチル−２−イミダゾリン−５−カルボニトリル、Ｎ−メチル−２−ピラゾリン−３−カルボニトリル、Ｎ−メチル−２−ピラゾリン−４−カルボニトリル、Ｎ−メチル−２−ピラゾリン−５−カルボニトリル、２−キノリンカルボニトリル、３−キノリンカルボニトリル、４−キノリンカルボニトリル、１−イソキノリンカルボニトリル、３−イソキノリンカルボニトリル、４−イソキノリンカルボニトリル、Ｎ−メチルインドール−２−カルボニトリル、Ｎ−メチルインドール−３−カルボニトリル、Ｎ−メチルイソインドール−１−カルボニトリル、Ｎ−メチルイソインドール−３−カルボニトリル、１−インドリジンカルボニトリル、２−インドリジンカルボニトリル、３−インドリジンカルボニトリル、１−フタラジンカルボニトリル、２−キナゾリンカルボニトリル、４−キナゾリンカルボニトリル、２−キノキサリンカルボニトリル、３−シンノリンカルボニトリル、４−シンノリンカルボニトリル、１−メチルインダゾール−３−カルボニトリル、１，５−ナフチリジン−２−カルボニトリル、１，５−ナフチリジン−３−カルボニトリル、１，５−ナフチリジン−４−カルボニトリル、１，８−ナフチリジン−２−カルボニトリル、１，８−ナフチリジン−３−カルボニトリル、１，８−ナフチリジン−４−カルボニトリル、２−プテリジンカルボニトリル、４−プテリジンカルボニトリル、６−プテリジンカルボニトリル、７−プテリジンカルボニトリル、１−メチルベンズイミダゾール−２−カルボニトリル、フェナントリジン−６−カルボニトリル、Ｎ−メチル−２−プリンカルボニトリル、Ｎ−メチル−６−プリンカルボニトリル、Ｎ−メチル−８−プリンカルボニトリル、Ｎ−メチル−β−カルボリン−１−カルボニトリル、Ｎ−メチル−β−カルボリン−３−カルボニトリル、Ｎ−メチル−β−カルボリン−４−カルボニトリル、９−アクリジンカルボニトリル、１，７−フェナントロリン−２−カルボニトリル、１，７−フェナントロリン−３−カルボニトリル、１，７−フェナントロリン−４−カルボニトリル、１，１０−フェナントロリン−２−カルボニトリル、１，１０−フェナントロリン−３−カルボニトリル、１，１０−フェナントロリン−４−カルボニトリル、４，７−フェナントロリン−１−カルボニトリル、４，７−フェナントロリン−２−カルボニトリル、４，７−フェナントロリン−３−カルボニトリル、１−フェナジンカルボニトリル、２−フェナジンカルボニトリル、１−ピロリジンカルボニトリル、１−ピペリジンカルボニトリルが挙げられる。

酸素原子を含む複素環基を有する化合物としては、２−フロニトリル、３−フロニトリル、２−ベンゾ[ｂ]フランカルボニトリル、３−ベンゾ[ｂ]フランカルボニトリル、イソベンゾ[ｂ]フラン−１−カルボニトリル、イソベンゾ[ｂ]フラン−３−カルボニトリル、ナフト[２，３−ｂ]フラン−２−カルボニトリル、ナフト[２，３−ｂ]フラン−３−カルボニトリルが挙げられる。

硫黄原子を含む複素環基を有する化合物として、２−チオフェンカルボニトリル、３−チオフェンカルボニトリル、ベンゾ[ｂ]チオフェン−２−カルボニトリル、ベンゾ[ｂ]チオフェン−３−カルボニトリル、イソベンゾ[ｂ]チオフェン−１−カルボニトリル、イソベンゾ[ｂ]チオフェン−３−カルボニトリル、ナフト[２，３−ｂ]チオフェン−２−カルボニトリル、ナフト[２，３−ｂ]チオフェン−３−カルボニトリルが挙げられる。

２以上のヘテロ原子を含む複素環基を有する化合物として、２−オキサゾールカルボニトリル、４−オキサゾールカルボニトリル、５−オキサゾールカルボニトリル、３−イソオキサゾールカルボニトリル、４−イソオキサゾールカルボニトリル、５−イソオキサゾールカルボニトリル、２−チアゾールカルボニトリル、４−チアゾールカルボニトリル、５−チアゾールカルボニトリル、３−イソチアゾールカルボニトリル、４−イソチアゾールカルボニトリル、５−イソチアゾールカルボニトリル、１，２，３−オキサゾール−４−カルボニトリル、１，２，３−オキサゾール−５−カルボニトリル、１，３，４−オキサゾール−２−カルボニトリル、１，２，３−チアゾール−４−カルボニトリル、１，２，３−チアゾール−５−カルボニトリル、１，３，４−チアゾール−２−カルボニトリル、２−オキサゾリン−２−カルボニトリル、２−オキサゾリン−４−カルボニトリル、２−オキサゾリン−５−カルボニトリル、３−イソオキサゾリンカルボニトリル、４−イソオキサゾリンカルボニトリル、５−イソオキサゾリンカルボニトリル、２−チアゾリン−２−カルボニトリル、２−チアゾリン−４−カルボニトリル、２−チアゾリン−５−カルボニトリル、３−イソチアゾリンカルボニトリル、４−イソチアゾリンカルボニトリル、５−イソチアゾリンカルボニトリル、ベンゾチアゾール−２−カルボニトリル、４−モルホリンカルボニトリルが挙げられる。

２以上のシアノ基を有する化合物として、２，３−ピリジンジカルボニトリル、２，４−ピリジンジカルボニトリル、２，５−ピリジンジカルボニトリル、２，６−ピリジンジカルボニトリル、３，４−ピリジンジカルボニトリル、２，４−ピリミジンジカルボニトリル、２，５−ピリミジンジカルボニトリル、４，５−ピリミジンジカルボニトリル、４，６−ピリミジンジカルボニトリル、２，３−ピラジンジカルボニトリル、２，５−ピラジンジカルボニトリル、２，６−ピラジンジカルボニトリル、２，３−フランジカルボニトリル、２，４−フランジカルボニトリル、２，５−フランジカルボニトリル、２，３−チオフェンジカルボニトリル、２，４−チオフェンジカルボニトリル、２，５−チオフェンジカルボニトリル、Ｎ−メチル−２，３−ピロールジカルボニトリル、Ｎ−メチル−２，４−ピロールジカルボニトリル、Ｎ−メチル−２，５−ピロールジカルボニトリル、１，３，５−トリアジン−２，４−ジカルボニトリル、１，２，４−トリアジン−３，５−ジカルボニトリル、３，２，４−トリアジン−３，６−ジカルボニトリル、２，３，４−ピリジントリカルボニトリル、２，３，５−ピリジントリカルボニトリル、２，３，６−ピリジントリカルボニトリル、２，４，５−ピリジントリカルボニトリル、２，４，６−ピリジントリカルボニトリル、３，４，５−ピリジントリカルボニトリル、２，４，５−ピリミジントリカルボニトリル、２，４，６−ピリミジントリカルボニトリル、４，５，６−ピリミジントリカルボニトリル、ピラジントリカルボニトリル、２，３，４−フラントリカルボニトリル、２，３，５−フラントリカルボニトリル、２，３，４−チオフェントリカルボニトリル、２，３，５−チオフェントリカルボニトリル、Ｎ−メチル−２，３，４−ピロールトリカルボニトリル、Ｎ−メチル−２，３，５−ピロールトリカルボニトリル、１，３，５−トリアジン−２，４，６−トリカルボニトリル、１，２，４−トリアジン−３，５，６−トリカルボニトリルが挙げられる。

これらのなかでも、２−シアノピリジン（２−ピリジンカルボニトリル）、３−シアノピリジン（３−ピリジンカルボニトリル）、４−シアノピリジン（４−ピリジンカルボニトリル）が好適なものとして挙げられる。

上記のようにブタジエン系重合体を複素環式ニトリル化合物で変性する方法としては、重合体と複素環式ニトリル化合物を反応させればよく、たとえば、１，３−ブタジエン単量体を、必要に応じてその他の単量体を加えて触媒または開始剤ともに共役させて重合混合物を得て、これに複素環式ニトリル化合物を添加する方法が挙げられる。また、活性化された重合混合物に複素環式ニトリル化合物を添加してもよく、１，３−ブタジエン単量体を重合させて形成した反応性ポリマーと複素環式ニトリル化合物とを反応させてもよい。さらに、活性化された重合混合物に複素環式ニトリル化合物を添加し、これに官能化剤を添加してもよい。

このようにして得られた重合混合物を冷却し、通常の方法を用いて脱溶媒および乾燥を経ることにより、変性されたブタジエン系重合体を得る。たとえば、ポリマーセメントから回収したポリマーを溶媒に流し込み、次いで得られたポリマーをドラムドライヤー等の乾燥機を用いて乾燥する。このとき、ドラムドライヤーで乾燥したポリマーセメントから直接ポリマーを回収してもよい。得られた乾燥ポリマー中の揮発性物質は１重量％以下となる。

得られる変性されたブタジエン系重合体の構造は、たとえば触媒や開始剤の種類や添加量のように反応性ポリマーを調整するのに用いた条件や、複素環式ニトリル化合物の種類や配合量のように反応性ポリマーと複素環式ニトリル化合物とを反応させるのに用いた条件に左右される。

上記変性されたブタジエン系重合体は、下記式（Ｘ）または（Ｙ）のような構造を有するものと推定される。

式（Ｘ）および（Ｙ）中のＡは水素原子または金属原子を示し、金属原子は上記触媒に起因するものである。Ｂは単結合またはＲ_xを示し、Ｒ_xは上記式（W1）および（W2）と同義である。θは上記式（W1）および（W2）と同義であり、θ’はθから１つの原子が脱離した２価の置換基を示す。ただし、θ’はθが有するヘテロ原子にさらに水素原子などが付加した場合も含む。π₁およびπ₂はともにブタジエン系重合体のポリマー鎖を示す。

そして、上記のような構造を有するブタジエン系重合体が水蒸気等にさらされると、加水分解して下記式（Ｘ’）または（Ｙ’）のようなケトン系構造に変換されるものと考えられる。

式（Ｘ’）および（Ｙ’）中のＢ、θ、およびθ’は、上記式（W1）および（W2）と同義である。π₁およびπ₂はともにブタジエン系重合体のポリマー鎖を示す。

上記変性ブタジエン系重合体がこのような構造をとり得るため、カーボンブラックとの相溶性をより向上させる要因となって、さらに低ヒステリシスロス化を有効に実現できるものと推定される。

[カーボンブラック]
本発明のタイヤ用サイドウォールゴム組成物には、上記変性ブタジエン系重合体のほか、カーボンブラックを配合する。該カーボンブラックの配合量は、ゴム成分１００質量部に対し、好ましくは２０〜１００質量部、より好ましくは３０〜７０質量部の量であるのが望ましい。カーボンブラックの配合量を上記範囲内とすることにより、上記変性ブタジエン系重合体が発揮するカーボンブラックとの親和性をより有効に活用することができ、カーボンブラックを極めて良好に分散させることが可能となる。

上記カーボンブラックとしては、特に制限されないが、窒素吸着比表面積が２０〜１８０ｍ²／ｇの範囲であることが好ましく、２０〜１００ｍ²／ｇの範囲であることがさらに好ましい。窒素吸着比表面積が上記範囲内にあるカーボンブラックは、粒子径が大きく、低ヒステリシスロス化の効果が非常に高い。このようなカーボンブラックとしては、具体的には、ＨＡＦ以下のグレードのものが好ましく、例えば、ＨＡＦ、ＦＦ、ＦＥＦ、ＧＰＦ、ＳＲＦ、ＦＴグレードのものが挙げられるが、耐亀裂成長性向上の観点から、ＨＡＦ、ＦＥＦ、ＧＰＦグレードのものが特に好ましい。

[タイヤ用サイドウォールゴム組成物]
本発明のタイヤ用サイドウォールゴム組成物は、上記変性ブタジエン系重合体を含むゴム成分に、カーボンブラックを配合してなる。

本発明のタイヤ用サイドウォールゴム組成物には、上記変性ブタジエン系重合体以外のゴム成分として、天然ゴムを含むのが望ましい。天然ゴムとしては、特に制限はないが、天然ゴムラテックス中の蛋白質を機械的分離手法により部分脱蛋白処理してなるラテックスから得られたゴムであるのが好ましく、さらに該ゴム中の総窒素含有量が０．１質量％を超えて０．４質量％以下にあるのがより好ましい。このような機械的分離手法により得られる天然ゴムを配合することにより、ヒステリシスロスを増大させるおそれのある天然ゴムラテックス中の不要物を有効に除去することができるので、得られるゴム組成物のヒステリシスロスの抑制をより確実なものとすることができる。

上記機械的分離手法により得られる天然ゴムは、一般の天然ゴム製造工程、すなわちラテックスのタッピング、凝固、洗浄、脱水、乾燥、パッキングの順で行われる工程において、タッピング後凝固前のラテックスを、固形成分中の総窒素含有量が一定範囲となるように、機械的分離手法、好ましくは遠心分離濃縮法により部分脱蛋白処理を行なった後、得られた天然ゴムラテックスを凝固し、乾燥処理することにより得られる。原料となる天然ゴムラテックスは特に限定されず、フィールドラテックスや市販のラテックスなどを用いることができる。

このように、上記天然ゴムラテックスの脱蛋白化は、機械的な遠心分離濃縮法によることが望ましい。他の方法、例えばタンパク質分解酵素を用いた分解処理方法、界面活性剤を用い繰り返し洗浄する方法、酵素と界面活性剤とを併用する方法などにより脱蛋白化を行う場合には、固形ゴム中の蛋白質は減少するが、同時に老化防止作用を有するトコトリエノールなどの有効成分も失われるため、天然ゴム本来の耐老化性が低下するおそれがある。

上記機械的分離手法により得られる天然ゴム中の総窒素含有量は、蛋白質含量の指標となるもので、原料天然ゴムラテックスの遠心分離条件（回転数，時間など）を調整してその含有量をコントロールすることができるが、得られる天然ゴム製品中の総窒素含有量が０．１質量％を超えて０．４質量％以下になるように調整して製造するのが望ましい。前記遠心分離の条件としては、特に制限されるものではないが、例えば７５００回程度の回転数で数回繰り返し行うことが好ましい。総窒素含有量が０．１質量％以下では耐熱老化性が低下する可能性があり、０．４質量％を超えると充分な低発熱性が得られないおそれがある。すなわち、遠心分離濃縮ラテックスにおける固形分中の総窒素含有量を０．１質量％を超えて０．４質量％以下に調整した後、凝固、乾燥して製造することにより、タンパク質は低減し、低発熱性がより向上する。総窒素含有量は、好ましくは０．１質量％を超えて０．３質量％以下、より好ましくは０．１質量％を超えて０．２質量％以下の範囲であるのが望ましい。これにより、上記変性ブタジエン系重合体と相まって、ゴム組成物の低発熱性をより良好に向上させることが可能となる。一方、このような部分脱蛋白の操作条件においては、意外にも、例えばトコトリエノールなどの老防有効成分は殆ど失われないために、耐熱性は従来の天然ゴムとほぼ同レベルで維持することができる。

また、上記機械的分離手法により得られる天然ゴム中の非ゴム成分は、６質量％未満、好ましくは５質量％未満、より好ましくは４質量％未満の量である。なお、非ゴム成分は亀裂発生の原因となり得るものであり、可能な限り除去するのが望ましい。
さらに、上記天然ゴム中の糖類量は、０．４質量％以下、好ましくは０．３質量％以下％の量である。

前記処理ラテックスを凝固して得られたゴム成分は洗浄後、真空乾燥機、エアドライヤー、ドラムドライヤー等の通常の乾燥機を用いて乾燥することにより、本発明で用いるのに好適な天然ゴムとすることができる。

上記天然ゴムは、タイヤ用サイドウォールゴム組成物のゴム成分１００質量％中、好ましくは２０〜９０質量％、より好ましくは３０〜７０質量％の量で含まれるのがよい。このような含有量とすることにより、上記変性ブタジエン系重合体およびカーボンブラックとも相まって、本発明の目的とする効果をより充分に発揮することができる。さらに、上記天然ゴム１００質量％中、上記機械的分離手法により得られる天然ゴムは３０〜１００質量％、好ましくは５０〜１００質量％の量で含まれるのが望ましい。

なお、ゴム成分として、上記天然ゴムのほか、変性ブタジエン系重合体以外の他のジエン系合成ゴムを含んでもよい。このような他のジエン系合成ゴムとしては、例えばスチレン−ブタジエン共重合体（ＳＢＲ）、ポリブタジエン（ＢＲ）、ポリイソプレン（ＩＲ）、ブチルゴム（ＩＩＲ）、エチレン−プロピレン共重合体およびこれらの混合物が挙げられる。また、他のジエン系合成ゴムの一部または全てが多官能型変性剤、例えば四塩化スズのような変性剤を用いることにより分岐構造を有しているジエン系変性ゴムであることがより好ましい。

さらに、本発明のタイヤ用サイドウォールゴム組成物には、老化防止剤を配合するのが望ましい。このような老化防止剤を配合することにより、タイヤ使用環境時におけるオゾンや熱によるゴムの劣化を有効に抑制することができる。

上記老化防止剤としては、たとえば、アミン−ケトン系老化防止剤、芳香族第二級アミン系老化防止剤、モノフェノール系老化防止剤、ビスフェノール系老化防止剤、ポリフェノール系老化防止剤、ベンゾイミダゾール系老化防止剤、ジチオカルバミン酸塩系老化防止剤、チオウレア系老化防止剤、有機チオ酸系老化防止剤、特殊ワックス系老化防止剤等が挙げられ、ノクラック２２４やノクラック２００等のノクラックシリーズ（大内新興化学工業（株）製）、またはサンノックやサンノックＮ等のサンノックシリーズ（大内新興化学工業（株）製）として上市されているものを用いることができる。これらは、１種単独で用いてもよく、２種以上混合して用いてもよい。

これら老化防止剤は、上記ゴム成分１００質量部に対し、通常０．１〜１０質量部、好ましくは０．５〜７質量部の量で配合される。上記上限値を超えると、老化防止剤がブリードするおそれがあるとともにコスト面からも好適ではない。また、上記下限値未満であると、ゴムの劣化抑制などの効果を充分に発揮することができないおそれがある。

本発明のゴム組成物には、その他本発明の目的が損なわれない範囲で、所望により、通常ゴム工業界で用いられる各種薬品、例えば加硫剤、加硫促進剤、プロセス油、スコーチ防止剤、亜鉛華、ステアリン酸等を含有させることができる。そして、上記配合処方により、バンバリーミキサー、ロール、インターナルミキサー等の混練り機を用いて混練りすることによって得られる。

[タイヤ]
本発明のタイヤは、上記タイヤ用サイドウォールゴム組成物を用いたサイドウォールを備え、通常の方法によって製造される。すなわち、上記のように各種薬品を含有させた本発明のタイヤ用サイドウォールゴム組成物が未加硫の段階でサイドウォール部材に加工され、タイヤ成形機上で通常の方法により貼り付け成形され、生タイヤが成形される。この生タイヤを加硫機中で加熱加圧することにより、本発明のタイヤが得られる。

以下、本発明について、実施例に基づき具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
なお、変性ブタジエン系重合体の各物性は、以下の方法に従って測定した。

《ミクロ構造[シス−１，４結合量（％）、１，２−ビニル結合量（％）]》
フーリエ変換赤外分光光度計（ＦＴ／ＩＲ−４１００、日本分光社製）を使用し、赤外法（モレロ法）によって測定した。

《重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）との比（Ｍｗ／Ｍｎ）》
ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（商品名「ＨＬＣ−８１２０ＧＰＣ」、東ソー社製）を使用し、検知器として示差屈折計を用いて、以下の条件で測定し、標準ポリスチレン換算値として算出した。
カラム；商品名「ＧＭＨＨＸＬ」（東ソー社製） ２本
カラム温度；40℃
移動相；テトラヒドロフラン
流速；1.0ml/min
サンプル濃度；10mg/20ml

《ムーニー粘度［ＭＬ₁₊₄(100℃)］》
ＪＩＳ Ｋ６３００に従い、Ｌローターを使用して、予熱１分、ローター作動時間４分、温度１００℃の条件で測定した。

[製造例１：ＢＲ−２（Ｌｉによる変性ブタジエン系重合体）の製造]
乾燥し、窒素置換された８００ミリリットルの耐圧ガラス容器にブタジエンのシクロヘキサン溶液（１６％）をブタジエン単量体５０ｇになるように注入し、これにジテトラヒドロフリルプロパン（０．４４ｍｍｏｌ）を加え、さらにｎ−ブチルリチウム（０．４８ｍｍｏｌ）を加えた後、５０℃で１．５時間重合を行った。重合の添加率はほぼ１００％であった。

この重合系にテトラエトキシシラン（０．４３ｍｍｏｌ）を加えた後、さらに５０℃で３０分間変性反応を行った。その後、重合系に２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール（ＢＨＴ）のイソプロパノール５質量％溶液を加えて反応停止を行い、さらに常法に従い乾燥することによって、ＢＲ−２（Ｌｉによる変性ポリブタジエンゴム）を得た。得られたＢＲ−２の１，２−ビニル結合量は１４％、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．１であった。

[製造例２：ＢＲ−３（二段変性による窒素含有化合物を用いた変性ブタジエン系重合体）の製造]
窒素置換された５Ｌオートクレーブに、窒素雰囲気下、シクロヘキサン２．４ｋｇ、１，３−ブタジエン３００ｇを仕込んだ。該オートクレーブに、触媒成分としてバーサチック酸ネオジム（０．０９ｍｍｏｌ）のシクロヘキサン溶液、メチルアルミノキサン（ＭＡＯ、３．６ｍｍｏｌ）のトルエン溶液、水素化ジイソブチルアルミニウム（ＤＩＢＡＨ、５．５ｍｍｏｌ）およびジエチルアルミニウムクロリド（０．１８ｍｍｏｌ）のトルエン溶液と、１，３−ブタジエン（４．５ｍｍｏｌ）とを４０℃で３０分間反応熟成させて予備調製した触媒組成物を仕込み、６０℃で６０分間重合を行った。１，３−ブタジエンの反応転化率は、ほぼ１００％であった。

さらに重合体溶液を温度６０℃に保ち、ポリメチレンポリフェニルポリイソシアネート（商品名「ＰＡＰＩ＊１３５」，ダウ・ケミカル日本社製）（以下「ｃＭＤＩ」ともいう）（イソシアネート基（ＮＣＯ）換算で４．１６ｍｍｏｌ）のトルエン溶液を添加し、１５分間反応（一次変性反応）させた。続いて、ヘキサメチレンジアミン（以下「ＨＭＤＡ」ともいう）（２．０８ｍｍｏｌ）のトルエン溶液を添加し、１５分間反応（二次変性反応）させた。その後、２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール１．３ｇを含むメタノール溶液に抜き取り、重合停止させた後、スチームストリッピングにより脱溶媒し、１１０℃のロールで乾燥して、ＢＲ−３（変性ブタジエン系重合体）を得た。得られたＢＲ−３のシス−１，４結合量は９６．２％であり、１，２−ビニル結合量は０．５９％、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．３、ムーニー粘度［ＭＬ₁₊₄(100℃)］＝３５であった。

[製造例３：ＢＲ−４（窒素含有化合物を用いた変性ブタジエン系重合体）の製造]
上記ＢＲ−３の製造に従って同様に重合を行った後、さらに重合体溶液を温度６０℃に保持し、２−シアノピリジン４．１６ｍｍｏｌのトルエン溶液を添加して、１５分間反応（一次変性反応）させた。その後、この重合体溶液２００ｇを２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール１．３ｇを含むメタノール溶液に抜き取り、重合停止させた後、スチームストリッピングにより脱溶媒し、１１０℃のロールで乾燥させて、ＢＲ−４（変性ブタジエン系重合体）を得た。得られたＢＲ−４のシス−１，４結合量は９６．１％であり、１，２−ビニル結合量は０．６１％、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．３、ムーニー粘度［ＭＬ₁₊₄(100℃)］＝３５であった。

[製造例４：天然ゴム（ＮＲ−２）の製造]
アンモニア０．４質量％を添加した天然ゴムラテックス（ＣＴ−１）を、ラテックスセパレーターＳＬＰ−３０００（斉藤遠心機工業製）を用いて回転数７５００ｒｐｍで１５分間の遠心分離することにより濃縮した。濃縮したラテックスをさらに回転数７５００ｒｐｍで１５分間の遠心分離した。得られた濃縮ラテックスを固形分として約２０％に希釈した後、蟻酸を添加し一晩放置後、凝固して得られたゴム分を、１１０℃で２１０分の条件で乾燥してＮＲ−２を製造した。得られゴムの総窒素含有量は０．１５質量％であった。なお、総窒素含有量はラテックスを酸凝固し乾燥して得られた固形成分（サンプル）を精秤し、ケルダール法によって総窒素含有量を測定し、固形成分に対する割合（質量％）として求めた。

[製造例５：天然ゴム（ＮＲ−３）の製造]
フィールドラテックスにギ酸を加えることでｐＨを４．７に調整し凝固させた。この固形物をクレーパーで５回処理し、シュレッダーを通してクラム化した。この凝固物の乾燥ゴム含有量を求めた後、乾燥ゴム量換算で６００ｇの凝固物とイソニコチノヒドラジド３．０ｇのエマルジョン溶液を混練機（プレブレーカー）内で室温にて３０ｒｐｍで２分間練りこみ、均一に分散させ、乾燥したＮＲ−３（変性天然ゴム）を得た。また、ＮＲ−３を石油エーテルで抽出し、さらにアセトンとメタノールの２：１混合溶媒で抽出することにより、未反応のヒドラジド化合物の分離を行ったところ、抽出物の分析から未反応のヒドラジド化合物は検出されず、よってＮＲ−３におけるイソニコチノヒドラジドの付加量は天然ゴム原材料中の固形ゴム成分に対して０．５質量％であった。

[製造例６：天然ゴム（ＮＲ−４）の製造]
水１３６ｇにアニオン系界面活性剤［花王（株）製「デモール」、界面活性剤濃度は２．５重量％］２４．７ｍｌ、プロテアーゼ（ノボザイムズ製「アルカラーゼ ２．５Ｌ、タイプＤＸ」）の０．０６ｇを加えて混合し、溶液を調製した。次に、固形分２０重量％の天然ゴムラテックス１０００ｇをウォーターバス中にて４０℃の恒温とし、攪拌しながら、該溶液を滴下し、５時間同温度で攪拌を続け、天然ゴムラテックスを得た。
次いで、酸凝固して得られたゴム分を、１３０℃に設定されたドラムドライヤーを５回通過させ、その後真空乾燥機にて４０℃で８時間乾燥してＮＲ−４を得た。

[比較例１〜２、実施例２〜５、参考例１〜３]
表１に示す配合処方のゴム組成物を調製し、下記の方法に従って各項目の測定を行った。結果を表１に示す。

《ヒステリシスロス（ｔａｎδ）》
上記ゴム組成物を加硫して得られた加硫ゴムに対し、東洋精機(株)製スペクトロメーター（動的粘弾性測定試験機）を用い、周波数５２Ｈｚ、測定温度２５℃、歪み２％でヒステリシスロス（ｔａｎδ）を測定した。比較例１を１００として、指数表示した。指数値が小さい程、低ヒステリシスロスであることを示す。

《加工性（ミル収縮試験）》
ロール温度７０℃の３インチロール上で、ロール間隔２ｍｍにて未加硫ゴムを巻き付け、２分間ロールを回転させた。その後、回転を停止して１分間放置し、６ｃｍの線（ライン）を切り出した。次いで３分間放置し、６ｃｍのラインの収縮度を測定して、比較例１を１００として指数表示した。指数値が大きい程、加工性に優れることを示す。

《耐摩耗性（ＰＩＣＯ摩耗性）》
上記ゴム組成物を加硫して得られた加硫ゴムに対し、ＡＳＴＭ−Ｄ−２２２８に準拠して、室温でＰＩＣＯ（ピコ）摩耗を測定し、比較例１を１００として指数表示した。指数値が大きい程、耐摩耗性に優れることを示す。

《転がり抵抗》
上記ゴム組成物をサイド部として用いたタイヤ（サイズ：１１Ｒ２２．５）に対し、８０ｋｍ／時の走行時のタイヤ接地面に発生する進行方向に対する抵抗（転がり抵抗）を測定し、比較例１の転がり抵抗を１００として指数表示した。指数値が小さい程、転がり抵抗が小さく、結果が良好であることを示す。

※１：日本合成ゴム社製ハイシスブタジエンゴム（未変性ブタジエン系重合体）
※２：製造例１で得られたＬｉによる変性ブタジエン系重合体
※３：ＲＳＳ＃３素練り天然ゴム
※４：Ｎ₂ＳＡ：４３ｍ²／ｇ ＤＢＰ：１２１ｍｌ／ｇ
※５：Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ'−ｐ−フェニレンジアミン、大内新興化学(株)製、ノックラック６Ｃ
※６：Ｎ−シクロヘキシル−２−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、大内新興化学(株)製、ノクセラーＣＺ−Ｇ

表１の結果によれば、本発明に規定する特定の方法により製造されたブタジエン系重合体より得られた変性ブタジエン系重合体を用いた実施例２〜５は、未変性ブタジエン系重合体、または他の方法により得られたブタジエン系重合体より得られた変性ブタジエン系重合体を用いた比較例１〜２に比して、低ヒステリシスロスであり、転がり抵抗を有効に低減しつつ、良好な加工性および耐摩耗性を発揮することがわかる。このことは、特に、各成分の配合量が同一である実施例２、３、５と比較例１〜２とを対比すれば、より明らかである。

また、同じ変性剤を用いた実施例２〜５のなかでも、ゴム成分として通常の天然ゴムを配合した実施例２に比べ、加工した天然ゴムを配合した実施例３〜４の方が各物性をバランスよく向上させ、特にヒステリシスロスの低減効果が著しいことがわかる。

さらに、ゴム成分１００質量％中における変性ブタジエン系重合体の配合量を変動させた参考例１および参考例２、３のうち、変性ブタジエン系重合体が２０〜８０質量％の範囲内にある参考例１および参考例３はより優れた効果を発揮することがわかる。

Claims (8)

1. ブタジエン系重合体が、
   （Ａ）成分：周期律表の原子番号５７〜７１の希土類元素含有物、またはこれらの化合物とルイス塩基との反応物
   を含む触媒系の存在下、少なくとも１，３−ブタジエンを含む単量体を重合することにより製造されてなり、該ブタジエン系重合体が複素環式ニトリル化合物で変性されてなる変性ブタジエン系重合体を含むゴム成分に、カーボンブラックを配合してなることを特徴とするタイヤ用サイドウォールゴム組成物。
2. 前記触媒系が、さらに
   （Ｂ）成分：ルイス酸、金属ハロゲン化物とルイス塩基との錯化合物、および活性ハロゲンを含む有機化合物の少なくとも１種
   を含むことを特徴とする請求項１に記載のタイヤ用サイドウォールゴム組成物。
3. 前記触媒系が、さらに
   （Ｃ）成分：ＡｌＲ¹Ｒ²Ｒ³（式中、Ｒ¹およびＲ²は同一であっても異なっていてもよく、炭素数１〜１０の炭化水素基または水素原子、Ｒ³は炭素数１〜１０の炭化水素基であり、ただし、Ｒ³は上記Ｒ¹またはＲ²と同一であっても異なっていてもよい。）で表される有機アルミニウム化合物、および／または
   （Ｄ）成分：アルミノキサン
   を含むことを特徴とする請求項２に記載のタイヤ用サイドウォールゴム組成物。
4. 前記ゴム成分１００質量％中、前記変性ブタジエン系重合体が１０質量％以上の量で含まれることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のタイヤ用サイドウォールゴム組成物。
5. 前記ゴム成分１００質量部に対し、前記カーボンブラックを３０〜１００質量部の量で配合してなることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のタイヤ用サイドウォールゴム組成物。
6. 前記ゴム成分中、天然ゴムを含むことを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のタイヤ用サイドウォールゴム組成物。
7. さらに、老化防止剤を配合してなることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のタイヤ用サイドウォールゴム組成物。
8. 請求項１〜７のいずれかに記載のタイヤ用サイドウォールゴム組成物を用いたことを特徴とするタイヤ。