JP5404341B2 - 露光装置、及びそれを用いたデバイスの製造方法 - Google Patents
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Description
まず、本発明の第1実施形態に係る露光装置の構成について説明する。本発明の露光装置は、ステップ・アンド・スキャン方式やステップ・アンド・リピート方式でマスク(原版)のパターンを被処理基板であるガラスプレート(基板)に露光する装置である。本発明では、露光方式は、特に限定するものではない。露光装置1は、まず、恒温チャンバ2に収容された露光装置本体である露光ユニット3と、該露光ユニット3へ露光光を照射する照明光学系4とを備える。恒温チャンバ2は、空調機械室5と、空調エア供給部6とを備え、露光ユニット3を取り巻く周囲の環境を一定に保つための装置である。露光ユニット3は、照明光学系4からの露光光を所定の光束に変換する結像光学系7と、パターンが形成されたマスクを保持する原版ステージ8と、投影光学系9と、感光剤が塗布されたガラスプレートを位置決めする基板ステージ10とを備える。投影光学系9は、マスクのパターンをガラスプレートに所定の倍率で縮小投影するものである。この投影光学系9は、露光光を反射させる台形ミラー11と、凸面ミラー12と、円形(凹面)ミラー13と、更に、円形ミラー13に対して温調エアを供給するための気体供給装置14とを備える。なお、マスクステージ8及び投影光学系9は、共にフレーム15に支持されている。
次に、本発明の第2実施形態に係る露光装置の構成について説明する。図3は、第2実施形態に係る露光装置における気体供給装置の構成を示す概略図であり、図2(b)の気体供給装置14に対応した断面図である。なお、図3において、図2の構成と同一のものには同一の符号を付し、説明を省略する。本実施形態の気体供給装置30の特徴は、送風部19に、供給路20に代えて、送風ファン31と、ケミカルフィルタ32と、熱交換器33とを備える点にある。送風ファン31は、雰囲気の空気を取り込み、円形ミラー13に供給する送風手段である。送風ファン31としては、インバータ制御でファン回転数を制御し、送風量を変化させるものが望ましい。また、ケミカルフィルタ32は、送風ファン31の一次側に設置されたフィルタであり、送風ファン31で取り込まれた空気中のケミカル成分を除去し、空気を清浄化する。ケミカルフィルタ32としては、酸性ガス、やアルカリ性ガス等を除去するイオン交換タイプや、有機ガスを除去する活性炭フィルタ等が採用可能であり、状況に応じて使い分けても良い。このケミカルフィルタ32により、円形ミラー13の表面へのケミカル成分の付着を防止できるので、反射面の曇りによる露光性能の悪化を抑制できる。更に、熱交換器33は、送風ファン31の二次側に設置された熱交換手段であり、送風ファン31自体の発熱を処理するとともに、取り込んだ空気を温調する。この場合、熱交換器33用の冷媒は、送風部19を支持する支持部材34を通して供給する。また、この場合の温調は、ある所定の設定温度と、温度センサ26の値とに基づいて、冷媒の流量を変えることにより実施する。なお、本実施形態の気体供給装置30においても、温度センサ27の値に基づいて、送風ファン31の回転数を制御し、温調エア18の量を変化させることで、円形ミラー13の温度を均一化させても良い。これらの構成により、第1実施形態と同様の効果を奏する。
次に、本発明の一実施形態のデバイス(半導体デバイス、液晶表示デバイス等)の製造方法について説明する。半導体デバイスは、ウエハに集積回路を作る前工程と、前工程で作られたウエハ上の集積回路チップを製品として完成させる後工程を経ることにより製造される。前工程は、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布されたウエハを露光する工程と、ウエハを現像する工程を含む。後工程は、アッセンブリ工程(ダイシング、ボンディング)と、パッケージング工程(封入)を含む。液晶表示デバイスは、透明電極を形成する工程を経ることにより製造される。透明電極を形成する工程は、透明導電膜が蒸着されたガラス基板に感光剤を塗布する工程と、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布されたガラス基板を露光する工程と、ガラス基板を現像する工程を含む。本実施形態のデバイス製造方法によれば、従来よりも高品位のデバイスを製造することができる。
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。
3 投影光学系
13 円形ミラー
14 気体供給装置
18 温調エア
19 送風部
20 供給路
21 導風部
22 整流板
23 整流フィルタ
26 温度センサ
27 温度センサ
30 気体供給装置
31 送風ファン
32 熱交換器
33 ケミカルフィルタ
34 支持部材
Claims (9)
- 露光光を反射する円形ミラーと、該円形ミラーを温調する気体供給装置とを備えた投影光学系を有する露光装置であって、
前記円形ミラーは、円弧状の照射領域を有し、
前記気体供給装置は、前記照射領域を回避しつつ、前記円形ミラーの表面の中心領域に位置する送風部を備え、
前記送風部は、前記円形ミラーの表面に向かう面が塞がれた円筒部材で形成され、温調エアを、前記円形ミラーの表面上を沿うように、前記円筒部材の側面の全面から前記円形ミラーの外周領域に向けて放射状に供給することを特徴とする露光装置。 - 前記気体供給装置は、更に、前記温調エアを供給するエア供給装置を備え、
前記温調エアは、前記照射領域を回避しつつ設置された供給路を介して前記送風部に供給されることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。 - 前記送風部は、前記照射領域を回避しつつ設置された支持部材に支持され、送風ファンと、熱交換器と、フィルタとを備えることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記送風部は、前記温調エアの流れを整流するための、フィルタ、又は整流板を備えることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記気体供給装置は、前記円形ミラーの側面、及び底面を囲むように設置された前記温調エアの回収手段を有することを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記送風部は、前記温調エアの温度を計測する温度センサを有し、
前記気体供給装置は、前記温度センサの値に基づいて、前記温調エアの温度を制御することを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の露光装置。 - 前記気体供給装置は、前記円形ミラーの表面の温度を計測する温度センサを有し、
前記温度センサが計測した前記円形ミラーの温度に基づいて、前記温調エアの温度を制御することを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の露光装置。 - 前記気体供給装置は、前記円形ミラーの表面の温度を計測する温度センサを有し、
前記温度センサが計測した前記円形ミラーの温度に基づいて、前記温調エアの供給量を制御することを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の露光装置。 - 請求項8に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
露光された基板を現像する工程と、
を備えることを特徴とするデバイス製造方法。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2009266103A JP5404341B2 (ja) | 2009-11-24 | 2009-11-24 | 露光装置、及びそれを用いたデバイスの製造方法 |
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JP2011114001A JP2011114001A (ja) | 2011-06-09 |
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Country | Link |
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JP (1) | JP5404341B2 (ja) |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06194507A (ja) * | 1992-01-28 | 1994-07-15 | Koichiro Tsutsui | コールドライト |
JPH05343284A (ja) * | 1992-06-08 | 1993-12-24 | Fujitsu Ltd | 投影露光装置及び露光方法 |
JP2009043810A (ja) * | 2007-08-07 | 2009-02-26 | Canon Inc | 露光装置 |
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