JP5394839B2 - 試料観察装置及び試料観察方法 - Google Patents
試料観察装置及び試料観察方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5394839B2 JP5394839B2 JP2009165237A JP2009165237A JP5394839B2 JP 5394839 B2 JP5394839 B2 JP 5394839B2 JP 2009165237 A JP2009165237 A JP 2009165237A JP 2009165237 A JP2009165237 A JP 2009165237A JP 5394839 B2 JP5394839 B2 JP 5394839B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- thin film
- pedestal
- solution
- petri dish
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Description
(1)請求項1記載の発明は、第1の面に試料が保持される薄膜と、該薄膜の第2の面に接する雰囲気を減圧する真空室と、該真空室に接続され、前記薄膜を介して試料に1次線を照射する1次線照射手段と、該1次線の照射により試料から発生する2次的信号を検出する信号検出手段を具備する試料観察装置において、前記薄膜をその中央部に配置するシャーレと、該シャーレを支持する台座よりなる試料保持手段を有し、該試料保持手段の台座の真空室側に試料溶液が飛翔することを防止するための溶液飛翔防止壁を前記台座の下面に少なくとも一重に設けたことを特徴とする。
(6)請求項6記載の発明は、前記実験用刺激部材は、物理的刺激又は電気的刺激又は各種放射線による刺激、又は生化学的な刺激又はバクテリア等の微生物による刺激を試料に与えるように構成されたことを特徴とする。
(8)請求項8記載の発明は、第1の面に試料が保持される薄膜と、該薄膜の第2の面に接する雰囲気を減圧する真空室と、該真空室に接続され、前記薄膜を介して試料に1次線を照射する1次線照射手段と、該1次線の照射により試料から発生する2次的信号を検出する信号検出手段を具備する試料観察装置による試料観察方法において、前記薄膜をその中央部に配置するシャーレと、該シャーレを支持する台座よりなる試料保持手段であって、該試料保持手段の台座の真空室側に試料溶液が飛翔することを防止するための溶液飛翔防止壁を前記台座の下面に少なくとも一重に設けた試料保持手段を用いることを特徴とする。
(1)請求項1記載の発明及び請求項8記載の発明によれば、シャーレ交換台座を用意することで、倒立SEM鏡筒へのシャーレ取り付け前に品質確認ができると共に、薄膜が破損した時に真空室内に試料溶液が飛翔することを防止することができる試料観察装置及び試料観察方法を提供することができる。
(5)請求項5記載の発明によれば、試料に対して物理的状態を変化させることができる。
図1は本発明の基礎となる試料観察装置の要部断面図である。本発明の全体の構成は図7に示す装置と同じである。図7と同一のものは、同一の符号を付して示す。図において、42は台座、40は該台座42の上に載置されるシャーレ(ディッシュ)である。以下、台座42をシャーレ交換台座ということもある。この実施例によれば、シャーレ40は台座42上に載置されているため、シャーレ40の交換は台座42を含めて交換する。このとき、台座42を両手で持つ必要があるため、シャーレ40を誤って落下させることがなくなる。
以上、説明した本発明の効果を列挙すれば、以下の通りである。
1)シャーレ交換台座を用意し、シャーレの装置取り付けをこの台座により行なうことで、シャーレの工作精度や薄膜性能に依存した不具合を図5に示す確認装置の上で確認することができ、倒立SEM鏡筒を備える装置へのシャーレ取り付け前の品質確認ができる。
2)シャーレ交換台座は適度な重量とサイズになり、両手での取り付け操作になる。これにより、シャーレ単体を片手で装置に取り付ける場合に比べて、中の溶液をうっかりこぼす危険を少なくすることができる。
3)シャーレ交換台座の下に溶液飛翔防止壁を設け、溶液受け皿の壁面と台座下側の間隙を減らし、溶液が受け皿の外に飛翔する受け皿外への汚染の危険を低減することができる。
4)3)の効果は、溶液受け皿の壁面を高くしてシャーレ交換台座の下側ぎりぎりに設ける場合に比べて、組み立ての容易性を向上することができ、かつ摩擦による問題を減らすことができる。
5)シャーレ交換台座の下に多重に溶液飛翔防止壁を作成すると、溶液の受け皿外への飛翔を更に減らすことができる。
6)薄膜破損での汚染部位にシャーレの取り付け台座も含まれ、これを取り外し、交換ないし洗浄できることは、保守性の向上につながる。
7)シャーレ交換台座に実験用刺激部材の取り付け穴を複数(2〜40個程度)用意し、ユーザが自作した様々な機器の先端部をシャーレの近傍に固定することができる。
8)シャーレ交換台座そのものが取り外し交換できるので、μTASなどの専用の実験流路を持つ専用の機器を取り付ける専用の台座の作成や交換を容易に行なうことができる。
4 反射電子検出器
20 試料
40 シャーレ
41 薄膜
42’ 改良台座
43 溶液受け皿
45 インナーパイプ
46 OLアパーチャホルダ
47 溶液飛翔防止壁
48 オリフィス
49 Oリング
Claims (8)
- 第1の面に試料が保持される薄膜と、該薄膜の第2の面に接する雰囲気を減圧する真空室と、該真空室に接続され、前記薄膜を介して試料に1次線を照射する1次線照射手段と、該1次線の照射により試料から発生する2次的信号を検出する信号検出手段を具備する試料観察装置において、
前記薄膜をその中央部に配置するシャーレと、該シャーレを支持する台座よりなる試料保持手段を有し、該試料保持手段の台座の真空室側に試料溶液が飛翔することを防止するための溶液飛翔防止壁を前記台座の下面に少なくとも一重に設けたことを特徴とする試料観察装置。 - 前記溶液飛翔防止壁を、前記薄膜中央部から3〜20mmの位置に1〜2mmの高さで二重に設けることを特徴とする請求項1記載の試料観察装置。
- 前記真空室の真空度を測定する真空ゲージを設け、該真空ゲージが真空室内の真空度の急激な劣化を検出したら、試料の下部に配置されている2次的信号を検出する信号検出手段を退避させる信号検出手段退避機構を設けたことを特徴とする請求項1又は2記載の試料観察装置。
- 前記台座とシャーレと薄膜の正常性を確認するために、耐圧確認装置を用いて薄膜の状態を検査し、検査に合格した台座とシャーレと薄膜を本発明の試料観察装置に用いるようにしたことを特徴とする請求項1乃至3の何れか1項に記載の試料観察装置。
- 前記台座に試料に物理状態を変化させるためのマニピュレータとして機能する実験用刺激部材を取り付けたことを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項に記載の試料観察装置。
- 前記実験用刺激部材は、物理的刺激又は電気的刺激又は各種放射線による刺激、又は生化学的な刺激又はバクテリア等の微生物による刺激を試料に与えるように構成されたことを特徴とする請求項5記載の試料観察装置。
- 前記1次線は電子線、前記2次的信号は反射電子であることを特徴とする請求項1乃至6の何れか1項に記載の試料観察装置。
- 第1の面に試料が保持される薄膜と、該薄膜の第2の面に接する雰囲気を減圧する真空室と、該真空室に接続され、前記薄膜を介して試料に1次線を照射する1次線照射手段と、該1次線の照射により試料から発生する2次的信号を検出する信号検出手段を具備する試料観察装置による試料観察方法において、
前記薄膜をその中央部に配置するシャーレと、該シャーレを支持する台座よりなる試料保持手段であって、該試料保持手段の台座の真空室側に試料溶液が飛翔することを防止するための溶液飛翔防止壁を前記台座の下面に少なくとも一重に設けた試料保持手段を用いることを特徴とする試料観察方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009165237A JP5394839B2 (ja) | 2009-07-14 | 2009-07-14 | 試料観察装置及び試料観察方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009165237A JP5394839B2 (ja) | 2009-07-14 | 2009-07-14 | 試料観察装置及び試料観察方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011023144A JP2011023144A (ja) | 2011-02-03 |
JP5394839B2 true JP5394839B2 (ja) | 2014-01-22 |
Family
ID=43633052
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009165237A Active JP5394839B2 (ja) | 2009-07-14 | 2009-07-14 | 試料観察装置及び試料観察方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5394839B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6790559B2 (ja) * | 2016-08-02 | 2020-11-25 | 日本製鉄株式会社 | 試料台およびそれを備えた電子顕微鏡 |
CN108433217B (zh) * | 2018-04-11 | 2020-03-31 | 山东星宇手套有限公司 | 一种丁腈假发泡防滑手套的制备方法 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003100248A (ja) * | 2001-09-25 | 2003-04-04 | Hitachi Ltd | 荷電粒子線を用いたパターン検査装置 |
JP5318364B2 (ja) * | 2007-01-31 | 2013-10-16 | 日本電子株式会社 | 試料保持体、試料検査装置及び試料検査方法、並びに試料保持体の製造方法 |
-
2009
- 2009-07-14 JP JP2009165237A patent/JP5394839B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2011023144A (ja) | 2011-02-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101514190B1 (ko) | 하전 입자선 장치 | |
JP3820964B2 (ja) | 電子線を用いた試料観察装置および方法 | |
US8921786B2 (en) | Charged particle beam apparatus | |
US8350227B2 (en) | Processing system | |
KR101752164B1 (ko) | 하전 입자선 장치 및 시료 화상 취득 방법 | |
JP2012221766A5 (ja) | ||
JP5237728B2 (ja) | 粒子線装置 | |
JP2010230417A (ja) | 試料の検査装置及び検査方法 | |
US20150214004A1 (en) | Method for preparing and analyzing an object as well as particle beam device for performing the method | |
KR20130134160A (ko) | 주사 전자 현미경을 이용한 검사 시스템 | |
KR20130126684A (ko) | 전자 현미경용 시료 홀더 및 시료 관찰 방법 | |
JP6078637B2 (ja) | 荷電粒子線装置およびフィルタ部材 | |
JP2013080642A (ja) | 検査又は観察装置及び試料の検査又は観察方法 | |
TW201437637A (zh) | 利用掃描式電子顯微鏡之檢驗系統 | |
JP5394839B2 (ja) | 試料観察装置及び試料観察方法 | |
KR101721550B1 (ko) | Sem 또는 stem용 복수시료 장착장치 | |
JP2015170593A (ja) | 分析装置 | |
KR20230083805A (ko) | 하전입자를 이용한 시료 처리 장치 | |
KR20210066920A (ko) | 하전 입자선 장치 | |
JP2005044570A (ja) | 半導体の加工観察装置 | |
KR102181455B1 (ko) | 시료 관찰 장치 및 방법 | |
JP4365438B2 (ja) | 加工観察装置および加工観察方法 | |
US8502142B2 (en) | Charged particle beam analysis while part of a sample to be analyzed remains in a generated opening of the sample | |
JP2006194907A (ja) | 電子線を用いた試料観察装置および方法 | |
JP2015092513A (ja) | 荷電粒子線装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20111110 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120307 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130711 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130723 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130826 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20131008 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20131017 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5394839 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |