JP5390956B2 - 配線形成装置および配線形成方法 - Google Patents
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図1はこの発明にかかる配線形成装置の第1実施形態を示す図である。この配線形成装置1は、例えば表面に光電変換層を形成された単結晶シリコンウエハなどの基板W上に導電性を有する配線を形成し、例えば太陽電池として利用される光電変換デバイスを製造する装置である。この装置1は、例えば光電変換デバイスの光入射面に集電電極を形成するという用途に好適に使用することができる。
図6はこの発明にかかる配線形成装置の第2実施形態を示す図である。この実施形態における塗布装置1aの基本的構成および動作は、上記した第1実施形態のものとほぼ同じである。ただし、第1実施形態のクールプレート31に代えて基板を加熱するホットプレート35がステージ3上に設けられるとともに、これを制御する加熱ユニット36が冷却ユニットに代えて設けられている。この点を除けば装置構成は第1実施形態のものと同一であるので、同一構成には同一符号を付して説明を省略する。
上記した2つの実施形態は、一方が基板を冷却するものであるのに対し、もう一方が基板を加熱するという点で相反するが、「基板表面で塗布液の粘度を急速に増大させることにより、塗布直後の形状を維持する」という技術思想において共通するものである。本願発明者らは、このような目的に好適な塗布液の組成についても検討を行った。以下に説明する組成例は、上記第1および第2実施形態の配線形成装置に好適に適用することができ、特に第2実施形態の配線形成装置1aに最適である。しかしながら、これらの装置に限定されず、吐出ノズルから基板上に吐出させて配線を形成する配線形成装置および配線形成方法全般に好適に適用可能なものである。
(1)導電性粒子および有機ビヒクル(溶剤、樹脂、増粘剤等の混合物)を含む、
(2)有機ビヒクルに含まれる溶剤成分のうち、沸点が80℃以下の有機溶剤が溶剤全体に占める比率が、10ないし90重量パーセントである、
の2点である。以下に、本願発明者らによる実験結果の一部を示す。
以上説明したように、上記各実施形態においては、吐出ノズル52が本発明の「吐出ノズル」として機能しており、ステージ移動機構2が本発明の「移動機構」として機能している。また、光照射部53が本発明の「光照射手段」として機能している。また、上記第1実施形態におけるクールプレート31が本発明の「基板冷却部」として機能する一方、第2実施形態におけるホットプレート32が本発明の「基板加熱部」として機能しており、これらはいずれも本発明の「増粘手段」に相当するものである。
2 ステージ移動機構(移動機構)
6 制御部(制御手段)
21 X方向移動機構
22 Y方向移動機構
23 θ回転機構
31 クールプレート(基板冷却部、増粘手段)
35 ホットプレート(基板加熱部、増粘手段)
52 吐出ノズル
53 光照射部(光照射手段)
W 基板
Claims (6)
- 基板表面に対し、配線材料および光硬化性材料を含有する塗布液を吐出する吐出ノズルと、
前記基板表面に対し相対的に前記吐出ノズルを走査移動させる移動機構と、
前記吐出ノズルから前記基板表面に吐出された直後の前記塗布液の粘度を増大させる増粘手段と、
前記基板表面で粘度が増大された前記塗布液に光を照射して硬化させる光照射手段と
を備え、
前記増粘手段は、前記基板を保持しつつ前記基板を常温よりも低温に冷却する基板冷却部を有する
ことを特徴とする配線形成装置。 - 前記吐出ノズルは溶剤をさらに含む前記塗布液を吐出し、前記基板冷却部は、前記溶剤の凝固点以下の温度に前記基板を冷却する請求項1に記載の配線形成装置。
- 前記吐出ノズルは、前記塗布液を連続的に吐出する請求項1または2に記載の配線形成装置。
- 前記基板表面に対し、配線材料および光硬化性材料を含有する塗布液を塗布する工程と、
前記基板表面に塗布された塗布液に光を照射して硬化させる工程と
を備え、
少なくとも前記塗布液が前記基板表面に塗布される時から前記光を照射されるまでの間、前記基板を常温よりも低い温度に冷却する
ことを特徴とする配線形成方法。 - 前記塗布液は溶剤をさらに含み、
少なくとも前記塗布液が前記基板表面に塗布される時から前記光を照射されるまでの間、前記溶剤の凝固点以下の温度に前記基板を冷却する請求項4に記載の配線形成方法。 - 前記基板表面に対し相対移動する吐出ノズルから前記塗布液を連続的に吐出させて前記塗布液を前記基板表面に塗布する請求項4または5に記載の配線形成方法。
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