JP5382906B2 - 炭酸ガス圧浴システム - Google Patents
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Description
図1は、本発明の第1の実施形態に係る炭酸ガス圧浴システムの全体概略図である。この図に示すように、本実施形態の炭酸ガス圧浴システムは、炭酸ガス供給手段11と、液体供給手段21と、液体をミスト状にし炭酸ガスに含ませた状態で加圧供給する炭酸ガス及びミスト供給装置31と、供給された炭酸ガス及びミストを内部に封入する空間を形成するフラットなパッチ形状の圧浴カバー41と、炭酸ガス及びミストの供給制御を行う制御装置51と、から構成される。
図4は、本発明の第2の実施形態に係る炭酸ガス圧浴システムの全体概略図である。本実施形態では、発生させたミストを帯電させるための手段をさらに備えた炭酸ガス圧浴システムについて説明する。なお、図1に示す第1の実施形態と同一の部分については、同一の符号を付して詳細な説明は省略する。
図5は、本発明の第3の実施形態に係る炭酸ガス圧浴システムの全体概略図である。本実施形態では、さらに加圧手段を備えた炭酸ガス圧浴システムについて説明する。なお、図1に示す第1の実施形態と同一の部分については、同一の符号を付して詳細な説明は省略する。
12 レギュレータ
21、21A、21B 液体供給手段
22、22A、22B 圧力計
31 炭酸ガス及びミスト供給装置
32 流体ノズル
33 液体排出部
34 炭酸ガス及びミスト排出部
41、141 圧浴カバー
42 カバー本体
43、143 カバー部材
44、144 貼着部
45、145 供給口
46 空間
47 固定部
48、148 止着ベルト
49、149 ベルト止め部
51 制御装置
61 圧力計
62 温度計
71 電源装置
72 電極
81 加圧部
82 供給口
Claims (12)
- 所定値以上の濃度の炭酸ガスを生体の皮膚に接触させることにより、血管を拡張させ血液循環を改善させるための炭酸ガス圧浴システムであって、
炭酸ガス供給手段と、
液体供給手段と、
前記液体供給手段から供給された液体を前記炭酸ガス供給手段から供給された炭酸ガスによってミスト状にした炭酸ガスミストを加圧供給する炭酸ガス及びミスト供給手段と、
前記生体の皮膚を覆い、前記炭酸ガスミストを内部に封入する第1空間を形成するフラットなパッチ形状のカバー手段と、を有し、
前記カバー手段は、生体の皮膚を覆うカバー部材と、当該カバー部材の周縁に設けられた皮膚への粘着部と、前記カバー部材が形成する前記第1空間内に前記炭酸ガスミストを導入するための供給口と、前記カバー部材及び前記粘着部を前記生体の皮膚に密着状態に止着させる止着ベルト及びベルト止め部から成る固定部と、により構成され、
前記カバー手段内の炭酸ガスミストを所定の圧力値以上で生体の皮膚に接触させることを特徴とする炭酸ガス圧浴システム。 - 前記炭酸ガス及びミスト供給手段と前記カバー手段との間に配置され、前記炭酸ガス及びミスト供給手段から炭酸ガス及び炭酸ガスミストが供給され、供給された炭酸ガス及び炭酸ガスミストを溜めることができる第2空間を有し、押圧されることによって、前記第2空間に溜まった少なくとも炭酸ガスを前記カバー手段に排出して前記カバー手段内部を加圧する加圧手段を、さらに備えることを特徴とする請求項1に記載の炭酸ガス圧浴システム。
- 前記加圧手段は、インターバル加圧を行うことを特徴とする請求項2に記載の炭酸ガス圧浴システム。
- 前記炭酸ガス、液体、及び炭酸ガスミストの供給状態を計測するセンサと、
該センサの計測値に基づき前記炭酸ガス、液体、及び炭酸ガスミストの供給制御を行う制御手段と、
をさらに備えたことを特徴とする請求項1又は2に記載の炭酸ガス圧浴システム。 - 前記液体は、水であることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の炭酸ガス圧浴システム。
- 前記液体は、メンソール、ビタミンE、ビタミンC、シクロデキストリン、光触媒とアパタイトの複合体、ヒアルロン酸、コエンザイムQ10のうち、何れか一つまたは複数の薬剤が含有された水であることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の炭酸ガス圧浴システム。
- 前記液体は、加熱された状態で前記炭酸ガス及びミスト供給手段に供給されることを特徴とする請求項1から6のいずれかに記載の炭酸ガス圧浴システム。
- 前記炭酸ガス及びミスト供給手段から前記カバー手段内に供給される前記炭酸ガスミストの粒径は、10μm以下であることを特徴とする請求項1から7のいずれかに記載の炭酸ガス圧浴システム。
- 前記制御手段は、炭酸ガス圧浴時における前記カバー手段内の圧力を1.05乃至2.5気圧に保持することを特徴とする請求項4に記載の炭酸ガス圧浴システム。
- 前記炭酸ガス及びミスト供給手段が供給する炭酸ガスミストに電荷を付与する電荷付与手段をさらに備えることを特徴とする請求項1から9のいずれかに記載の炭酸ガス圧浴システム。
- 前記電荷は、マイナス電荷であることを特徴とする請求項10に記載の炭酸ガス圧浴システム。
- 前記供給口には、逆流防止弁が形成されていることを特徴とする請求項1から11のいずれかに記載の炭酸ガス圧浴システム。
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