JP5380285B2 - リソグラフィ装置 - Google Patents
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Description
有する。これらの機能は、191/194として示され、これらの参照符号はゲッタリングステージと洗浄ステージを示し、ここでオブジェクト301はゲッタ(191)および水素から水素ラジカルを形成するための触媒(194)である。しばらく経過した後、オブジェクト301の表面302は、任意で第2洗浄構成に搬送され、ステージ192でオブジェクト301の表面302が洗浄される。オブジェクト301の表面302上の堆積物が実質的に除去されると、オブジェクトは再び使用可能となり、第2洗浄構成から、ゲッタ機能191、洗浄機能193および水素ラジカル生成機能194を果たす位置まで戻される。
Claims (18)
- 放射ビームを提供する放射源と、
金属汚染物質を保持する第1表面を有するオブジェクトであって、前記第1表面は、リソグラフィプロセスの間、前記放射源により生成された前記放射ビームが横断する領域の実質的に外側に配置される、該オブジェクトと、
第2表面を有する光エレメントと、
を含み、
前記オブジェクトは前記光エレメントとは別に配置され、かつ前記第2表面から金属堆積物が洗浄される洗浄プロセスの間前記光エレメントに隣接して配置されるように移動可能に構成された
リソグラフィ装置。 - 前記洗浄プロセスの間、前記第1表面と前記第2表面との間の距離が0.1〜20cmであり、
前記第1表面は、リソグラフィプロセスの間、放射源により生成される放射ビームの経路内に配置されない、請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - 前記第1表面は、Sn、MnおよびZnからなる群から選択される1つ以上の元素の、金属、金属酸化物、金属水酸化物、金属水素化物、金属ハロゲン化物、および/または、金属のオキシハライドからなる群から選択される金属汚染物質を保持する、請求項1又は2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記放射源は、金属蒸気ベースのEUV放射源を含み、前記第1表面は、前記金属蒸気ベースのEUV放射源からの金属を保持する、請求項1〜3のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記放射源はSn放射源である、請求項1〜4のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1表面は、金属表面を含み、前記金属は、Ru、Rh、Pd、Ag、Re、Os、Ir、PtおよびAuからなる群から選択される1つ以上の金属である、請求項1〜5のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 水素含有ガス源、及び水素ラジカル源を含む第1洗浄構成をさらに含み、
前記第1洗浄構成は、前記光エレメントの前記第2表面へと水素含有ガスを提供し、前記第1表面を有する前記オブジェクトは、さらに金属再堆積物を保持する、請求項1〜6のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。 - 前記第1洗浄構成は、水素含有ガスおよび/または水素ラジカル含有ガスを、前記第1表面と前記第2表面との間に提供する、請求項7に記載のリソグラフィ装置。
- 前記オブジェクトは前記第2表面の方向に移動可能であり、前記第1洗浄構成は、前記第1表面と前記第2表面との間に水素含有ガスおよび/または水素ラジカル含有ガスを提供する、請求項7または8に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1洗浄構成は、ハロゲン含有ガス源をさらに含む、請求項7〜9のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1洗浄構成は、前記光エレメントの前記第2表面に水素ラジカル含有ガスおよび/またはハロゲン含有ガスを提供する、請求項10に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1洗浄構成は、水素含有ガス、水素ラジカル含有ガス、および/または、ハロゲン含有ガスを前記第1表面と前記第2表面との間に提供する、請求項10に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1表面は、触媒表面を含む、請求項1〜12のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 第2洗浄構成をさらに含み、
前記第2洗浄構成は、前記第1表面から金属堆積物を洗浄する、請求項1〜13のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。 - ハロゲン含有ガス源を含む第1洗浄構成をさらに含み、
前記第1洗浄構成はハロゲン含有ガスを前記光エレメントの前記第2表面へ提供し、前記第1表面を有する前記オブジェクトはさらに金属再体積物を保持する、請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - 前記第1洗浄構成は、前記第1表面と前記第2表面との間にハロゲン含有ガスを提供する、請求項15に記載のリソグラフィ装置。
- 前記オブジェクトは前記第2表面の方向に移動可能であり、前記第1洗浄構成は前記ハロゲン含有ガスを前記第1表面と前記第2表面との間に提供する、請求項15または16に記載のリソグラフィ装置。
- 放射ビームを提供する放射源と、
金属汚染物質を保持する第1表面を有するオブジェクトであって、前記第1表面は、リソグラフィプロセスの間、前記放射源によって生成される前記放射ビームが横断する領域の実質的に外側に配置され、前記第1表面は、金属表面を含み、前記金属は、Ru、Rh、Pd、Ag、Re、Os、Ir、Pt、および、Auからなる群から選択される1つ以上の金属であり、前記第1表面は、光エレメントの表面層ではない、該オブジェクトと、
第2表面を有する光エレメントと、
を含み、
前記オブジェクトは前記光エレメントとは別に配置され、かつ前記第2表面から金属堆積物が洗浄される洗浄プロセスの間前記光エレメントに隣接して配置されるように移動可能に構成された
リソグラフィ装置。
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