CN110161808B - 光栅尺清洁装置和方法、光刻机 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种光栅尺清洁装置和方法、光刻机，所述光栅尺清洁装置包括主体以及穿过所述主体的第一管路和第二管路，在清洁时，清扫气体从所述第一管路的第一排气端沿第一方向到达光栅尺表面，然后沿第二方向的反向将光栅尺表面的颗粒物从所述第二管路的第二进气端带离。本发明提供的光栅尺清洁方法采用上述光栅尺清洁装置，所述光刻机包括上述光栅尺清洁装置。本发明提供的光栅尺清洁装置和方法、光刻机利用清扫气体吹除颗粒物的方式对光栅尺进行清洁，清洁效率高，清洁方式安全，不会对光栅尺表面产生损伤，也不会对光栅尺表面产生污染；可以满足不同光刻机的要求；无需将整个工件台拖出光刻机主体，清洁方式简便。

Description

光栅尺清洁装置和方法、光刻机

技术领域

本发明涉及半导体设备领域，尤其是一种光栅尺清洁装置和方法、光刻机。

背景技术

光刻是使用光敏光刻胶材料和可控制的曝光在半导体基底(或基板)表面形成图形的过程。光刻常被认为是芯片制造中最关键的步骤，需要具备足够的光刻精度以便结合其他工艺获得高成品率。

光刻常利用光刻机实现，光学编码器系统在光刻机中广泛地用于监控工件台例如基板平台或者掩模版平台的移动，以实现精确地移动控制。光栅尺(Grating Plate)是光学编码器系统的一部分，用于贴附于基板平台或者掩模版平台，与光学编码器系统的其它部分例如编码器激光头配合工作，具体通过反射编码器激光头发射的激光束来精确定位工件台的走位情况。光栅尺可以通过蚀刻玻璃制成。

由于光学编码器系统的精密性，如果光栅尺表面落有灰尘或其他颗粒物，则无法准确反射激光束，造成走位情况量测失准或失败。因此需要定期对光栅尺表面进行清洁作业。

当前清洁光栅尺表面的方法有两种，一种方法是将整个工件台拖出光刻机主体，使用溶剂和布进行人工清扫，该方法清洁效果较好，但缺点在于：易对光栅尺表面产生刮伤；以及作业周期较长，一般需要1～3天。另一种方法是利用液浸水对光栅尺表面进行自动冲洗作业，该方法清扫效率高，但缺点在于：适用范围有限，仅适用于液浸式光刻机，不适用于非液浸式光刻机；清洗范围有限，无法对光栅尺整个表面进行清洗；以及液浸水中可能含有微量的光刻胶，会对光栅尺表面产生污染。

发明内容

为了满足不同类型光刻机的清洁要求，提高光栅尺的清洁效率，减小对光栅尺表面的刮伤和污染，本发明提供了一种光栅尺清洁装置和方法，以及一种包括所述光栅尺清洁装置的光刻机。

根据本发明的一个方面，提供一种光栅尺清洁装置，用于对贴于光刻机工件台上的光栅尺的表面进行清洁，所述光栅尺清洁装置包括：

主体，所述主体具有在清洁时朝向所述工件台的内侧表面；

穿过所述主体的第一管路，所述第一管路具有第一进气端和沿第一方向延伸至所述内侧表面的第一排气端；以及

穿过所述主体的第二管路，所述第二管路具有第二排气端和沿第二方向延伸至所述内侧表面的第二进气端；

其中，所述第一排气端和所述第二进气端分别沿所述第一方向和所述第二方向的水平分量彼此靠近，在清洁时，所述第一方向和所述第二方向与所述光栅尺的表面的夹角均为锐角，清扫气体从第一排气端沿第一方向到达光栅尺表面，然后沿第二方向的反向将光栅尺表面的颗粒物从第二进气端带离。

可选的，所述主体可拆卸地与光刻机的主框架连接，所述第一方向和所述第二方向所在平面平行于所述光栅尺的长度方向。

可选的，所述第一管路包括多个沿光栅尺宽度方向平行设置的第一排气端；所述第二管路包括多个沿光栅尺宽度方向平行设置的第二进气端，以及多个沿光栅尺长度方向平行设置的第二进气端。

可选的，所述第一排气端在所述内侧表面沿所述光栅尺宽度方向的尺寸大于或等于所述光栅尺的宽度。

可选的，所述第一排气端在所述内侧表面处设置有气体喷嘴。

可选的，所述光栅尺清洁装置还包括：

旋转马达，与所述主体连接，以在清洁时驱动所述主体以垂直于所述光栅尺表面的旋转轴旋转。

可选的，所述清扫气体为洁净干燥空气、氮气或者惰性气体。

可选的，所述第一进气端设置有流量控制阀和电磁切换阀；所述第二排气端设置有抽气泵。

根据本发明的另一方面，本发明提供一种光栅尺清洁方法，采用上述光栅尺清洁装置，所述光栅尺清洁方法包括以下步骤：

将所述光栅尺清洁装置的主体可拆卸地与光刻机的主框架连接，并使所述主体的内侧表面朝向工件台；

移动工件台，使所述工件台上贴附的光栅尺位于所述第一方向和所述第二方向的延伸线上；以及

利用第一管路向所述光栅尺表面以一定气压输出清扫气体，并利用第二管路排出所述光栅尺表面多余的气体以及颗粒物，其中，移动所述工件台，使所述清扫气体吹扫光栅尺的全部表面。

根据本发明的再一方面，本发明还提供一种光刻机，包括：

投影物镜，所述投影物镜架设于一主框架中；

可移动的工件台，用于放置基片；

光学编码器系统，包括贴附于所述工件台上的光栅尺；以及

上述的光栅尺清洁装置，所述光栅尺清洁装置的主体可拆卸地与所述主框架连接，所述主体的内侧表面朝向所述工件台。

本发明提供的光栅尺清洁装置通过第一管路的第一排气端向光栅尺表面输出清扫气体，将颗粒物从第二进气端带离，相对于人工擦拭清洁效率高，且清洁方式安全，不会对光栅尺表面产生损伤，也不会对光栅尺表面产生污染；此外，通过所述光栅尺清洁装置输出清扫气体进行光栅尺的清洁，无需将整个工件台拖出光刻机主体，清洁方式简便，且对光刻机的类型无限制，可以满足不同类型光刻机的清洁要求。

本发明提供的光栅尺清洁方法通过第一管路向光栅尺表面输出清扫气体，并通过第二管路将颗粒物带离，清洁方式安全，不会对光栅尺表面产生损伤，也不会对光栅尺表面产生污染；本清洁方法通过清扫气体吹除颗粒物的方式进行清洁，对光刻机的类型无限制，可以满足不同类型光刻机的清洁要求；通过设置在光刻机主框架上的清洁装置以及可移动的工件台对光栅尺的全部表面进行清洁，清洁效率高，且无需将整个工件台拖出光刻机主体，清洁方式简便。

本发明提供的光刻机可以利用上述清洁装置输出的清扫气体对光栅尺表面的颗粒进行吹除，清洁方式安全，不会对光栅尺表面产生损伤，也不会对光栅尺表面产生污染；所述光刻机的类型无限制，可以是液浸式光刻机，也可以是非液浸式光刻机；所述清洁装置设置在光刻机主框架上，且可通过移动的工件台对光栅尺的全部表面进行清洁，清洁效率高，且无需将整个工件台拖出光刻机主体，清洁方式简便。

附图说明

图1为本发明实施例的光栅尺清洁装置对光栅尺进行清洁时的剖面图。

图2为图1中A-A’方向的剖面图。

图3为本发明实施例的光栅尺清洁装置对光栅尺进行清洁时的俯视图。

图4为本发明实施例的光栅尺清洁方法的流程图。

图5为本发明实施例的光刻机的示意图。

附图标号说明如下：

100-光栅尺清洁装置；200-光栅尺；300-工件台；400-主框架；500-投影物镜；110-主体；120-第一管路；130-第二管路；140-旋转马达；210-Y向光栅尺；220-X向光栅尺；121-进气方向；122-第一排气端；123-第一进气端；124-流量控制阀；125-电磁切换阀；131-排气方向；132-第二进气端；133-第二排气端；134-抽气泵。

具体实施方式

下面将结合示意图对本发明的具体实施方式进行更详细的描述。根据下列描述，本发明的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本发明实施例的目的。

现有的对光栅尺的清洁方式中，人工擦拭效率低，易对光栅尺产生刮伤，利用液浸水清洗则仅适用于液浸式光刻机，且容易对光栅尺产生污染。针对上述问题，本发明提供了一种光栅尺清洁装置。图1是本发明实施例的光栅尺清洁装置对光栅尺进行清洁时的剖面图。如图1所示，本发明实施例提供的光栅尺清洁装置100包括主体110、第一管路120和第二管路130。所述第一管路120穿过所述主体110的一侧，具有第一进气端123和沿第一方向延伸的第一排气端122，用于通过第一进气端123沿第一方向以一定气压向光栅尺200表面输出清扫气体。所述第二管路130穿过所述主体110的另一侧，具有第二排气端132和沿第二方向延伸的第二进气端132，用于回收完成清洁的清扫气体以及被清扫气体带起的颗粒物。

上述光栅尺清洁装置100在清洁时设置在光刻机的工件台300上方，本实施例对光刻机的类型不作限制，例如可以是液浸式或非液浸式光刻机，本实施例以尼康X8系列光刻机为例，其具有一用于承载晶圆的可移动的工件台300。为了对贴于工件台300表面的光栅尺200进行清洁，在清洁时，将所述光栅尺清洁装置100的主体110露出第一排气端122和第二进气端132的内侧表面朝向工件台300。

在清洁时，通过第一排气端122排出的清扫气体的气体分子以高速撞击光栅尺200表面，由于动量转换的作用，光栅尺200表面的颗粒物在“风力”作用下被吹起。如图1所示，在本发明实施例中，所述第一方向即为清扫气体的进气方向121，通过控制第一方向的角度，可以对清扫气体的进气方向121进行控制。所述第二方向即为排气方向131的反向，所述第一排气端122和所述第二进气端132分别沿所述第一方向和所述第二方向的水平分量彼此靠近，且所述第一方向和所述第二方向与所述光栅尺200的表面的夹角均为锐角，使得完成清洁的清扫气体以及被清扫气体带起的颗粒物顺利进入第二进气端132而从第二排气端133排出。

本发明实施例提供的光栅尺清洁装置100利用清扫气体吹除光栅尺200表面的颗粒物，清洁效率高，可以满足不同类型的光刻机要求，且可以避免光栅尺表面的刮伤和污染。

具体的，图3为本发明实施例的光栅尺清洁装置对光栅尺进行清洁时的俯视图。如图3所示，光栅尺200可以围绕矩形的工件台300的边缘设置一周，其中，光栅尺200的长度方向指的是平行于工件台300边缘的方向，光栅尺200的宽度方向指的是垂直于工件台300边缘的方向。在本发明实施例中，如图3所示，根据光栅尺200的分布方式定义了相互垂直的X方向和Y方向，将所述光栅尺200区分为长度方向平行于Y方向的Y向光栅尺210以及长度方向平行于X方向的X向光栅尺220。当然，本发明的适用范围不限于上述形状的光栅尺200。

下面以清洁如图3所示的光栅尺200为例针对光栅尺清洁装置200的具体结构进行介绍。

本发明实施例中，所述主体110优选与光刻机的主框架连接，在本发明的另一实施例中，所述主体110还可以是例如利用支架单独固定在工件台300上方。首先，主体110可设置为可拆卸地连接，以便根据需要对光栅尺清洁装置100进行清洁，例如，可以仅在需要清洁时，才将所述光栅尺清洁装置100与光刻机连接，利于光栅尺清洁装置100的日常维护。其次，使主体100与光刻机的主框架连接，以使得光栅尺清洁装置100固定，从而移动光刻机的工件台300就可使述光栅尺清洁装置100到达光栅尺200的全部表面进行清洁。在此，光刻机的主框架指的是用于架设投影物镜的框架，所述主框架另外通过基础框架与地基固定。具体的，可以将主体110设置于投影物镜旁边，由于投影物镜的扫描范围覆盖光栅尺200全部表面，从而设置于投影物镜旁边便于通过移动工件台300使光栅尺清洁装置100跟随投影物镜遍历光栅尺200的全部表面，实现对光栅尺200表面全范围的清洁。

图2为图1中A-A’方向的剖面图，如图2所示，在本发明实施例中，所述第一排气端122的数量为多个且相互平行设置，多个所述第一排气端122沿第一方向的反向延伸并合并为一个第一进气端123。在主体110与光刻机的主框架连接时，可以使多个第一排气端122平行排列的方向与光栅尺200的宽度方向平行，从而，在光栅尺200沿长度方向运动时，第一排气端122的清扫范围可覆盖光栅尺200的宽度。但不限于此，第一排气端122的数量也可以是一个。无论是一个还是多个，可以设置所述第一排气端122在所述内侧表面沿所述光栅尺200宽度方向的尺寸优选大于或等于所述光栅尺200的宽度，从而光栅尺200在沿图3中Y方向的反向移动时，光栅尺清洁装置100的吹气范围可以覆盖Y向光栅尺210的整个宽度范围，从而可以提高光栅尺200的清洁效率。

在本发明实施例中，在进行清洁时，所述第一方向的水平分量平行于光栅尺200的长度方向。发明的另一实施例中，所述第一方向的水平分量也可平行于光栅尺200的宽度方向，通过使多个第一排气端122沿光栅尺200的长度方向平行排列，且占据的宽度大于或等于所述光栅尺200的宽度，也可使得光栅尺200移动一个长度距离(例如图3中光栅尺的一个边的长度范围)时，光栅尺清洁装置100就可完成对该长度方向上光栅尺200的清洁。在本发明的再一实施例中，所述第一排气端122在所述内侧表面处还可以设置气体喷嘴，所述气体喷嘴数量为多个，均与第一排气端122相连，清扫气体从气体喷嘴到达光栅尺200表面，可以通过控制气体喷嘴的排布和喷气方向来调节吹气方向和吹气范围，进而实现对光栅尺200整个表面的吹扫。

在本发明实施例中，所述清扫气体为洁净干燥空气、氮气或者惰性气体。所述惰性气体例如是氦气、氩气或者它们的混合气体等。如图1所示，本发明实施例中，所述第一管路120的第一进气端123设置有流量控制阀124和电磁切换阀125，所述流量控制阀124用于控制清扫气体的进气流量。所述电磁切换阀125用于控制清扫气体的输入与截止，并可以调节气压以使清扫气体以一定的气压(优选大于1个大气压)到达光栅尺200的表面，以将颗粒物带起。本发明实施例中，先通过电磁切换阀125控制第一管路120的开闭和进气压力，然后通过流量控制阀124控制清扫气体的流量。当然，也可以是先通过流量控制阀124控制好清扫气体的流量，再通过电磁切换阀125控制第一管路120的开闭和进气压力。

所述第二进气端132优选为多个且相互平行设置，与图3中第一排气端122的设置方式类似，多个所述第二进气端132也可以在光栅尺200的宽度方向平行排列。除此以外，为了使完成清洁的清扫气体以及被清扫气体带起的颗粒物完全进入第二进气端132，所述多个第二进气端132在沿光栅尺200宽度方向平行排列的同时还可以如图1所示沿光栅尺200的长度方向也平行排列，以增大了第二进气端132在所述主体110的内侧表面的截面面积，有利于增大排气速率。当然，在本发明的另一实施例中，所述第二进气端132的数量也可以为一个，为了满足对清扫气体及颗粒物的回收，所述第二进气端132的开口面积可以相对于第一排气端122的开口面积更大。本实施例中，所述多个第二进气端132沿第二方向的反向延伸并合并为一个第二排气端133后，通过在所述第二排气端133设置抽气泵134，以从所述多个第二进气端132使第一排气端122和第二进气端132之间的空间加速排气，便于及时排出光栅尺200上方多余的气体及颗粒物，避免被清扫气体带起的颗粒物进入光刻机的其它区域。除此以外，为了防止清扫气体从第一排气端122排出后未到达光栅尺200表面就进入第二进气端132，需要控制抽气泵134以及电磁切换阀125，以通过对排气压力和抽气速度的调整，使从第一排气端122排出的清扫气体清洁光栅尺表面后，再从第二进气端132被排出。所述第二进气端132和第一排气端122之间优选间隔一定距离，以利于清扫气体充分清扫光栅尺表面，例如可设计使第一排气端122的延伸方向(第一方向)和第二进气端132的延伸方向(第二方向的反向)的延长线在工件台的表面相交。

为了对包括多个方向长度段的光栅尺进行清洁，本实施例的光栅尺清洁装置100还可包括旋转马达140，所述旋转马达140与所述主体110连接，可以驱动所述主体110以垂直于所述光栅尺200表面的旋转轴旋转，从而可以调节第一管道和第二管道的排列方向，以对每个长度段的光栅尺(如图3中的Y向光栅尺210或X向光栅尺220)进行清洁。

具体的，利用本实施例的光栅尺清洁装置100进行清洁时，首先将主体110安装在光刻机的主框架上，使所述光栅尺清洁装置100的第一方向和所述第二方向所在平面平行于Y向光栅尺210的长度方向，通过使工件台300沿Y方向的反向移动，带动光栅尺清洁装置100沿Y方向对Y向光栅尺210进行清洁；到达端部后，例如驱动旋转马达140，使光栅尺清洁装置100的主体110旋转90°，从而所述光栅尺清洁装置100的第一方向和所述第二方向所在平面平行于X向光栅尺220的长度方向，通过使工件台沿X方向的反向移动，带动光栅尺清洁装置100沿X方向对X向光栅尺220进行清洁；到达端部后继续按上述方式进行旋转和移动，直至完成对光栅尺200需要清洁的所有区域完成清洁。

本发明的另一实施例中，所述工件台300具有以中心线为轴进行水平旋转的功能，因此，可通过工件台300自身的旋转和平移，使所述光栅尺清洁装置100的第一方向和所述第二方向所在平面在清洁时平行于X向光栅尺220的长度方向，并实现对整个光栅尺200表面的清洁。本发明的又一实施例中，所述第一排气端122在所述内侧表面处设置有气体喷嘴，通过扭转气体喷嘴的喷射方向，也可实现对不同方向上光栅尺200的清洁。

本发明实施例提供的光栅尺清洁装置通过第一管路的第一排气端向光栅尺表面输出清扫气体，将颗粒物从第二进气端带离，清洁方式安全，不会对光栅尺表面产生损伤，也不会对光栅尺表面产生污染；此外，通过所述清洁装置输出清扫气体进行光栅尺的清洁，对光刻机的类型无限制，可以满足不同类型的光刻机要求。

所述清洁装置设置在光刻机的主框架上，清洁时无需将整个工件台拖出光刻机主体，清洁方式简便；此外，通过第一排气端持续输出清扫气体，并通过工件台的移动以及清洁装置的自身的旋转使清扫范围覆盖光栅尺的全部表面，相对于人工清扫效率高。

本发明实施例还提供了一种光栅尺清洁的方法，所述光栅尺清洁方法采用上述光栅尺清洁装置100，图4为本发明实施例的光栅尺清洁方法的流程图。如图4所示，所述光栅尺清洁方法包括以下步骤。

步骤S1：将所述光栅尺清洁装置的主体可拆卸地与光刻机的主框架连接，所述主体的内侧表面朝向工件台；

步骤S2：移动工件台，使所述工件台上的光栅尺位于所述第一方向和所述第二方向的延伸线上；

步骤S3：利用第一管路向所述光栅尺表面以一定气压输出清扫气体，并利用第二管路排出所述光栅尺表面多余的气体以及颗粒物，移动所述工件台，使所述清扫气体吹扫光栅尺的全部表面。

首先执行步骤S1，结合图1，将所述光栅尺清洁装置100的主体110可拆卸地与光刻机的主框架连接，所述主体的内侧表面朝向工件台300。主体110可以根据工件台300上方的空间具体设置连接方式，为了提高清扫效果，在光刻机上设置好光栅尺清洁装置100的主体110时，可以使主体110与工件台300的垂直距离设置得较近，目的是使清扫气体从第一排气端122排出后，在光栅尺200表面形成较大的撞击力，便于吹起光栅尺200表面沉积的灰尘颗粒。应理解，在设置光栅尺清洁装置100的主体110与光刻机连接时，对光刻机的其它部件的工作应不产生影响，尤其是不能影响工件台300的移动。

结合图3，为了提高光栅尺清洁装置100的清洁效率，在将主体110与光刻机的主框架连接时，可以设置使进气方向121(同第一方向)和排气方向131(与第二方向相反)所在平面例如平行于Y方向，从而工件台300沿Y方向的反向移动一个Y向光栅尺210的长度距离，就可实现对此Y向光栅尺210的清扫。

然后执行步骤S2，移动工件台300，使所述工件台300上的光栅尺200位于所述第一方向和所述第二方向的延伸线上。通过移动工件台300，使光栅尺200位于清扫气体的清扫范围内，优选方案中，工件台300沿光栅尺200的长度方向移动，而第一排气端122的排气宽度覆盖光栅尺200的宽度，则随着光栅尺200在其长度方向的移动，即可以实现对光栅尺200整个表面的清扫。

然后执行步骤S3，利用第一管路120向所述光栅尺200表面以一定气压输出清扫气体，并利用第二管路130排出所述光栅尺200表面多余的气体以及颗粒物，移动所述工件台300，使所述清扫气体吹扫光栅尺200的全部表面。

在此过程中，通过电磁切换阀125控制清扫气体的通入和截止，并调节排气压力。

打开电磁切换阀125以及流量控制阀124的同时，打开抽气泵134，使第二进气端132附近形成指向所述第二进气端132的气流，促使多余的清扫气体以及颗粒物进入第二管路130。

在本发明实施例中，需要对光栅尺200的全部表面进行清洁时，可以将工件台300的移动轨迹预存在光刻机的控制系统内，通过调用程序，可自动地、简便地对光栅尺200进行清洁。当然，在仅需要对光栅尺200的局部区域进行清洁时，也可以手动控制工件台300的移动。

本发明实施例提供的光栅尺清洁方法通过第一管路向光栅尺表面输出清扫气体，并通过第二管路将颗粒物带离，清洁方式安全，不会对光栅尺表面产生损伤，也不会对光栅尺表面产生污染；本清洁方法对光刻机的类型无限制，可以满足不同类型的光刻机要求；通过设置在光刻机主框架上的清洁装置以及可移动的工件台对光栅尺的全部表面进行清洁，清洁效率高，且无需将整个工件台拖出光刻机主体，清洁方式简便。

本发明实施例还提供了一种光刻机，图5为本发明实施例提供的光刻机的示意图，结合图1和图5，所述光刻机包括投影物镜500以及可移动的工件台300，所述投影物镜500架设于一主框架400中，工件台300用于放置基片。所述光刻机还包括光学编码器系统，具体包括贴附于所述工件台300上的光栅尺200，另外，所述光刻机还包括上述光栅尺清洁装置100，所述光栅尺清洁装置100的主体110可拆卸地与所述主框架400连接，所述主体110的内侧表面朝向所述光栅尺200。

在对所述光刻机的光栅尺200进行清洁时，利用光栅尺清洁装置100输出的清扫气体而非液浸水进行清洁，故本发明实施例中，对所述光刻机的类型无限制，所述光刻机可以是液浸式光刻机，也可以是非液浸式光刻机，例如可以是KrF光刻机、ArF光刻机、DUV光刻机、EUV光刻机等。在本发明实施例中，可以如图5所示将主体110设置于投影物镜500旁边，由于投影物镜500的扫描范围覆盖工件台300的范围较大，从而便于通过移动工件台300使光栅尺清洁装置100跟随投影物镜500遍历光栅尺200的全部表面，实现全范围的清洁。

本发明实施例提供的光刻机在对光栅尺进行清洁时，可以利用清洁装置输出的清扫气体对光栅尺表面的颗粒进行吹除，清洁方式安全，不会对光栅尺表面产生损伤，也不会对光栅尺表面产生污染；所述光刻机的类型无限制，可以是液浸式光刻机，也可以是非液浸式光刻机；所述清洁装置设置在光刻机主框架上，且可通过移动的工件台对光栅尺的全部表面进行清洁，清洁效率高，且无需将整个工件台拖出光刻机主体，清洁方式简便。

上述仅为本发明的优选实施例，并非对本发明权利范围的限定。任何本领域技术领域的技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，都可以对本发明揭露的技术方案和技术内容做任何形式的等同替换或修改等变动。因此，凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化及修饰，均属于本发明的保护范围之内。

Claims (9)

1.一种光栅尺清洁装置，用于对贴于光刻机工件台上的光栅尺的表面进行清洁，其特征在于，包括：

主体，所述主体具有在清洁时朝向所述工件台的内侧表面；

穿过所述主体的第一管路，所述第一管路具有第一进气端和沿第一方向延伸至所述内侧表面的第一排气端；以及

穿过所述主体的第二管路，所述第二管路具有第二排气端和沿第二方向延伸至所述内侧表面的第二进气端；

其中，所述第一排气端和所述第二进气端分别沿所述第一方向和所述第二方向的水平分量彼此靠近，在清洁时，所述第一方向和所述第二方向与所述光栅尺的表面的夹角均为锐角，清扫气体从第一排气端沿第一方向到达光栅尺表面，然后沿第二方向的反向将光栅尺表面的颗粒物从第二进气端带离，且所述第一管路包括多个沿光栅尺宽度方向平行设置的第一排气端；所述第二管路包括多个沿光栅尺宽度方向平行设置的第二进气端，以及多个沿光栅尺长度方向平行设置的第二进气端。

2.如权利要求1所述的光栅尺清洁装置，其特征在于，所述主体可拆卸地与光刻机的主框架连接，所述第一方向和所述第二方向所在平面平行于所述光栅尺的长度方向。

3.如权利要求1所述的光栅尺清洁装置，其特征在于，所述第一排气端在所述内侧表面沿所述光栅尺宽度方向的尺寸大于或等于所述光栅尺的宽度。

4.如权利要求1所述的光栅尺清洁装置，其特征在于，所述第一排气端在所述内侧表面处设置有气体喷嘴。

5.如权利要求1所述的光栅尺清洁装置，其特征在于，还包括：

旋转马达，与所述主体连接，以在清洁时驱动所述主体以垂直于所述光栅尺表面的旋转轴旋转。

6.如权利要求1所述的光栅尺清洁装置，其特征在于，所述清扫气体为洁净干燥空气、氮气或者惰性气体。

7.如权利要求1所述的光栅尺清洁装置，其特征在于，所述第一进气端设置有流量控制阀和电磁切换阀；所述第二排气端设置有抽气泵。

8.一种光栅尺清洁方法，其特征在于，采用如权利要求1-7任意一项所述的光栅尺清洁装置，包括：

将所述光栅尺清洁装置的主体可拆卸地与光刻机的主框架连接，并使所述主体的内侧表面朝向工件台；

移动工件台，使所述工件台上贴附的光栅尺位于所述第一方向和所述第二方向的延伸线上；以及

利用第一管路向所述光栅尺表面以一定气压输出清扫气体，并利用第二管路排出所述光栅尺表面多余的气体以及颗粒物，其中，移动所述工件台，使所述清扫气体吹扫光栅尺的全部表面。

9.一种光刻机，其特征在于，包括：

投影物镜，所述投影物镜架设于一主框架中；

可移动的工件台，用于放置基片；

光学编码器系统，包括贴附于所述工件台上的光栅尺；以及

如权利要求1-7任意一项所述的光栅尺清洁装置，所述光栅尺清洁装置的主体可拆卸地与所述主框架连接，所述主体的内侧表面朝向所述工件台。

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