JP5367371B2 - 4点抵抗測定のインラインの位置誤差の解消 - Google Patents

4点抵抗測定のインラインの位置誤差の解消 Download PDF

Info

Publication number
JP5367371B2
JP5367371B2 JP2008535888A JP2008535888A JP5367371B2 JP 5367371 B2 JP5367371 B2 JP 5367371B2 JP 2008535888 A JP2008535888 A JP 2008535888A JP 2008535888 A JP2008535888 A JP 2008535888A JP 5367371 B2 JP5367371 B2 JP 5367371B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
probe
resistance
measurement
point
calculated
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2008535888A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2009511925A5 (ja
JP2009511925A (ja
Inventor
トーベン・ミカエル・ハンセン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Capres AS
Original Assignee
Capres AS
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Capres AS filed Critical Capres AS
Publication of JP2009511925A publication Critical patent/JP2009511925A/ja
Publication of JP2009511925A5 publication Critical patent/JP2009511925A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5367371B2 publication Critical patent/JP5367371B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R27/00Arrangements for measuring resistance, reactance, impedance, or electric characteristics derived therefrom
    • G01R27/02Measuring real or complex resistance, reactance, impedance, or other two-pole characteristics derived therefrom, e.g. time constant
    • G01R27/08Measuring resistance by measuring both voltage and current

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Measurement Of Resistance Or Impedance (AREA)

Description

本発明は、抵抗測定における位置誤差を低減又は解消する補正係数を計算するためのシステムと方法に関し、試験サンプルのシート抵抗を決定する抵抗測定を実行するための方法とシステムに関する。さらに本発明は、試験サンプルの特徴的な電気的特性を取得するための方法に関する。
関連するシステム及び方法は、特許文献1乃至11等に見い出し得る。本明細書では、上述の全ての米国特許公報を参照する。これらは全て、参照によりあらゆる目的でその全体が本書に組み込まれる。
米国特許出願公開第2004/0183554号明細書。 米国特許第6,943,571号明細書。 米国特許第4,703,252号明細書。 米国特許第5,691,648号明細書。 米国特許第6,747,445号明細書。 米国特許出願公開第2005/0151552号明細書。 米国特許出願公開第2005/0081609号明細書。 米国特許第3,735,254号明細書。 米国特許第3,456,186号明細書。 国際公開第WO94/11745号パンフレット。 米国特許出願公開第2005/0062448号明細書。 米国特許出願公開第2004/0056674号明細書。 欧州特許出願公開第1610131号明細書。 米国特許出願公開第2005/0127929号明細書。 欧州特許出願公開第1466182号明細書。
試験サンプルの抵抗を決定する抵抗測定を実行するとき、当該測定を行うために用いられる探針(プローブ)を試験サンプルの表面に接触させる方法において、試験探針の複数の探針アームは個々の探針間の距離が想定された距離とは異なるように位置合わせされ、これにより試験サンプルの表面における電流分布は想定通りにはならないという事実に起因して誤差が生じる。本発明は、インラインの位置誤差を解消するための方法とシステム、特に4点探針(four-point probe)抵抗測定を提供する。
例えば特許文献1に開示されている方法には幾つかの欠点があり、例えば、これは公称間隔に関する知識を必要とする。また、公称間隔には解消すべき偏差がない。さらに、公知の方法は近似である。従って、正確な方法に対するニーズが存在する。
本発明の第1の態様による方法は、4点探針を用いる抵抗測定における位置誤差を低減する補正係数を計算する。上記4点探針は、本体と、1つの探針をそれぞれ含む4つの探針アームとを有し、
上記探針アームは上記本体から平行に延在し、
上記4点探針は、電気信号を送信及び受信する試験装置と上記探針との間に電気的な接触を確立するための複数の電気接点を含み、
上記方法は、
上記探針アームを、上記試験サンプルの表面に接触するように位置合わせするステップと、
第1及び第2の探針アームを備える第1の組と、第3及び第4の探針アームを備える第2の組を選択するステップと、
上記試験装置から、上記第1の組の上記第1の探針アームを介して上記第1の組の上記第2の探針アームに、上記試験サンプル中を伝搬する第1の電流を印加するステップと、
上記第2の組の上記第3及び第4の探針アーム間の第1の誘起された電圧を検出するステップと、
上記第1の電圧と上記第1の電流との比である第1の4点抵抗Rfirstを計算するステップと、
第1及び第2の探針アームを備えかつ上記第1の組の上記探針アームのうちの一方のみを含む第3の組と、第3及び第4の探針アームを備えかつ上記第2の組の上記探針アームのうちの一方のみを含む第4の組を選択するステップと、
上記試験装置から、上記第3の組の上記第1の探針アームを介して上記第3の組の上記第2の探針アームに、上記試験サンプル中を伝搬する第2の電流を印加するステップと、
上記第4の組の上記第3及び第4の探針アームにおいて第2の誘起された電圧を検出するステップと、
上記第2の電圧と上記第2の電流との比である第2の4点抵抗Rsecondを計算するステップと、
上記第1及び第2の4点抵抗に基づいて補正係数を計算するステップとを含んでもよい。
本発明は4点探針に向けられるものであるが、上記探針は、少なくとも1つの探針をそれぞれ含む5つ以上の探針アームを含んでよく、測定は、例えばこれらの探針のうちの4つの探針を用いて実行されてよい。探針アームはまた、探針本体から平行に延在する必要はなく、しかしながら、探針は、好ましくは、探針アームの端部で直線上に配列される。これは、探針アームは直線状に延在する又は矩形以外の幾何学的形状を有してよいことを意味する。
探針及び試験サンプルは、好ましくは、試験サンプル及び探針をそれぞれ収容するための2つ以上のホルダを有する試験装置内に配置される。試験探針及び試験サンプルは、両者が接触するように試験探針又は試験サンプルもしくは両方を移動させることの何れかによって、互いに接触させられる。試験探針と試験サンプルとの間の接触は、例えば、光学的/視覚的に、又は当該接触を検証するための電気的方法を用いて検証されてよい。
理想的には、試験サンプルの表面は平らであり、試験探針の探針アームは、探針が予め定義された又は既知の間隔を有してインラインに位置合わせされるように、試験サンプルの表面に接触される。しかしながら、現実の世界ではこの通りにならないので、本発明は、試験サンプル表面上の探針の非理想的な位置合わせから生じる誤差を低減又は解消する、改良された補正係数を計算するための方法を提供する。
上記4点探針では、試験探針の4つの探針アームのうちの2つの探針アームを備える第1の組が選択され、かつ上記第1の組の探針アームとは異なる2つの探針アームを備える第2のグループが選択される。第1の組の探針アームの一方に電流が印加され、これによって、当該電流は試験サンプルの表面を伝搬させられる。これにより、試験サンプル内に電圧が誘起される。次に、この誘起された電圧は、探針アームの第2の組の第1及び第2の探針アームを用いて測定又は決定されてよい。
4点抵抗(four-point resistance)は、印加される電流及び測定される電圧から、電圧と電流との間の比として計算されてよい。シート抵抗もまた測定されてもよい。
第1及び第2の探針アームを備える第3の組が選択され、探針が探針アームを4つしか含まないときには、上記第3の組は第1の組又は第2の組の探針アームのうちの1つのみを含んでよい。探針アームの第4の組は、上記第4の組の探針アームが第2の組又は第1の組の探針アームのうちの1つだけを含むように選択される。
次に、第3の組の探針アームに又は第4の組の探針アームに第2の電流が印加される。電流が試験サンプルの表面を伝搬するときに誘起される電圧は、第4の組又は第3の組の探針アームにおいて決定又は測定されてよい。先と同様に、第2の電圧及び電流の比に基づいて4点シート抵抗が計算されてよい。
一実施形態では、補正係数は、
Figure 0005367371
で与えられる2つの4点抵抗間の関係式によって計算される。次に、補正係数は
Figure 0005367371
によって与えられ、シート抵抗は
Figure 0005367371
によって与えられる。
係数γは、数値的方法を用いることを必要とする場合がある。本明細書で他の場所に記述しているように、γは、4点探針の複数の探針の幾何学的構成に依存する係数である。
本発明の教示内容によれば、第1の態様による方法は、上記補正係数を用いて上記試験サンプルの抵抗を計算するための測定を実行することをさらに含んでよい。
探針アームの所定の構成に対する補正係数が計算された後は、探針アームは上述の測定及び計算を実行する間に移動されないことが好ましい。次に、上述のように計算された補正係数を用いて、シート抵抗が計算されてよい。第2の4点抵抗が上述のように用いられるが、第1の4点抵抗が試験サンプルのシート抵抗を計算するために用いられてもよい。
有利なことに、探針は遠隔の位置に繰り返し移動されてよく、各位置に対しては請求項1及び2のステップが各位置に対して繰り返し実行される。
試験サンプルのシート抵抗を複数の位置で決定する必要がある場合があり、このとき、試験探針は補正係数の計算が実行されてよい位置に段階的に移動されてよく、次のシート抵抗の測定又は決定が行われる。
本発明の第2の態様は、位置誤差を低減又は解消する補正係数を用いて、4点探針を用いる抵抗測定を実行するための方法に関し、
上記4点探針は、本体と、1つの探針をそれぞれ含む4つの探針アームとを有し、
上記探針アームは上記本体から平行に延在し、
上記4点探針は、電気信号を送信及び受信する試験装置と上記探針との間に電気的な接触を確立するための複数の電気接点を含み、
上記方法は、
上記探針アームを、上記試験サンプルの表面に接触するように位置合わせするステップと、
第1及び第2の探針アームを備える第1の組と、第3及び第4の探針アームを備える第2の組を選択するステップと、
上記試験装置から、上記第1の組の上記第1の探針アームを介して上記第1の組の上記第2の探針アームに、上記試験サンプル中を伝搬する第1の電流を印加するステップと、
上記第2の組の上記第3及び第4の探針アームにおいて第1の誘起された電圧を検出するステップと、
上記第1の電圧と上記第1の電流との比である第1の4点抵抗Rfirstを計算するステップと、
第1及び第2の探針アームを備えかつ上記第1の組の上記探針アームのうちの一方のみを含む第3の組と、第3及び第4の探針アームを備えかつ上記第2の組の上記探針アームのうちの一方のみを含む第4の組を選択するステップと、
上記試験装置から、上記第3の組の上記第1の探針アームを介して上記第3の組の上記第2の探針アームに、上記試験サンプル中を伝搬する第2の電流を印加するステップと、
上記第4の組の上記第3及び第4の探針アーム間の第2の誘起された電圧を検出するステップと、
上記第2の電圧と上記第2の電流との比である第2の4点抵抗Rsecondを計算するステップと、
上記第1及び第2の4点抵抗に基づいて補正係数を計算するステップと、
上記補正係数を用いて、上記試験サンプルの抵抗を計算するステップとを含む。
第2の態様による方法は、本発明の第1の態様に関連して言及した任意の特徴を含んでよい。
本発明の第3の態様は、試験サンプル及び試験探針をそれぞれ収容するための第1及び第2のホルダと、
請求項1及び/又は請求項4記載の方法のコンピュータによる実行を記憶するための記憶装置と、
請求項1及び/又は請求項4記載の方法の上記コンピュータによる実行を実行するためのマイクロプロセッサとを有する試験装置に関する。
本発明の上記第3の態様による試験装置は、本発明の第1及び/又は第2の態様に関連して言及した方法の任意の特徴を含んでよい。
第4の態様において、本発明は、本体と、探針チップをそれぞれ含む複数の探針アームとを有する探針を用いることによって試験サンプルの特徴的な電気的特性を取得するための方法に関し、
上記特徴的な電気的特性は抵抗の特性を含み、
上記複数は少なくとも4であり、
上記探針アームは上記本体から平行に延在し、
上記探針は、上記探針チップとの間で電気信号を送信及び受信する試験装置と上記探針チップとの間に電気的な接触を確立するための電気接点を含み、
上記方法は、
(a)上記探針チップを、上記試験サンプルの表面に接触するように位置合わせするステップと、
(b)2つの探針チップの第1の組間に電流を印加し、当該第1の組の探針チップの何れをも含まない2つの探針チップの第2の組間の電圧を決定することにより測定を実行するための4つの探針チップのサブセットを選択し、上記測定を探針チップ組の全ての組合せについて実行するステップと、
(c)上記特徴的な電気的特性のモデル値を確立するステップと、
(d)上記モデル値に基づいて、上記特徴的な電気的特性のモデルデータを計算するステップとを含み、
上記測定及び上記計算されたモデルデータが収束しないときには、調整されたモデル値を確立しかつ上記調整されたモデル値を用いてステップ(d)を繰り返し、
上記測定及び上記計算されたモデルデータが収束するときには、上記モデルデータから上記特徴的な電気的特性を抽出する。
試験装置は、試験探針を、チップが試験サンプルの表面と電気的な接触する位置に移動させるためのアクチュエータ又は他の装置を備えてよい。試験探針は、特許文献12及び特許文献13等の公報に開示されているものと同様の種類のものであってよく、試験装置は特許文献14及び特許文献15等の公報に開示されているものと同様の種類のものであってよい。本明細書では、上述の米国特許の公報を参照し、これらは全て、参照により本明細書の開示に組み込まれる。
探針は少なくとも4つの探針チップを備えるので、2つの探針チップの2つの組の組合せを幾つかの方法で選択することが可能である。各組合せにおいて選択される組は、共通のチップを含まない。例えば、探針がチップA、B、C及びDを備えているとき、第1の組合せはA及びBから成る1つの組と、C及びDである第2の組であってよい。次には、第2の組合せはA及びCから成る第1の組と、B及びDから成る第2の組とであってよい。次に、第3の組合せはB及びCから成る第1の組と、A及びDから成る第2の組とであってよい。より多くのチップを有する探針を用いれば、組合せの可能性はさらに多くなる。
次に、これらの組の組合せを用いて測定が実行される。次には、用いられる組合せのそれぞれについて、電気的特性のモデル値に基づいてモデルデータが計算される。モデル値は、初期の推測値で始まってよく、試験サンプルに関する知識に基づくものであってよい。
次に、モデルデータは測定データと比較される。モデルデータと測定データとが十分に近いときに、上記方法は試験サンプルの特徴的な電気的特性の許容可能な値をもたらしている。モデル値を調整し、計算及び1又は複数の測定値との比較を繰り返す必要がある場合もある。複数の特徴的な電気的特性が一度に決定されるとき、調整は上方又は下方もしくは両方であってよい。調整は、許容可能な結果が達成されるまで繰り返されてよい。
モデルデータと測定データとの差に対しては、しきい値が予め定義されていてよい。あるいは、繰り返し処理によって、差が最小になるポイントが決定されてよい。
別の実施形態では、上記方法は、複数の測定のうちの1つの測定の補正された値を計算することを含んでよい。1つ以上の測定は、補正係数又は補正関数によって補正されてもよい。
現時点で好ましい実施形態では、特徴的な電気的特性は、最上層の抵抗、最下層の抵抗、抵抗と面積の積又はこれらの任意の組合せである。他の電気的特性も同様に決定されてもよい。
本発明の有利なある実施形態では、モデルデータは、以下の式を用いて計算される。
Figure 0005367371
値x、y、z及びwは、添付の図面に関する下記の説明から明らかとなるように、所定の構成における探針アーム間の距離である。Rは最上層の抵抗であり、Rは最下層の抵抗であり、RAは抵抗と面積の積である。Kは0次の第2種変形ベッセル関数であり、λは、以下の式で与えられる遷移長(transition length)である。
Figure 0005367371
本発明の有利なある実施形態では、上記方法は、上記計算されたモデルデータの1つに対して補正を実行することをさらに含んでよい。補正は、計算された1つ以上のモデルデータに対して実行されてよい。
本発明の第4の態様による方法は、上記任意の態様1、2及び/又は3の任意の特徴を含んでよい。
次に、添付の概略図を参照して本発明を説明する。
図1は、表面と接触している4点探針を概略的に示す。4点探針等の多点探針を自由につりさげるとき、点探針を構成するアームは、多点探針の本体から自由に延在し、よって、少なくとも理論上はインラインに位置づけられ、探針の端点間に既知の距離を有するように、サンプルの表面と接触した状態にされる。これらのアームは、部分的には表面誤差又は表面の不整に起因して、かつおそらくはサンプル表面に対する探針の位置にも起因して互いに相対的に移動させられる。探針間の間隔は、製造上の不確定さ、又は振動に起因して変わり得る。図1に、探針の相対的な間隔の差を示す。図1において、4つの探針アーム(10,12,14,16)は互いに相対的に移動され、4つの探針アーム間の距離は矢印(2,22,24,26)で示される。
4点探針(10,12,14,16)がインラインでかつ既知の間隔で、試験サンプルの表面上に位置合わせされると仮定すると、結果的に、電流分布の測定は不正確又は間違ったものとなり、測定される電流及び全ての電圧は理論上の仮定される値とは異なる。
無限シートに対しては、4点による電流に対する電圧の比(four-point voltage to current ratio)は、以下の式で表すことができる。
Figure 0005367371
ここで、w、x、y及びzは図2において与えられる距離であり、Rはシートのシート抵抗である。互いに置き換え可能な複数の電極の、合計24個の摂動が存在するが、これらの24個の摂動は、それぞれが8つの等価な構成から成る3つのグループに分割できる。各グループ内で、測定された4点抵抗は最大で符号を変化させた分だけ異なる。各グループの4点抵抗は、R、R及びRで示される。これらの比は、常に正であるように定義される。4点抵抗間には、下記の関係が存在する。
Figure 0005367371
直線状に延在する構成に対して、これらのグループのそれぞれの代表的な構成は、図2aから図2cに示される。これらの構成の電流に対する電圧の比は、以下の式で与えられる。
Figure 0005367371
ここで、変数α、β及びγは、以下の式で与えられる。
Figure 0005367371
演算操作を行うと、これらの変数間に下記の関係式が存在することを発見できる。
Figure 0005367371
図2Aに示す構成及び図2Cに示す構成を用いて2つの測定を実行すると、下記の関係式を作ることができる。
Figure 0005367371
上述の関係式を用いれば、これを、以下のように解くことができる。
Figure 0005367371
従って、Rに対するRの比から、γを一意に決定できる。上記関係式は複雑であるので、γは数値的方法を用いて求められなければならない。このタスクは、例えばミンパック(MINPACK)である方程式を数値的に解くためのプログラムから適切なルーチンを用いて実行されてよい。γが決定されると、以下の式からシート抵抗が計算されてよい。
Figure 0005367371
ここで、添え字(インデックス)ACはシート抵抗が構成A及び構成Cに基づくことを示す。原理的には、R、R及びRのうちの2つの他の任意の比を用いて、3つの変数α、β又はγのうちの任意の変数を求めることができ、適切な関係式を用いてシート抵抗を求めることができる。
間隔a、b及びcは消去されるので、本方法によれば、実際の間隔に依存せずに正しいシート抵抗を得ることができる。従って、電極の位置合わせにおける変動も無視される。
4点抵抗と可能な検索される変数(サーチパラメータ)との間には、少なくとも下記の関係式が存在する。
Figure 0005367371
さらに、各関係式は、実装に際してはその逆数の式によって表現されてよい。4点測定の構成によっては、符号の変更が必要とされる。
シート抵抗は、下記の関係式の何れかによって与えられてよい。
Figure 0005367371
これらの関係式のうち、例えばa1とg2又はe1とb2である、第1のグループからの1つの関係式と第2のグループからの1つの関係式からなる、共に同じ変数α、β又はγを含む任意の2つの関係式は、本方法の機能的な実施を構成する。これらの関係式は、上述の方程式から導出されてよい。さらに、これらの関係式のそれぞれは、
Figure 0005367371
の条件を課すことによって変更されてよい。
第2のグループにおける検索変数の分離及び第1のグループへの代入もまた、有効な実施となる。
図3は、c=aのときの、b/aの関数としてのα、β及びγの対数関数を示す概略図である。
インライン方向の位置合わせの誤差に起因する誤差を解消する本発明による方法は、電磁放射線等の他の誤差及びインライン方向に対して垂直な位置合わせの誤差に対する感度を上げるものではない。
電磁放射線及び例えば接触抵抗の変化による電流源から電圧センサへのクロスオーバに起因する誤差は、結果的に、測定される電流に対する電圧の比に対する直接的な確率的変化を生じさせると仮定できる。よって、通常の4点探針法の感度を、単に以下のように記述できる。
Figure 0005367371
構成B及び構成Cに対しても等価に記述できる。提示している方法に関しては、次式が成立する。
Figure 0005367371
/Rを用いることにより、以下の式からαを求める。
Figure 0005367371
両辺をRで微分し、演算操作を実行すると、以下の式が得られる。
Figure 0005367371
方程式2を1に代入し、公称電極間隔からαが既知であるものと仮定すると、比
Figure 0005367371
は常に0から1までの間であることが分かる。これは、提示している方法が常に、公称間隔を直接的に用いる単純な方法と比べてより良好な、又は同等の感度をもたらすことを意味する。a=b=cである対称な探針の間隔に対しては、比fACAは、約40%の向上を示す0.616であることが分かる。残念ながら、Rの変化に対するAC構成の感度の比fACCは1.894であり、これは、補正された(補正有りの)方法によるRの変化に対する感度は補正されていない(補正無しの)方法によるRの変化に対する感度のほぼ2倍であることを指す。全体的には、電流に対する電圧の比の変化に対する感度は約2倍に増大される。これは、問題であるように思われるかもしれないが、実際の測定における測定誤差は、少なくとも微視的な4点探針に関しては位置合わせの誤差に支配されているので、本方法は依然として補正されていない方法よりも向上している。
さらに、我々の経験では、R及びRに関しては絶対的なノイズよりもむしろ、相対的なノイズが互いに同じである。この情報を用いれば、補正されたシート抵抗におけるノイズを、以下の式で書き表すことができる。
Figure 0005367371
と書き表すことができる。ここで、
Figure 0005367371
は、補正されたシート抵抗における相対的な標準偏差及び測定された電流に対する電圧の比の相対的な標準偏差である。さらにまた、対称的な探針については、この係数
Figure 0005367371
は0.629になる。従って、全体的なノイズの抑制は37%になる。
標準的な直線状に延在する4点探針の電流に対する電圧の比は、一次的には、インライン方向に対して垂直方向の位置合わせの誤差に対して鈍感である。従って、本補正方法はこれらの比を直接的に用いるので、本方法もこのような位置合わせの誤差に対して、一次的には鈍感になる。
驚くべきことに、本発明による方法は、電極が位置合わせされる直線に平行な非導電性バリア(障害物)の影響を除去することが分かる。
上述の発見は、サンプルの形状を完全に排除できる可能性があることを示唆する。しかしながら、インライン方向に沿うバリアを使った解析的な研究は、これが排除され得ないことを示している。一方で、数値的研究は、上記誤差が著しく低減されることを示している。図4は、シミュレーションによって得られた測定誤差をバリアとの距離の関数として示す。距離は、電極の間隔に対して正規化されている。探針は、a=b=cであるように、対称であると仮定されている。破線の曲線は、補正されていないシート抵抗の測定誤差を示し、実線の曲線は補正されたシート抵抗の誤差を示す。図から分かるように、本方法は測定誤差を大幅に改善する。補正されたシート抵抗の場合、誤差は、電極間隔のちょうど3倍の距離において1%より小さい。補正されていないシート抵抗の場合、この状況が発生するのは電極の間隔の7倍の距離においてである。
この効果も、探針が平行な2つのバリアの間の中央又は矩形サンプルの上に置かれるとなくなる可能性がある。図5は、矩形サンプルの測定時の誤差を示す。
ここでも、対称な探針を仮定した。補正されていないシート抵抗に対しては、既知のサンプル寸法を仮定した補正係数及びサンプルの中心に位置づけられた探針を用いた。サンプルの寸法は、電極の間隔の5×5倍である。図から分かるように、本方法は、探針位置のずれに起因する誤差を大幅に改善する。さらに、補正されていない場合とは異なり、探針をサンプルのほぼ中心に位置合わせすれば、正確なサンプル寸法を知る必要はない。
サンプルが周知の寸法を有しかつ非常に狭いものであるときには、測定される値は位置に対して弱くしか依存せず、本方法は改善をもたらさない。しかしながら、このような場合には、サンプルの幅が既知でなければならない。幅が既知でないときには、近似的な補正係数を求めるべく本補正方法を用いる余地がある。サンプルが大きいほど、測定はさらに改善される。
図5は、矩形サンプルに対する測定誤差の数値シミュレーションの概略図である。破線は補正されていないシート抵抗を示し、実線は補正されたシート抵抗を示す。
シミュレーションに用いられたサンプルは矩形のサンプルであり、インライン方向に平行な方向に電極間隔の5倍の辺の長さを有し、かつインライン方向に垂直な方向に電極間隔の5倍の辺の長さを有する。探針は、a=b=cであるように対称である。補正されていないシート抵抗の場合、サンプルの寸法は既知であることが仮定され、誤差は、探針が中心線上に位置づけられる状況に対して計算される。
以後の説明において、Rはボトム抵抗を指し、先のような4点測定の構成Bの抵抗を示さない。
一般的な場合において、調査中のサンプルを特徴づける幾つかの変数を求めたい。期待される測定値を記述するモデルをこれらの変数の関数として有しているときには、測定されたデータに最も適合する変数を探索できる。これを数学的に記述すると、以下の式になる。
Figure 0005367371
ここで、Pは探索する変数の組であり、fModelは所定のモデルから期待される測定値を計算するための関数であり、fMeasuredは測定された値を含むベクトルである。縦線はノルムを表し、通常はl又はlノルムが選択される。
取得される変数に与える測定のアーティファクトの影響を低減するために、補正技術を導入できる。補正技術を、独立変数として測定された値又はモデルからの計算値の何れかをとる関数Gで表す。すると、モデル変数を求めるという課題を以下の式で書き表すことができる。
Figure 0005367371
Gの最適な選択は、サンプルの実際の形状及びサンプルを表すために選択されるモデルに依存する。最適なGは、可能な測定誤差に関する上述の最小値に対する感度を最小にする関数である。
平面電流トンネル法CIPT(Current In Plane Tunnelling)のサンプルに対する4点測定の場合のモデルは、下記の通りである。
Figure 0005367371
ここで、遷移長は、
Figure 0005367371
であり、x、y、z及びwはi番目の構成の場合の図1に示した距離である。変数の組は、最上層の抵抗R、最下層の抵抗R及び抵抗と面積の積RAを含む。Kは、0次の第2種変形ベッセル関数である。
ほぼ直線に沿って位置づけられる4点をそれぞれ含む、接点の幾つかのグループ又は組を選択する。各グループについて、第1の4点抵抗を取得する。グループの(できれば全ての)サブセットについて第2の4点抵抗を取得し、上述の方法等々を用いて補正された抵抗を計算する。
上述のモデルを用いて、R、R及びRAの最初の推測値に対して期待される第1及び第2の4点抵抗を計算する。
次に、測定されて補正されたデータと計算されたデータとの差が最小になるまで、変数R、R及びRAを調整する。
他に、特定のサンプル形状に対してはより優れている他の補正技術、又は必要とする計算量が少ない他の補正技術が用いられてもよい。重要な点は、補正技術が、比較可能な値を取得するために、測定されたデータ及びモデルから計算されるデータの両方に対して実行されることである。
仮に、1から6まで番号付けされた6つのチップを有する探針を用いることを想定するときには、通常の測定技術を下記のように例証できる。
ステップ1:下記を用いて4点抵抗を測定する。
Figure 0005367371
ここで、ni1は電流が印加されるチップの番号であり、ni2は電流が引き出されるチップの番号であり、nv1及びnv1は電圧が測定されるチップである。
ステップ2:初期変数R=RT,0,R=RB,0,RA=RAを推測する。
ステップ3:下記の式を用いてモデルデータを計算する。
Figure 0005367371
ここで、dkiはk番目のチップとl番目のチップとの間の距離である。
ステップ4:目的関数
Figure 0005367371
を計算する。ただし、この計算には、式
Figure 0005367371
におけるlノルムを用いた。
ステップ5:変数を調整し、FObjが最小値に達するまでステップ3及び4を繰り返す。
ステップ6:結果的な変数R、R及びRAを抽出する。
以下は、測定値の2つの組に補正が実行される例である。チップの最初の2つの組又はグループに対する補正を用いる場合、上記技術は下記のようになる。
ステップ1:下記を用いて4点抵抗を測定する。
Figure 0005367371
ステップ2:補正を実行する。
Figure 0005367371
ただし、GSheetは上述の方法を表す。
ステップ3:初期変数R=RT,0,R=RB,0,RA=RAを推測する。
ステップ4:下記を用いてモデルデータを計算する。
Figure 0005367371
ステップ5:計算されたデータに対して擬似補正を実行する。
Figure 0005367371
ステップ6:目的関数
Figure 0005367371
を計算する。ただし、この計算には、式
Figure 0005367371
におけるlノルムが用いられる。
ステップ7:変数を調整し、FObjが最小値に達するまでステップ4、5及び6を繰り返す。
ステップ8:結果的な変数R、R及びRAを抽出する。
図6は、本方法を示す。
図7は、補正技術の性能のシミュレーションを示す。最小チップが間隔1μmである実際の12点探針構成を用いて、fMeasuredをシュミレーションした。各シミュレーションで、チップの8つの組又はグループを用いた。シミュレーションには、R=1Ω、R=1Ω及びRA=5Ω/μmを用いている。各チップの位置は、±50nmのランダムな二乗分布で変動する。図は、抽出されるRAの変動は、少なくとも3番目に小さい間隔を有する組までは補正レベルの増大に伴って低減することを明示している。
Figure 0005367371
Figure 0005367371
Figure 0005367371
Figure 0005367371
Figure 0005367371
表1から表5は、異なるRA値を用いたシミュレーションをまとめたものである。結果は、一般に、本補正方法は抽出された変数の誤差を低減し、かつ意味のある変数を抽出できるときにはRAの値を下げることを示している。
CIPT構造の磁気抵抗は、基本概念を変えるものでないので、本方法の実証に包含されていない。本方法は、多点探針のサブセット及び幾つかの多点探針を用いる測定の両方に適用できる。補正は、任意の数のチップの組に適用されることが可能である。
補正を、最小の間隔について行う必要はなく、チップの組又はグループの何れにも行うことができる。本方法は、モデルが適宜変更されるときには、CIPT構造以外の幾何学的形状にも適用できる。提示したもの以外の補正技術が用いられてもよい。重要な点は、補正が、比較可能なデータを生成するために測定された値及び計算された値の両方に対して行われることにある。補正された値の計算は、測定の実行と統合された部分であってもよい。最初の補正の後は、結果を改善するために、新たな測定が実行されてもよい。上述のように、補正では、任意の直線状に延在する独立な構成が用いられてもよい。さらに、上述のように、探索変数、すなわちモデル値は、α、β又はγの何れであってもよい。
図6は、実際のRA=5Ω/μmに適合されたRAのばらつきを概略的に示したものである。図には、補正なしの結果27a、最小の間隔の補正の結果27b、2つの最小間隔の補正の結果27c及び3つの最小の間隔の補正の結果27dが示されている。
図7は、本発明の教示内容による方法のある実施形態のステップを概略的に示している。開始点は28である。30では、4点の組の測定が実行される。この測定の実行に先行して、探針は試験サンプルの表面に電気的に接触するように位置合わせされている。
32では、複数の測定のうちの1つのサブセットについて、代わりの直線状に延在する独立な構成を測定する。測定は異なる複数の組合せで実行されてよく、すなわち、電流が印加されてよい多数の可能性が存在し、これは、対応する電圧が測定されるべき点の選択についても同様である。
34では、上記サブセットの補正された抵抗を計算する。30及び32における測定の実行後に、補正された値は計算される。
36では、R、R及びRAに対して最初の推測値を選択する。決定されるべき電気的特性の最初の推測値が確定される。
38では、全ての構成について期待される抵抗を計算する。R、R及びRAに対する最初の推測値に基づいて、期待される又は理論的なモデル値は計算される。
40では、構成の上記サブセットの補正を実行する。モデル値は、測定値と同じ方法で補正される。
42では、測定されて補正された抵抗と、計算されて補正された抵抗とを比較する。比較は、測定されて補正された値と、補正されたモデル値との間で行われる。
44では、収束したか否かを判断する。測定されて補正された値と、補正された測定値とが十分に近いときには、本方法は許容可能な回答をもたらしている。
46では、R、R及びRAを出力し、本方法は48で終了する。
値は、例えば、記録装置又はプリンタ装置へ出力されてよい。測定されて補正された値と補正されたモデル値とが収束しなければ、50においてR、R及びRAの推測値が調整される。次に、調整された値は、ステップ38−44における新たな計算のために返される。処理は、十分に許容可能な回答が得られるまで繰り返されてよい。値R、R及びRAの許容は、補正された測定値と補正されたモデル値との間の最小値の決定に基づいてよい。
本発明は、下記のポイントによって特徴づけられてよい。
1.4点探針を用いる抵抗測定における位置誤差を低減する補正係数を計算するための方法であって、
上記4点探針は、本体と、1つの探針をそれぞれ含む4つの探針アームとを有し、
上記探針アームは上記本体から平行に延在し、
上記4点探針は、電気信号を送信及び受信する試験装置と上記探針との間に電気的な接触を確立するための複数の電気接点を含み、
上記方法は、
上記探針アームを、上記試験サンプルの表面に接触するように位置合わせするステップと、
第1及び第2の探針アームを備える第1の組と、第3及び第4の探針アームを備える第2の組を選択するステップと、
上記試験装置から、上記第1の組の上記第1の探針アームを介して上記第1の組の上記第2の探針アームに、上記試験サンプル中を伝搬する第1の電流を印加するステップと、
上記第2の組の上記第3及び第4の探針アーム間の第1の誘起された電圧を検出するステップと、
上記第1の電圧と上記第1の電流との比である第1の4点抵抗Rfirstを計算するステップと、
第1及び第2の探針アームを備えかつ上記第1の組の上記探針アームのうちの一方のみを含む第3の組と、第3及び第4の探針アームを備えかつ上記第2の組の上記探針アームのうちの一方のみを含む第4の組を選択するステップと、
上記試験装置から、上記第3の組の上記第1の探針アームを介して上記第3の組の上記第2の探針アームに、上記試験サンプル中を伝搬する第2の電流を印加するステップと、
上記第4の組の上記第3及び第4の探針アームにおいて第2の誘起された電圧を検出するステップと、
上記第2の電圧と上記第2の電流との比である第2の4点抵抗Rsecondを計算するステップと、
上記第1及び第2の4点抵抗に基づいて補正係数を計算するステップとを含む、補正係数を計算するための方法。
2.上記方法は、上記補正係数を用いて、上記試験サンプルの抵抗を計算するための測定を実行することをさらに含む請求項1記載の方法。
3.上記探針は遠隔の位置に繰り返し移動され、
請求項1及び2記載のステップは各位置に対して繰り返し実行される請求項2記載の方法。
4.位置誤差を低減又は解消する補正係数を用いて、4点探針を用いる抵抗測定を実行するための方法であって、
上記4点探針は、本体と、1つの探針をそれぞれ含む4つの探針アームとを有し、
上記探針アームは上記本体から平行に延在し、
上記4点探針は、電気信号を送信及び受信する試験装置と上記探針との間に電気的な接触を確立するための複数の電気接点を含み、
上記方法は、
上記探針アームを、上記試験サンプルの表面に接触するように位置合わせするステップと、
第1及び第2の探針アームを備える第1の組と、第3及び第4の探針アームを備える第2の組を選択するステップと、
上記試験装置から、上記第1の組の上記第1の探針アームを介して上記第1の組の上記第2の探針アームに、上記試験サンプル中を伝搬する第1の電流を印加するステップと、
上記第2の組の上記第3及び第4の探針アームにおいて第1の誘起された電圧を検出するステップと、
上記第1の電圧と上記第1の電流との比である第1の4点抵抗Rfirstを計算するステップと、
第1及び第2の探針アームを備えかつ上記第1の組の上記探針アームのうちの一方のみを含む第3の組と、第3及び第4の探針アームを備えかつ上記第2の組の上記探針アームのうちの一方のみを含む第4の組を選択するステップと、
上記試験装置から、上記第3の組の上記第1の探針アームを介して上記第3の組の上記第2の探針アームに、上記試験サンプル中を伝搬する第2の電流を印加するステップと、
上記第4の組の上記第3及び第4の探針アーム間の第2の誘起された電圧を検出するステップと、
上記第2の電圧と上記第2の電流との比である第2の4点抵抗Rsecondを計算するステップと、
上記第1及び第2の4点抵抗に基づいて補正係数を計算するステップと、
上記補正係数を用いて、上記試験サンプルの抵抗を計算するステップとを含む、4点探針を用いる抵抗測定を実行するための方法。
5.上記探針は遠隔の位置に繰り返し移動され、
請求項4記載のステップは各位置に対して繰り返し実行される請求項4記載の方法。
6.試験サンプル及び試験探針をそれぞれ収容するための第1及び第2のホルダと、
請求項1及び/又は請求項4記載の方法のコンピュータによる実行を記憶するための記憶装置と、
請求項1及び/又は請求項4記載の方法の上記コンピュータによる実行を実行するためのマイクロプロセッサとを有する試験装置。
4つの探針の位置及び当該探針間の距離の概略図である。 試験サンプルの表面上に位置合わせされた4つの探針の概略図である。 4点探針の構成及びこれらの探針間の距離の概略図である。 4点探針の構成及びこれらの探針間の距離の概略図である。 4点探針の構成及びこれらの探針間の距離の概略図である。 c=aのときの、α、β及びγの対数関数をb/aの関数として示す概略図である。 インライン方向に平行なバリアに起因する誤差の数値シミュレーションの概略図である。 矩形サンプルに対する測定誤差の数値シミュレーションの概略図である。 シミュレーション結果の別の図である。 本発明に係る方法を表すブロック図である。

Claims (4)

  1. 本体と、探針チップをそれぞれ含む複数の探針アームとを有する探針を用いることによって試験サンプルの特徴的な電気的特性を取得するための方法であって、
    上記特徴的な電気的特性は抵抗の特性を含み、
    上記複数は少なくとも4であり、
    上記探針アームは上記本体から平行に延在し、
    上記探針は、上記探針チップとの間で電気信号を送信及び受信する試験装置と上記探針チップとの間に電気的な接触を確立するための電気接点を含み、
    上記方法は、
    (a)上記探針チップを、上記試験サンプルの表面に接触するように位置合わせするステップと、
    (b)2つの探針チップの第1の組間に電流を印加し、当該第1の組の探針チップの何れをも含まない2つの探針チップの第2の組間の電圧を決定することにより測定を実行するための4つの探針チップのサブセットを選択し、上記測定を探針チップ組の全ての組合せについて実行するステップと、
    (c)上記特徴的な電気的特性のモデル値を確立するステップと、
    (d)上記モデル値に基づいて、上記特徴的な電気的特性のモデルデータを計算するステップとを含み、
    上記測定及び上記計算されたモデルデータが収束しないときには、調整されたモデル値を確立しかつ上記調整されたモデル値を用いてステップ(d)を繰り返し、
    上記測定及び上記計算されたモデルデータが収束するときには、上記モデルデータから上記特徴的な電気的特性を抽出する、電気的特性を取得するための方法。
  2. 上記ステップ(b)は、上記測定のうちの1つの測定の補正された値を計算することをさらに含む請求項記載の方法。
  3. 上記特徴的な電気的特性は、最上層の抵抗R、最下層の抵抗R及び抵抗と面積の積RAであり、
    上記モデルデータは、以下の式を用いて計算され、
    Figure 0005367371
    遷移長λは以下の式を用いて計算される
    Figure 0005367371
    請求項1又は2記載の方法。
  4. 上記方法は、上記計算されたモデルデータの1つに対して補正を実行することをさらに含む請求項1乃至3のいずれか1つの請求項記載の方法。
JP2008535888A 2005-10-17 2006-10-17 4点抵抗測定のインラインの位置誤差の解消 Active JP5367371B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP05388087.8 2005-10-17
EP05388087A EP1775594A1 (en) 2005-10-17 2005-10-17 Eliminating in-line positional errors for four-point resistance measurement
PCT/DK2006/000584 WO2007045246A1 (en) 2005-10-17 2006-10-17 Eliminating inline positional errors for four-point resistance measurement

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2009511925A JP2009511925A (ja) 2009-03-19
JP2009511925A5 JP2009511925A5 (ja) 2009-11-26
JP5367371B2 true JP5367371B2 (ja) 2013-12-11

Family

ID=35822623

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008535888A Active JP5367371B2 (ja) 2005-10-17 2006-10-17 4点抵抗測定のインラインの位置誤差の解消

Country Status (7)

Country Link
US (2) US7852093B2 (ja)
EP (2) EP1775594A1 (ja)
JP (1) JP5367371B2 (ja)
KR (1) KR101341235B1 (ja)
CN (1) CN101331403B (ja)
IL (2) IL190761A (ja)
WO (1) WO2007045246A1 (ja)

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2237052A1 (en) 2009-03-31 2010-10-06 Capres A/S Automated multi-point probe manipulation
US8564308B2 (en) * 2009-09-30 2013-10-22 Tektronix, Inc. Signal acquisition system having reduced probe loading of a device under test
CN101872002B (zh) * 2010-05-28 2016-01-20 上海华虹宏力半导体制造有限公司 探针检测装置及其方法
CN102004187B (zh) * 2010-09-21 2013-07-17 江苏大学 串联附加电阻差值法的特小直流电阻测量方法
US9644939B2 (en) 2010-12-21 2017-05-09 Capres A/S Single-position hall effect measurements
EP2469271A1 (en) 2010-12-21 2012-06-27 Capres A/S Single-position Hall effect measurements
EP2498081A1 (en) 2011-03-08 2012-09-12 Capres A/S Single-position hall effect measurements
CN103048555B (zh) * 2011-10-13 2015-07-01 无锡华润上华科技有限公司 薄层电阻等值线图的测试装置
EP2677324A1 (en) 2012-06-20 2013-12-25 Capres A/S Deep-etched multipoint probe
US10302677B2 (en) * 2015-04-29 2019-05-28 Kla-Tencor Corporation Multiple pin probes with support for performing parallel measurements
EP3566062B1 (en) * 2017-01-09 2020-11-04 Capres A/S A position correction method and a system for position correction in relation to four-point resistance measurements
JP6985196B2 (ja) * 2018-03-27 2021-12-22 日東電工株式会社 抵抗測定装置、フィルム製造装置および導電性フィルムの製造方法
CN111239083A (zh) * 2020-02-26 2020-06-05 东莞市晶博光电有限公司 一种手机玻璃油墨红外线透过率测试设备及相关性算法
CN112461900B (zh) * 2021-02-04 2021-04-20 微龛(广州)半导体有限公司 基于伪MOS的InGaAs几何因子表征方法及系统
US11946890B2 (en) * 2021-05-24 2024-04-02 Kla Corporation Method for measuring high resistivity test samples using voltages or resistances of spacings between contact probes

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2659861A (en) 1951-11-01 1953-11-17 Branson Instr Apparatus for electrical thickness measurement
US3456186A (en) * 1966-10-31 1969-07-15 Collins Radio Co Circuit for measuring sheet resistivity including an a.c. current source and average reading d.c. voltmeter switchably connected to pairs of a four probe array
NL7008274A (ja) * 1970-06-06 1971-12-08
US3676775A (en) * 1971-05-07 1972-07-11 Ibm Method for measuring resistivity
US4546318A (en) 1983-03-11 1985-10-08 Mobil Oil Corporation Method for regulating current flow through core samples
US4703252A (en) 1985-02-22 1987-10-27 Prometrix Corporation Apparatus and methods for resistivity testing
US4775281A (en) 1986-12-02 1988-10-04 Teradyne, Inc. Apparatus and method for loading and unloading wafers
US4989154A (en) 1987-07-13 1991-01-29 Mitsubishi Petrochemical Company Ltd. Method of measuring resistivity, and apparatus therefor
US4929893A (en) 1987-10-06 1990-05-29 Canon Kabushiki Kaisha Wafer prober
US5691648A (en) 1992-11-10 1997-11-25 Cheng; David Method and apparatus for measuring sheet resistance and thickness of thin films and substrates
WO1994011745A1 (en) * 1992-11-10 1994-05-26 David Cheng Method and apparatus for measuring film thickness
US6747445B2 (en) 2001-10-31 2004-06-08 Agere Systems Inc. Stress migration test structure and method therefor
JP2004125460A (ja) * 2002-09-30 2004-04-22 Nitto Denko Corp シート抵抗値測定機器および測定方法
US6745445B2 (en) * 2002-10-29 2004-06-08 Bard Peripheral Vascular, Inc. Stent compression method
US6943571B2 (en) 2003-03-18 2005-09-13 International Business Machines Corporation Reduction of positional errors in a four point probe resistance measurement
US7212016B2 (en) * 2003-04-30 2007-05-01 The Boeing Company Apparatus and methods for measuring resistance of conductive layers
KR100608656B1 (ko) 2003-09-20 2006-08-04 엘지전자 주식회사 모터의 속도제어장치
US7009414B2 (en) 2003-10-17 2006-03-07 International Business Machines Corporation Atomic force microscope and method for determining properties of a sample surface using an atomic force microscope
US7034519B2 (en) 2004-01-08 2006-04-25 International Business Machines Corporation High frequency measurement for current-in-plane-tunneling

Also Published As

Publication number Publication date
US7944222B2 (en) 2011-05-17
EP1775594A1 (en) 2007-04-18
WO2007045246A1 (en) 2007-04-26
CN101331403B (zh) 2012-09-26
IL190761A0 (en) 2008-11-03
CN101331403A (zh) 2008-12-24
KR20080059308A (ko) 2008-06-26
IL215137A (en) 2015-10-29
KR101341235B1 (ko) 2013-12-12
IL190761A (en) 2012-03-29
US20110084706A1 (en) 2011-04-14
US20080294365A1 (en) 2008-11-27
IL215137A0 (en) 2011-10-31
JP2009511925A (ja) 2009-03-19
EP1949115A1 (en) 2008-07-30
US7852093B2 (en) 2010-12-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5367371B2 (ja) 4点抵抗測定のインラインの位置誤差の解消
EP1780550A1 (en) A probe for testing electrical properties of test samples
JP4796144B2 (ja) 送電線を通る電力流を監視する方法及びシステム
US6943571B2 (en) Reduction of positional errors in a four point probe resistance measurement
CN106575176B (zh) 输入装置
US8374803B2 (en) Damage detection apparatus, damage detection method and recording medium
US20040051522A1 (en) Techniques for electrically characterizing tunnel junction film stacks with little or no processing
JP2009511925A5 (ja)
CN110333543B (zh) 基于反射系数分析的低阻体解释及成像方法与系统
CN107636476B (zh) 支持执行并行测量的多引脚探针
CN110097014A (zh) 一种基于测量轨迹的量子比特读取信号处理方法
JP5100612B2 (ja) 真直度測定方法及び真直度測定装置
US20110037486A1 (en) Nucleotide capacitance measurement for low cost dna sequencing
CN104215413B (zh) 适用于古建筑木梁扰度变形的长期监测方法
EP1855085A1 (en) Correction method for a contour measuring instrument
CN104850255A (zh) 触控面板的触摸位置探测方法、触控面板检测方法及触控面板检测装置
KR101662679B1 (ko) 절연 외피 내에서의 도전체의 중심 위치를 측정하기 위한 방법 및 디바이스
George et al. Detailed study on error characteristics of core-less hall-effect current transducer
JP6197261B2 (ja) 測定機の校正方法及びその装置
CN100523721C (zh) 表面地形的重新构建
JP6570987B2 (ja) 測定装置および測定方法
Watral et al. Practical validation of a flow meter design environment
CN107315116B (zh) 一种利用pvdf叠堆薄块的逆压电效应实现对直流电场强度检测的装置
CN108459557A (zh) 零件加工尺寸评测方法
Johnston Using a sensitivity study to facilitate the design of a multi-electrode array to measure six cardiac conductivity values

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20091007

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20091007

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20121113

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20130208

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20130218

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130225

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130507

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130712

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130820

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130911

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5367371

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250