JP5365061B2 - 注入装置および注入方法 - Google Patents

注入装置および注入方法 Download PDF

Info

Publication number
JP5365061B2
JP5365061B2 JP2008119851A JP2008119851A JP5365061B2 JP 5365061 B2 JP5365061 B2 JP 5365061B2 JP 2008119851 A JP2008119851 A JP 2008119851A JP 2008119851 A JP2008119851 A JP 2008119851A JP 5365061 B2 JP5365061 B2 JP 5365061B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafers
pair
liquid resin
sealing member
space
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2008119851A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2009272381A5 (ja
JP2009272381A (ja
Inventor
惠 片桐
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Priority to JP2008119851A priority Critical patent/JP5365061B2/ja
Publication of JP2009272381A publication Critical patent/JP2009272381A/ja
Publication of JP2009272381A5 publication Critical patent/JP2009272381A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5365061B2 publication Critical patent/JP5365061B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Description

本発明は、注入装置に関する。より詳細には、半導体素子が形成されたウエハ等を貼り合わせる場合に、当該ウエハの間隙に、液体樹脂等の液体を注入する注入装置に関する。
半導体装置の実効的な実装密度を向上させる技術のひとつとして、チップを積層する構造がある。パッケージング前のチップを積層した積層チップ半導体モジュールは、実装密度の向上に止まらず、チップ相互の配線を短縮することにより処理を高速化できる。
積層チップ半導体モジュールを製造する場合には、ウエハ単位で接合した後にチップを切り分ける手順が採られる場合がある。下記の特許文献1には、メッキバンプを有するシリコンウエハとベース基板とを液体樹脂により貼り合わせた後に分割する半導体装置の製造方法が記載されている。また、下記の特許文献2には、重ね合わせたウエハの合わせ面を真空環境下で液剤に接触させて注入することが記載されている。更に、下記の特許文献3に記載には、重ね合わせたウエハの間に液体樹脂を注入する場合に、ウエハ間で液体樹脂に空泡が生じないように液体樹脂を予め脱泡することが記載される。
特開平10−027827号公報 特開2006−203084号公報 特開2006−049441号公報
積層ウエハにおけるウエハの間隙は数μmから十数μm程度であり、そこに注入される液体樹脂の容積もせいぜい数ccに過ぎない。一方、積層ウエハの直径は200mmから300mmに及び、今後は更に大きくなる場合があり得る。従って、真空環境下で積層ウエハに液体樹脂を注入する場合には、積層ウエハの直径に見合った大きな真空槽が用いられる。このため、真空槽を所要の真空度まで減圧する排気作業には多大な時間が費やされる。
そこで、上記課題を解決すべく、本発明により、表面を互いに向き合わせ且つ互いに間隔をおいて重ね合わされた一対のウエハの周縁を気密に封止しつつ一対のウエハを保持する保持部、一対のウエハに挟まれた空間に液体樹脂を流入させる流入部、および、空間を負圧源に連通させる排気部を有する封止部材と、封止部材を傾動自在に支持する支持部と、を備え、前記一対のウエハは前記封止部材の傾動により傾斜し、前記一対のウエハの水平および垂直を含む任意の傾斜位置で、前記空間へ前記液体樹脂を注入する注入装置が提供される。
なお、上記の発明の概要は、本発明の必要な特徴の全てを列挙したものではない。また、これらの特徴群のサブコンビネーションもまた、発明となり得る。
以下、発明の実施の形態を通じて本発明を説明するが、以下の実施形態は特許請求の範囲にかかる発明を限定するものではない。また、実施形態の中で説明されている特徴の組み合わせの全てが発明の解決に必須であるとは限らない。
図1は、支持部110および封止部材100を含む注入装置300の一部を示す平面図である。また、図2は、封止部材100の側面図である。封止部材100は、案内部120、基盤130、収容部140および蓋部150を有する。
支持部110は、封止部材100全体を搭載できる広い面積を有して水平に載置される。支持部110の一方の縁部(図上では左側)近傍には、軸支部112が配置される。また、他方の縁部近傍(図上では右側)には、位置決めピン114が配置される。
更に、支持部110上面の側端部には、一対の案内部120が配置される。案内部120は、支持部110の表面から垂直に起立し、それぞれが円弧状の円弧面122を有する。これらの円弧面122は、後述する基盤130の傾動を案内すると共に、水平および垂直を含む任意の傾斜角度で傾斜した基盤130の傾斜位置の維持を助ける。
基盤130の一端(図中の左側)には、被軸支部134が設けられている。被軸支部134は、基盤130の一端の縁部に沿って伸びる軸線周りに回動可能に軸支部112に軸支される。これにより、基盤130は、軸支部112を介して支持部110に前記軸線周りに傾動可能に支持される。基盤130の他端(図中の右側)には、位置決め孔136が形成され、位置決めピン114の上端が差し込まれる。これにより、基盤130は、位置決めされると共に支持され、図2に示す状態では水平に保持される。
また、基盤130の他端には、上方に起立したハンドル138が装着される。これにより、基盤130を傾動させる場合の操作が容易且つ確実になる。
更に、基盤130の側端部には、それぞれ一対の被案内部132が装着される。一対の被案内部132は、案内部120の円弧面122を挟んで、基盤130が傾動する場合に円弧面122に沿って変位する。また、案内部120を挟んで、水平および垂直を含む基盤130の傾斜角度を維持する。
また更に、基盤130の上面には、互いに積層された収容部140および蓋部150が搭載される。収容部140は、スペーサ131により、基盤130から僅かに浮いている。これにより、基盤130および収容部140の間の熱等の伝導が抑制される。
蓋部150は、収容部140の上面を覆うように配置され、止めネジ156により収容部140に締結される。蓋部150により封止された収容部140の内部には、表面を互いに対向させて積層された一対のウエハを含む積層ウエハ190が収容される。この実施形態では、積層ウエハ190のオリエンテーションフラット(オリフラ)191が、軸支部112に支持された被軸支部134の傾動軸と平行に配置されているが、積層ウエハ190の向きがこれに限定されるわけではない。
また、収容部140の側面および蓋部150の上面には、それぞれ複数の継ぎ手142、152が装着される。継ぎ手142は、液体を流通させる管を接続して収容部140の内部に連通させることができる。これにより、継ぎ手142を流入部として使用できる。継ぎ手152は、圧力管を脱着でき、収容部140の内部を外部の真空源に連通させる排気部として使用できる。
図3は、封止部材100の他の状態を示す側面図である。なお、図1、図2と共通な構成要素には共通の参照番号を付して重複する説明を省く。
傾動して傾斜した基盤130は、案内部120および被案内部132の協働により、水平および垂直を含む任意の傾斜角度で傾斜した傾斜位置に維持される。これにより、簡単な操作で、収容部140および蓋部150の傾斜角度を任意に設定できる。
図4は、封止部材100の構造を示す部分断面図である。この図は、図1に矢印Pで示した垂直な面に沿って切った断面の構造を示す。また、図1、図2および図3と共通な構成要素には共通の参照番号を付して重複する説明を省く。
図示のように、収容部140の内部には積層ウエハ190が収容され、更に、蓋部150により上方から封止される。積層ウエハ190と収容部140の間、積層ウエハ190および蓋部150の間、並びに、収容部140および蓋部150の間には、それぞれOリング160が間挿され、気密性を向上させている。
収容部140に収容された積層ウエハ190は、表面を向き合わせて接合された一対のウエハ192を含む。ウエハ192の各々には、フォトリソグラフィ等により、既に素子、回路等を含むデバイス194が形成されている。このため、ウエハ192の各々の表面は平坦ではなく、積層ウエハ190の内部において、ウエハ192の間に空間196が生じている。
なお、積層ウエハ190の構造がこれに限られるわけではなく、一方のウエハ192が未加工の平坦なウエハ192である場合、シリコンウエハと化合物半導体ウエハ等の異種のウエハ192が組み合わされる場合、ウエハ192の裏面も研磨等の加工がされている場合等、種々の場合があり得る。また、一方のウエハ192自体が積層ウエハ190である場合もあり得る。
積層ウエハ190の側端面は、収容部140の内部に形成された流路146の内部に開口する。また、流路146に対しては、継ぎ手142、152が連通する。即ち、蓋部150に形成された孔状の排気部154を介して継ぎ手152が連通する。また、収容部140に形成された流入部144を介して継ぎ手142が連通する。
なお、流入部144は、継ぎ手142毎に収容部140に設けられる。このように、封止部材は、保持した一対のウエハの周縁に沿って、流入部を複数有してもよい。これにより、液体樹脂の注入速度を向上させることができる。
また、収容部140および基盤130の間には、電熱線等を含む加熱部170が配置される。これにより、積層ウエハ190を適宜加熱して、注入する液体樹脂の粘度等を調整できる。
また、蓋部150は、止めネジ156を抜くことにより、収容部140から取り外すことができる。これにより、収容部140の上面を開放させて、積層ウエハ190を装入または搬出できる。
図5は、封止部材100の構造を示す部分断面図である。この図は、図1に矢印Qで示した垂直な面に沿って切った断面の構造を示す。また、図1、図2、図3および図4と共通な構成要素には共通の参照番号を付して重複する説明を省く。
図示のように、流入部144および排気部154が形成されていない部分においても、収容部140には流路146が形成される。これにより、流路146は、積層ウエハ190の側端面全周に沿って形成される。
従って、例えば継ぎ手152を真空源に連通させることにより、流路146を介して、積層ウエハ190の空間196内を排気できる。この場合、流路146が積層ウエハ190の全周にわたって形成されているので、効率よく排気できる。また、排気すべき領域は、空間196および流路146の内部に限られるので、その容積は小さく、排気に要する時間も短い。
図6は、排気系200を含む注入装置300全体の構造を模式的に示す図である。図示のように、注入装置300は、封止部材100の継ぎ手142に、注入バルブ260を介して接続された樹脂容器180と、継ぎ手152に排気バルブ240を介して接続されたドライポンプ210とを更に備える。
ドライポンプ210は、排気バルブ220、230を介して、樹脂容器180にも連通する。また、排気バルブ230、240およびベントバルブ250の開閉による作用を確認する目的で、それぞれの近傍には真空計232、242、252が配置される。
ドライポンプ210は、排気バルブ220、240を介して、封止部材100の継ぎ手152に連通する。これにより、ドライポンプ210を稼動させた状態で排気バルブ240を開放することにより、封止部材100の流路146を介して、積層ウエハ190の空間196を排気できる。
樹脂容器180は、液体樹脂186を収容して、封止板182により封止される。これにより、樹脂容器180の内部は気密に封止される。また、樹脂容器180は、底部に装着されて内部に連通する継ぎ手181から、注入バルブ260を介して封止部材100の継ぎ手142に連通する。これにより、注入バルブ260を操作することにより、封止部材100の流路146に液体樹脂186を流入させることができる。
また、樹脂容器180は、封止板182に装着されて内部に連通する継ぎ手183から、排気バルブ230を介して、ドライポンプ210に連通する。これにより、ドライポンプ210を稼動させた状態で排気バルブ230を開放することにより、樹脂容器180および封止板182の内部を減圧して、液体樹脂186を脱泡させることができる。
更に、樹脂容器180は、封止板182に装着されて内部に連通する継ぎ手185から、ベントバルブ250およびレギュレータ270を介してボンベ280に連通する。ボンベ280には、乾燥空気、窒素ガス等が充填されている。これにより、ベントバルブ250を開放することにより、一旦減圧した樹脂容器180および封止板182の内部を、レギュレータ270に設定した任意の圧力まで加圧できる。なお、塵芥等による樹脂容器180内部の汚染を防止する目的で、ベントバルブ250よりも上流に、フィルタ等を設けてもよい。
また更に、樹脂容器180は、加熱部184を備える。これにより、樹脂容器180においても、液体樹脂186の温度を制御できる。
このように、樹脂容器180には、樹脂容器180をドライポンプ210に連通させる連通部である継ぎ手183と、樹脂容器180を大気に連通させる連通部である継ぎ手185と、樹脂容器180に収容された液体樹脂186を流入部144に向けて流し出す流出部としての継ぎ手181とを装着して、外部から気密に遮断された状態で液体樹脂186を収容させてもよい。これにより、気密容器内部の最小限の空間を減圧することにより、液体樹脂を脱泡できる。また、液体樹脂の容器を封止部材から分離したことにより、機材の液体樹脂による汚染を最小限に止めることができる。
また、樹脂容器180は、一対のウエハ192の体積と、一対のウエハ192に挟まれた空間196の体積とを合わせた体積よりも小さな容量を有してもよい。これにより、減圧すべき空間の容積が小さくなるので、減圧に要する時間を短縮できる。
図7は、液体樹脂186を積層ウエハ190に注入する手順を示す流れ図である。積層ウエハ190に液体樹脂186を注入する作業が開始されると、封止部材100および樹脂容器180を所定の設定温度に維持する制御が開始される(ステップS101)。
図7は、液体樹脂186を積層ウエハ190に注入する手順を示す流れ図である。積層ウエハ190に液体樹脂186を注入する作業が開始されると、封止部材100および樹脂容器180を所定の設定温度に維持する制御が開始される(ステップS101)。設定温度は、液体樹脂186の粘性を低下させつつ、硬化は開始させない範囲に決定される。換言すれば、使用する液体樹脂186の特性に応じて設定温度が決定される。
次に、液体樹脂186を樹脂容器180に充填する(ステップS102)。液体樹脂186を収容した樹脂容器180は、封止板182により封止される。続いて、液体樹脂186を注入する対象となる積層ウエハ190を、封止部材100の収容部140に装入する(ステップS103)。更に、蓋部150を収容部140に装着し、止めネジ156により締結する。
次に、ドライポンプ210の運転を開始し(ステップS104)、ドライポンプ210の動作が定常状態になったところで、排気バルブ220、230、240を開放する(ステップS105)。このとき、ベントバルブ250は閉鎖されている。これにより、積層ウエハ190の空間196および樹脂容器180の内部の気体が排気される。
樹脂容器180内の減圧により、液体樹脂186の脱泡が開始される(ステップS106)。脱泡の進捗状況は、既知にデータに基づいて処理時間に応じて管理してもよい。また、真空計232を監視して、樹脂容器180の内部圧力が液体樹脂186の飽和蒸気圧に達したことをもって完了してもよい。液体樹脂186の脱泡は、排気バルブ230を閉鎖することにより完了する(ステップS107)。
一方、封止部材100側に接続された真空計242を読み取ることにより、積層ウエハ190の空間196および封止部材100の流路146の内部圧力が判る。これにより、樹脂容器180側の圧力と封止部材100側の圧力とが均衡した時点で、排気バルブ240を閉鎖して排気を完了する(ステップS108)。
次に、レギュレータ270の設定圧力を調整する(ステップS109)。また、ハンドル138を持ち上げることにより、封止部材100に収容された積層ウエハ190の傾斜角度を、注入される液体樹脂186の粘度、液体樹脂186の質量、積層ウエハ190におけるウエハ192の間隔等に応じて調整する(ステップS110)。例えば、液体樹脂186の粘性が低く質量が大きく、且つ、積層ウエハ190のウエハ192の間隔が大きい場合、積層ウエハ190のウエハ192と支持部110とのなす角度が直角になるように積層ウエハ190が立ち上がっていると、ウエハ192間への液体樹脂186の注入が困難になる。このような場合、ウエハ192と支持部110とのなす角度が小さくなる方向へ封止部材100を傾動させることによって、積層ウエハ190を傾斜させる。
この状態で、まず、注入バルブ260を開放する(ステップS111)。これにより、液体樹脂186が流路146に流入して、流路146内に露出した積層ウエハ190の周面が液体樹脂186に浸漬される。
その後、ベントバルブ250を開放する(ステップS112)。これにより、樹脂容器180の内部は、封止部材100の内部に比較すると大きくる。このため、流路146の内部において積層ウエハ190の空間196に接した液体樹脂186は、空間196の内部に注入される(ステップS113)。
なお、液体樹脂186充填の完了は、液体樹脂186の注入量等を監視して管理してもよい。また、液体樹脂186の注入を一定の条件で繰り返し実行する場合は、既知の所要時間により液体樹脂186の注入を終了してもよい。
こうして、表面を互いに向き合わせ且つ互いに間隔をおいて重ね合わされた一対のウエハ192の周縁を気密に封止しつつ積層ウエハ190を保持する封止部材100、一対のウエハ192に挟まれた空間196に液体樹脂186を流入させる流入部144、および、空間196をドライポンプ210に連通させる排気部154を有する蓋部150と、収容部140および蓋部150を傾動自在に支持する支持部110とを備え、を備え、積層ウエハ190は封止部材100の傾動により傾斜し、積層ウエハ190の水平および垂直を含む任意の傾斜位置で、空間196へ液体樹脂186を注入する注入装置300が形成される。これにより、積層ウエハ190内部を排気する場合に、積層ウエハ190の外側を排気しなくてもよい。また、注入される液体樹脂186の粘度、液体樹脂186の質量、積層ウエハ190におけるウエハ192の間隔等に応じて積層ウエハ190の傾斜角度を調節することにより、液体樹脂186の注入条件を調節することができる。これにより、ウエハ192間への液体樹脂186の注入を容易に行うことができる。
また、樹脂容器180の容量は、空間196を含む積層ウエハ190の体積よりも小さくすることができる。これにより、液体樹脂186を注入する場合に求められる排気量を著しく低減できる。従って、樹脂容器180を減圧する場合に求められる作業時間も削減でき、積層ウエハ190を用いたデバイスを製造する場合のスループットが向上される。
図8は、封止部材100の他の構造を示す部分断面図である。なお、この封止部材100は、以下に説明する部分を除くと、これまでに示した封止部材100と同じ構造を有するので、他の実施形態と同じ構成要素には同じ参照番号を付して重複する説明を省く。
図示のように、この封止部材100は、収容した積層ウエハ190の上側にも加熱部172を有する。このような構造により、加熱部172は、積層ウエハ190の裏面直近で積層ウエハ190を加熱するので、積層ウエハ190の温度を精度よく制御できる。また、加熱部172および積層ウエハ190の間には、熱を媒介する大気が入り込んでいるので、真空槽内で加熱する場合に比較して効率よく熱を伝えることができる。なお、加熱部172としては、電熱線の他、赤外線ランプ等を使用できる。
このように、封止部材100は、積層ウエハ190の上面を加熱する加熱部172を更に有してもよい。これにより、非真空雰囲気で、積層ウエハ190を効率よく加熱できる。また、用途に応じて加熱部172を交換できるので、適切な種類、特性、容量の加熱部172を用いることができる。
図9は、封止部材100のまた他の構造を示す部分断面図である。なお、この封止部材100も、以下に説明する部分を除くと、これまでに示した封止部材100と同じ構造を有する。従って、他の実施形態と同じ構成要素には同じ参照番号を付して重複する説明を省く。
図示のように、この封止部材100において、蓋部150は、保持した積層ウエハ190の内側上面を覆うカバー部材151を有する。カバー部材151は、蓋部150および積層ウエハ190の上面と共に包囲した空間を気密に封止する。
このように、封止部材100は、積層ウエハ190の上面を覆うカバー部材151を有してもよい。これにより、積層ウエハ190の裏面を、外部からの接触等から保護できる。
また、カバー部材151は、孔状の排気部155を介して上記空間の内外を連通させる継ぎ手153を有してもよい。これにより、継ぎ手153を介して、積層ウエハ190の上面が面する空間を真空源等に連通させることができる。
このように、カバー部材151は積層ウエハ190の上面を気密に覆い、積層ウエハ190内の空間196が減圧された場合に、裏面に面した空間を減圧してもよい。これにより、表裏の圧力差によりウエハ192に応力が作用することを防止できる。
更に、この封止部材100は、カバー部材151の内側に加熱部172を有する。加熱部172は、積層ウエハ190の上面、蓋部150の内面およびカバー部材151の下面により画成された空間で熱を発生するので、積層ウエハ190を効率よく加熱できる。
このように、カバー部材151は、積層ウエハ190の上面を加熱する加熱部172を含んでもよい。これにより、外部への放熱を遮断して、積層ウエハ190を効率よく加熱できる。また、加熱部172への外部からの接触を防止できる。
以上、本発明を実施の形態を用いて説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施の形態に記載の範囲には限定されない。また、上記実施の形態に、多様な変更または改良を加え得ることは当業者に明らかである。更に、その様な変更または改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。
支持部110および封止部材100を含む注入装置300の一部を示す平面図である。 封止部材100の側面図である。 封止部材100の他の状態を示す側面図である。 封止部材100の構造を示す部分断面図である。 封止部材100の構造を示す部分断面図である。 排気系200を含む注入装置300全体の構造を模式的に示す図である。 液体樹脂186の注入手順を示す流れ図である。 封止部材100の他の構造を示す部分断面図である。 封止部材100のまた他の構造を示す部分断面図である。
符号の説明
100 封止部材、110 支持部、112 軸支部、114 位置決めピン、120 案内部、122 円弧面、130 基盤、131 スペーサ、 132 被案内部、134 被軸支部、136 位置決め孔、138 ハンドル、140 収容部、142、152、153、181、183、185 継ぎ手、144 流入部、146 流路、150 蓋部、151 カバー部材、154、155 排気部、156 止めネジ、160 Oリング、170、172、184 加熱部、180 樹脂容器、182 封止板、186 液体樹脂、190 積層ウエハ、191 オリエンテーションフラット(オリフラ)、192 ウエハ、194 デバイス、196 空間、200 排気系、210 ドライポンプ、220、230、240 排気バルブ、232、242、252 真空計、250 ベントバルブ、260 注入バルブ、270 レギュレータ、280 ボンベ、300 注入装置

Claims (16)

  1. 表面を互いに向き合わせ且つ互いに間隔をおいて重ね合わされた一対のウエハを傾動可能に支持する支持部と、
    前記一対のウエハの周縁を気密に封止しつつ保持する封止部材と、
    前記一対のウエハが水平および垂直を含む任意の傾斜位置におかれた状態で、前記一対のウエハ間の空間に液体樹脂を流入させる流入部と
    を備える注入装置。
  2. 前記一対のウエハの傾斜角度は、前記一対のウエハ間に注入される前記液体樹脂の粘度、前記液体樹脂の質量、及び、前記一対のウエハ間の間隔のうち少なくとも一つに基づいて調整される請求項1に記載の注入装置。
  3. 前記封止部材は、前記流入部と、前記空間を負圧源に連通させる排気部とを有し、前記空間が前記排気部を介して排気された状態で前記液体樹脂が前記流入部を経て前記一対のウエハ間に流入される請求項1又は2に記載の注入装置。
  4. 前記封止部材は、前記流入部を含む複数の流入部を有し、該複数の流入部は、前記支持部により支持された前記一対のウエハの周縁に沿って配置されている請求項3に記載の注入装置。
  5. 前記封止部材は、前記一対のウエハを収容する収容部と、前記収容部の内部を封止すべく前記収容部を覆うように配置される蓋部とを有し、前記流入部及び前記排気部は、それぞれ前記収容部と前記蓋部との間に形成された流路に連通する請求項4に記載の注入装置。
  6. 前記封止部材は、前記一対のウエハの裏面を露出させる開口を有する請求項3から5までのいずれか一項に記載の注入装置。
  7. 前記封止部材は、前記一対のウエハを裏面から加熱する加熱部を更に有する請求項3から6のいずれか一項に記載の注入装置。
  8. 前記封止部材は、前記一対のウエハの裏面を覆うカバー部を有する請求項3から請求項7までのいずれか一項に記載の注入装置。
  9. 前記カバー部は、前記一対のウエハの裏面を加熱する加熱部を含む請求項8に記載の注入装置。
  10. 前記カバー部は前記一対のウエハの裏面を気密に覆い、前記空間が減圧された場合に、前記裏面に面した空間も減圧される請求項8または請求項9に記載の注入装置。
  11. 外部から気密に遮断された状態で液体樹脂を収容する気密室と、
    前記気密室を負圧源に連通させる負圧連通部と、
    前記気密室を正圧源に連通させる正圧連通部と、
    前記気密室に収容された液体樹脂を、前記流入部に流し出す流出部と
    を有する気密容器を更に備える請求項1から10のいずれか一項に記載の注入装置。
  12. 前記気密室は、前記一対のウエハの体積と、前記一対のウエハに挟まれた空間の体積とを合わせた体積よりも小さな容量を有する請求項11に記載の注入装置。
  13. 前記気密容器は、前記気密室に収容した液体を加熱する加熱部を更に備える請求項11または請求項12に記載の注入装置。
  14. 表面を互いに向き合わせ且つ互いに間隔をおいて重ね合わされた一対のウエハを傾動させる傾動ステップと、
    前記一対のウエハの周縁を気密に封止しつつ保持する封止ステップと、
    前記一対のウエハが水平および垂直を含む任意の傾斜位置におかれた状態で、前記一対のウエハ間の空間に液体樹脂を流入させる流入ステップと
    を有する注入方法。
  15. 前記傾動ステップでは、前記一対のウエハ間に注入される前記液体樹脂の粘度、前記液体樹脂の質量、及び、前記一対のウエハ間の間隔のうち少なくとも一つに基づいて前記一対のウエハの傾斜角度が調整される請求項14に記載の注入方法。
  16. 前記流入ステップに先立ち、前記一対のウエハの間の空間を減圧する減圧ステップを更に有し、前記流入ステップでは、前記空間の減圧を開放することにより前記空間に前記液体樹脂を流入させる請求項14または15に記載の注入方法。
JP2008119851A 2008-05-01 2008-05-01 注入装置および注入方法 Active JP5365061B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008119851A JP5365061B2 (ja) 2008-05-01 2008-05-01 注入装置および注入方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008119851A JP5365061B2 (ja) 2008-05-01 2008-05-01 注入装置および注入方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2009272381A JP2009272381A (ja) 2009-11-19
JP2009272381A5 JP2009272381A5 (ja) 2012-01-05
JP5365061B2 true JP5365061B2 (ja) 2013-12-11

Family

ID=41438697

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008119851A Active JP5365061B2 (ja) 2008-05-01 2008-05-01 注入装置および注入方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5365061B2 (ja)

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11340280A (ja) * 1998-05-28 1999-12-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体icの実装方法
JP3990814B2 (ja) * 1998-06-02 2007-10-17 松下電器産業株式会社 電子部品の製造方法および電子部品の製造装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2009272381A (ja) 2009-11-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101501362B1 (ko) 기판처리장치 및 기판처리방법
US20170372920A1 (en) Wafer level packaging of microbolometer vacuum package assemblies
KR102164544B1 (ko) 가스 충진부를 구비하는 웨이퍼 스토리지 장치를 포함하는 반도체 제조 장치
JP4985183B2 (ja) 基板処理装置及び基板処理方法並びに記憶媒体
US8846495B2 (en) Bonding system and bonding method
JP6803542B2 (ja) プローバ及びプローブ検査方法
KR20150036254A (ko) 압착 장치 및 압착 방법
US9607869B2 (en) Bonding system
JP2015142008A (ja) ロードポート装置
KR20160086277A (ko) 접합 장치, 접합 시스템, 접합 방법 및 컴퓨터 기억 매체
KR100979978B1 (ko) 처리 장치, 처리 방법 및 기록 매체
JP5365061B2 (ja) 注入装置および注入方法
JP6415328B2 (ja) 接合方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体、接合装置及び接合システム
JP4133970B2 (ja) ダイキャリア、流体memsデバイス及び流体memsデバイスに流体を充填する方法
KR20190095887A (ko) 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치
JP4563748B2 (ja) 接着剤注入装置および接着剤注入方法
JP2016134419A (ja) 接合方法および接合システム
JP2021097086A (ja) プローバ及びプローブ検査方法
KR102459563B1 (ko) 접합 장치, 접합 시스템, 접합 방법, 및 컴퓨터 기억 매체
JP2009259964A (ja) 液体樹脂注入装置
CN114709149A (zh) 结合工具及结合方法
JP2009259946A (ja) 液体樹脂注入装置
JP7018370B2 (ja) 基板処理装置及び半導体装置の製造方法及びプログラム
JP6770832B2 (ja) 接合方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体、接合装置及び接合システム
JP6333184B2 (ja) 接合装置、接合システム、接合方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20110401

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110414

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20111108

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130528

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20130530

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130718

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130813

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130826

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5365061

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250