JP5361882B2 - 純粋なまたは濃縮された形態のネラールの連続調製プロセス - Google Patents
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Description
・蒸留除去が、上側合流塔領域(1)と、下側合流塔領域(6)と、精留部(2)およびストリッピング部(4)を有する供給部(2、4)と、ストリッピング部(3)および精留部(5)を有する抜出し部(3、5)と、を形成するように塔の長手方向に仕切り壁(T)を有し、80〜200段の理論段と、複数ヶ所、好ましくは2〜4ヶ所、より好ましくは2または3ヶ所の側部取出し箇所と、を備える仕切り壁塔(TK)において、5〜200mbarの絶対運転圧力で、実施され、
・ネラールが、抜出し部(3、5)の中間領域から側部取出し物(f)として純粋なまたは濃縮された形態で取得され、かつ
・低沸点留分(n)が、上側合流塔領域(1)から液体またはガスの側部取出し物として、好ましくは液体側部取出し物として取得される、前記プロセスに関する。
以下の実施例に使用した仕切り壁塔は、それぞれ長さ1.2mおよび内径64mmの5つのガラス製部分から構成されたものであった。金属板で作製された仕切り壁を3つの中間部に挿入した。実験用充填物(Sulzer CY)を仕切り壁領域の下方および上方に設置し、かつ直径5mmのステンレス鋼で作製された金属織物リングを仕切り壁領域に設置した。60mbarの頂部圧力でキシレン異性体混合物を用いて行われた分離性能測定で、塔全体にわたる100段の理論段および仕切り壁領域の約55段の理論段の全分離性能を測定した。したがって、存在する全理論段数は約155段であった。塔は、油加熱式薄膜型蒸発器(0.1m2)と冷却水で冷却される凝縮器とを備えていた。
実施例1に記載の塔に、約590cmの高さで上側合流塔部(1)のさらなるガス側部取出し口(n)を追加した。これもまた、側部凝縮器を備えていた。バランス制御システムを用いて15g/h(±1g/h)の抜出し速度を設定した。
6mのSulzer CY充填物を備え、かつ仕切り壁も側部取出し口も有していない50mmの内径を有する単純なガラス製実験塔(約90段の理論段)で、50.2GC面積%のネラール、47GC面積%のゲラニアールおよび1.3GC面積%の他のシトラール異性体の混合物を、頂部圧力5mbarで連続蒸留した。供給速度は500g/hであった。250g/hを底部で排出させた。塔全体にわたる圧力低下は、11:1の還流比において約28mbarであり、底部温度は121℃であり、かつ頂部温度は81℃であった。
Claims (16)
- 使用されるネラールおよびゲラニアールを含む前記物質混合物が、いずれの場合も、1つ以上の低沸点留分、中沸点留分、および高沸点留分に分離され、かつネラールが、前記側部取出し口において液体またはガスの形態の中沸点留分として純粋な形態で抜き出されるように、前記蒸留分離が実施される、請求項1に記載のプロセス。
- 30〜70重量%の範囲のネラール、70〜30重量%の範囲のゲラニアールおよび0〜5重量%の範囲のさらなる成分からなる物質混合物(ただし、前記重量百分率は合計で100重量%になる)が使用される、請求項1または2に記載のプロセス。
- 前記1基の仕切り壁塔または熱結合の形態で連結される2基の蒸留塔が、10〜40mbarの絶対頂部圧力および20〜50mbarの絶対底部圧力で運転される、請求項1〜3のいずれか1項に記載のプロセス。
- 上側合流塔領域(1)と、下側合流塔領域(6)と、精留部(2)およびストリッピング部(4)を有する供給部(2、4)と、ストリッピング部(3)および精留部(5)を有する抜出し部(3、5)と、を形成するように塔の長手方向に仕切り壁(T)を有する仕切り壁塔(TK)が使用されており、該仕切り壁(T)で仕切られかつ該サブ領域(2)、(3)、(4)、および(5)またはその一部分からなる塔のサブ領域が、構造化充填物またはランダム充填物を備える、請求項1〜4のいずれか1項に記載のプロセス。
- ネラールおよびゲラニアールを含む前記物質混合物(a)が、前記供給部(2、4)の中間領域内に供給され、ネラールが、前記抜出し部(3、5)の中間領域から側部取出し物として純粋形態で取得され、かつ1つ以上の低沸点留分が、前記上側合流塔領域(1)から取り出され、1つ以上の高沸点留分が、前記下側合流塔領域(6)から取り出される、請求項5に記載のプロセス。
- 少なくとも1つの高沸点留分が、前記下側合流塔領域(6)においてガスまたは液体の側部取出し物として取得される、請求項1〜6のいずれか1項に記載のプロセス。
- 少なくとも1つの低沸点留分が、前記上側合流塔領域(1)において液体側部取出し物として取得される、請求項1〜7のいずれか1項に記載のプロセス。
- 純粋な形態の式(I)で示されるネラールを、ネラールおよび式(II)で示されるゲラニアールを含む物質混合物からのネラールの蒸留分離によって調製するための、請求項1〜8のいずれか1項に記載のプロセスであって、
・蒸留除去が、上側合流塔領域(1)と、下側合流塔領域(6)と、精留部(2)およびストリッピング部(4)を有する供給部(2、4)と、ストリッピング部(3)および精留部(5)を有する抜出し部(3、5)と、を形成するように塔の長手方向に仕切り壁(T)を有し、80〜200段の理論段と、複数ヶ所、好ましくは2〜4ヶ所、より好ましくは2または3ヶ所の側部取出し箇所と、を備える仕切り壁塔(TK)において、5〜200mbarの絶対運転圧力で実施され、
・ネラールが、該抜出し部(3、5)の中間領域から側部取出し物(f)として純粋な形態で取得され、かつ
・低沸点留分(n)が、該仕切り壁塔の上側合流サブ領域(1)から液体またはガスの側部取出し物として、好ましくは液体側部取出し物として取得される、上記プロセス。 - 前記供給箇所が前記側部取出し箇所よりも1〜50段高いかまたは低い理論段に配置されることによって、前記供給箇所および前記側部取出し箇所が、理論段の位置に関して前記塔内の異なる高さに配置される、請求項1〜9のいずれか1項に記載のプロセス。
- サブ領域(2)、(3)、(4)、および(5)またはその一部分からなる、前記仕切り壁で仕切られた塔のサブ領域が、構造化充填物もしくはランダム充填物を備え、かつ/または前記仕切り壁が、これらのサブ領域において断熱性を有するように構成されている、請求項1〜10のいずれか1項に記載のプロセス。
- 前記供給部の蒸気ストリームと前記抜出し部の蒸気ストリームとの比が0.8〜1.2になるように、前記仕切り壁の下側端部の蒸気ストリームが、分離用内部構造物の選択および/もしくは大きさ、ならびに/または圧力低下を生成する装置の組込みを介して調整される、請求項1〜11のいずれか1項に記載のプロセス。
- 前記供給部に送られる液体ストリームと前記抜出し部に送られる液体ストリームとの比が、主に液体供給物の場合には0.1〜2.0になり、主にガス供給物の場合には1.0〜2になるように、前記塔の上側合流部(1)から流出する液体が、前記仕切り壁の上側端部において固定または調整可能な設定による制御下で、前記塔内または前記塔外に配置される捕集空間内に捕集されかつ分配される、請求項1〜12のいずれか1項に記載のプロセス。
- 前記留出物が温度制御下で抜き出され、かつ使用される制御温度が、前記塔の上側端部よりも3〜8段下方の理論段に配置される前記塔のサブ領域(1)の測定温度である、請求項1〜13のいずれか1項に記載のプロセス。
- 前記底部生成物が供給速度に依存して定量的制御下で抜き出され、かつ前記側部生成物がレベル制御下で抜き出され、使用される制御パラメーターが塔底部の液レベルである、請求項1〜14のいずれか1項に記載のプロセス。
- 使用される底部蒸発器(SV)が薄膜型装置であり、かつ/または頂部凝縮器(K)がプレート装置として構成され、塔ジャケットに一体化されている、請求項1〜15のいずれか1項に記載のプロセス。
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