JP5357356B2 - 極紫外線放射を使用すると共にゲッター材料を含む揮発性有機化合物吸収部材を有するリソグラフィー装置 - Google Patents
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Description
特許文献11は、光学的要素の近傍に設置されるゲッター積層体によって、EUVの光学作用のための洗浄する解決策と、これらの配置とを開示し、一方で特許文献12は、汚染トラップを通過する紫外線光を有し、紫外線光源及びその近傍と、光に曝される要素との間に介在される汚染トラップの使用を開示する。光学的汚染を避けるための他のアプローチは、特許文献13及び特許文献14に開示され、EUV装置内部の要素から来る汚染を遮断する手段よりもむしろ、リソグラフィー装置内にパージガスのためのゲッター清浄機の使用を提供する。
装置10は、
EUV放射源110と、
全ての方向について放射源から放射される放射の部分を収集して、放射を後のチャンバーに方向づける、集光器111と
を有する第1のチャンバー11と、
放射源から放射された周波数帯から所望の波長を選択すると共に、後のチャンバーへ単色放射を方向づける単色光分光器120
を含む第2のチャンバー12と、
半導体材料で作られた支持体上に配置された高分子フィルムの上に再現されるデザインを有するマスク131を保持するサンプルホルダー130と、
少なくとも1つの反射要素132(しかし、一般的に複数の反射要素が設けられる。例えば、特許文献1の図2参照。)と、
電動部材134により移動される“X−Y”テーブル133と
を含む処理チャンバー13と、
を具備する。
テーブル133上に、半導体材料で作られる支持体135が配置され、支持体135上に、放射によって影響を被る高分子フィルム136が存在し、図1の文字Rは、EUV放射の経路を示す。
Claims (5)
- 高分子フィルムが配置されるようにされた支持体を備える真空処理チャンバーと、
ゲッター材料を含む揮発性有機化合物(VOCs)吸収部材であって、使用中に、高分子フィルムを放射に曝すと、有機分子を高分子フィルムから吸収する揮発性有機化合物(VOCs)吸収部材と、
を備える、極紫外線放射リソグラフィー装置において、
ゲッター材料は、真空処理チャンバー内に、又は適切な開口部により真空処理チャンバーに接続される適切な空間内に配置され、
前記VOCs吸収部材は、真空処理チャンバー内で支持体の近傍にあり、
支持体は、使用の際に、高分子フィルムに局所的に影響を与えるように高分子フィルムに作用する極紫外線放射の経路に対して略垂直に配置され、
前記VOCs吸収部材は、真空処理チャンバー内において、極紫外線放射と同軸に、かつ、極紫外線放射により影響を被る高分子フィルムの近傍に配置される、中空コンテナーの形状を有するゲッターポンプである
ことを特徴とする極紫外線放射リソグラフィー装置。 - 前記中空コンテナーが円筒形である、
請求項1に記載の装置。 - 前記ゲッターポンプは、ゲッター材料で作られ孔が空けられた複数のディスクが内部に存在する、円筒形のフレームから構成される、
請求項2に記載の装置。 - 前記ゲッターポンプは、ゲッター材料で作られ放射状に配置される複数かつ平坦な部材が内部に存在する、円筒形のフレームから構成される、
請求項2に記載の装置。 - 前記VOCs吸収部材は、金属の表面上のゲッター材料の積層体である、
請求項1に記載の装置。
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