JP5354643B2 - ドライ洗浄装置及びドライ洗浄方法 - Google Patents
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Description
同様に、精密金型を用いて樹脂成型品を成型する分野においても、前記金型に付着した汚れや樹脂残留物が樹脂成型品の品質に悪影響を及ぼすことから、上記したドライ洗浄法が樹脂残留物や汚れの除去に用いられている。
a)被洗浄物が収容される反応容器と、
b)前記反応容器内の前記被洗浄物に紫外線を照射する紫外線照射手段と、
c)前記反応容器内にオゾンを含む洗浄用ガスを導入するガス導入手段と、
を備え、
前記ガス導入手段が前記洗浄用ガスを前記反応容器内に導入するための複数の導入口を備えると共に、
前記紫外線照射手段が複数の発光ダイオードから構成され、
前記複数の導入口及び前記複数の発光ダイオードが、前記反応容器内の前記被洗浄物の上部に交互に千鳥状に配置されていることを特徴とする。
前記反応容器内の前記被洗浄物の上部に、複数の洗浄用ガス導入口と複数の発光ダイオードを交互に千鳥状に配置し、前記ガス導入口から前記洗浄用ガスを導入すると共に前記発光ダイオードにより紫外線を照射することを特徴とする。
また、発光ダイオードは紫外線照度の立ち上がりが早いため、洗浄処理時間を短縮することができ、スループットを向上させることができる。さらに、発光ダイオードは熱の照射が極めて少ない。従って、熱に強い材料から被洗浄物を形成しなくても済み、被洗浄物の材料選択の自由度が大きくなる。
発光ダイオードは蛍光灯ランプに比べて消費電力が少ないため、省エネルギー化を図ることができる。また、発光ダイオードは水銀を使用していないため、環境への負担が少ない。
図1は本実施例に係る紫外線オゾン洗浄装置の概略的な全体構成を示す。前記洗浄装置10は下部ユニット11と上部ユニット12から成る。下部ユニット11が反応容器に相当し、その内部には半導体ウエハ等の被洗浄物15を載置するステージ13が設けられている。上部ユニット12を上方に回動して下部ユニット11内を開放させることにより、ステージ13に被洗浄物15を載置することができる。
上部ユニット12には反応ガスであるオゾンを導入するための機構及び被洗浄物15に紫外線を照射する発光ダイオード(以下、LED)14が設けられている。前記ステージ13にはヒータ13aが内蔵されており、載置される被洗浄物15を最高300℃程度まで加熱できるようになっている。
所望の洗浄効果が得られるように、前記LED14から照射される紫外線には波長が1nm〜400nmの紫外線が含まれる。なお、LED14から照射される紫外線には、少なくとも波長が253.7nmの紫外線が含まれていれば、オゾンから酸素と活性酸素を生成することができ、少なくとも波長が184.9nmの紫外線が含まれていれば、酸素から活性酸素を生成することができる。
なお、上部ユニット12の側面であって、拡散室17の底板19と基板22との間の部分には、排気口25が設けられている。
また、排出口24から排出された廃ガスは、排気口25を通って図示せぬオゾン除去装置に送られた後、外部に排出される。オゾン除去装置では廃ガス中に含まれるオゾンが除去される。
ステージ13を回転可能に構成しても良い。このような構成によれば、ステージに載置される被洗浄物15の表面に対してオゾン及び紫外線を均一に照射することができる。
11…下部ユニット(反応容器)
12…上部ユニット
13…ステージ
13a…ヒータ
14…発光ダイオード
15…被洗浄物
16…オゾン導入口
17…拡散室
18…拡散板
20…吐出口
21…オゾン導入路
22…基板
24…排出口
25…排気口
Claims (2)
- a)被洗浄物が収容される反応容器と、
b)前記反応容器内の前記被洗浄物に紫外線を照射する紫外線照射手段と、
c)前記反応容器内にオゾンを含む洗浄用ガスを導入するガス導入手段と、
を備える洗浄装置において、
前記ガス導入手段が前記洗浄用ガスを前記反応容器内に導入するための複数の導入口を備えると共に、
前記紫外線照射手段が複数の発光ダイオードから構成され、
前記複数の導入口及び前記複数の発光ダイオードが、前記反応容器内の前記被洗浄物の上部に交互に千鳥状に配置されていることを特徴とするドライ洗浄装置。 - 反応容器内の被洗浄物に紫外線を照射すると共に前記反応容器内にオゾンを含む洗浄用ガスを導入して前記被洗浄物を洗浄する洗浄方法において、
前記反応容器内の前記被洗浄物の上部に、複数の洗浄用ガス導入口と複数の発光ダイオードを交互に千鳥状に配置し、前記ガス導入口から前記洗浄用ガスを導入すると共に前記発光ダイオードにより紫外線を照射することを特徴とするドライ洗浄方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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Country | Link |
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JP (1) | JP5354643B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017170595A1 (ja) * | 2016-03-28 | 2017-10-05 | 株式会社トクヤマ | 洗浄方法および洗浄液、ならびに洗浄装置 |
JP6266680B2 (ja) * | 2016-03-28 | 2018-01-24 | 株式会社トクヤマ | 洗浄方法および洗浄液 |
KR102498913B1 (ko) * | 2021-06-29 | 2023-02-13 | 주식회사 디엠에스 | 기판 건조장치 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63115343A (ja) * | 1986-11-04 | 1988-05-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 処理装置 |
JPH10190058A (ja) * | 1996-12-24 | 1998-07-21 | Hitachi Cable Ltd | 紫外線照射装置 |
JPH10289890A (ja) * | 1997-04-15 | 1998-10-27 | Samuko Internatl Kenkyusho:Kk | 半導体製造装置及び基板クリーニング装置 |
JP2006007052A (ja) * | 2004-06-24 | 2006-01-12 | Sharp Corp | 電子部品の洗浄方法及び洗浄装置 |
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2008
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009283571A (ja) | 2009-12-03 |
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