JP5350504B2 - リソグラフィ装置及び方法 - Google Patents
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Description
Claims (10)
- リソグラフィ装置であって、
放射ビームの断面にパターンを与えるパターニングデバイスを支持する支持構造と、
基板を保持する基板テーブルと、
前記パターンを与えられた放射ビームを前記基板のターゲット部分に投影する投影システムと、を備え、
前記投影システムは、アクチュエータに接続された可動レンズを含み、前記アクチュエータは、前記パターンを与えられた放射ビームを前記基板の前記ターゲット部分に投影中に、前記可動レンズを移動させ、
前記アクチュエータは、前記パターンを与えられた放射ビームが前記リソグラフィ装置のスキャン方向に移動するように前記可動レンズを移動させ、
前記パターンを与えられた放射ビームの移動が、前記基板のスキャン速度と前記パターニングデバイスの有効スキャン速度との差を補償する、リソグラフィ装置。 - 前記アクチュエータが、前記可動レンズを前記リソグラフィ装置のスキャン方向に移動させる、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記アクチュエータが、前記可動レンズを回転させる、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記リソグラフィ装置のコントローラが、前記パターンを前記基板に投影中に前記支持構造及び前記基板テーブルの一方又は両方が加速又は減速するように、前記支持構造と前記基板テーブルとを制御する、請求項1〜3のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記リソグラフィ装置が、第2のパターニングデバイスを支持するための第2の支持構造をさらに備える、請求項1〜4のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
- スキャン方向に移動するパターニングデバイスを使用して放射ビームの断面にパターンを与えるステップと、
前記パターンを与えられた放射ビームを、スキャン方向に移動する基板のターゲット部分に投影するステップと、を含む方法であって、
前記パターンを与えられた放射ビームを前記基板の前記ターゲット部分に投影中に、可動レンズを移動させて、前記パターンを与えられた放射ビームを移動させるステップをさらに含み、
前記パターンを与えられた放射ビームはスキャン方向に移動させられ、
前記パターンを与えられた放射ビームの移動が、前記基板のスキャン速度と前記パターニングデバイスの有効スキャン速度との差を補償する、方法。 - 前記パターンを前記基板に投影中に前記パターニングデバイス及び/又は前記基板が加速又は減速する、請求項6に記載の方法。
- スキャン方向に移動する第2のパターニングデバイスを引き続き使用して前記放射ビームの断面にパターンが与えられ、前記第2のパターニングデバイスの有効速度が前記基板の速度よりも速く、前記可動レンズの移動が、前記第2のパターニングデバイスのより速い有効速度を補償する、請求項6又は7に記載の方法。
- 前記第2のパターニングデバイスに、前記パターニングデバイスとは異なるパターンが付与される、請求項8に記載の方法。
- 前記可動レンズが、前記パターニングデバイス及び/又は前記基板の位置誤差を補償する、請求項6〜9のいずれか一項に記載の方法。
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