JP2012182453A - リソグラフィ装置及び方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】放射ビームを提供する照明システムと、放射ビームの断面にパターンを与えるように働くパターニングデバイスを支持する支持構造と、基板を保持する基板テーブルと、パターニングされた放射ビームを基板のターゲット部分に投影する投影システムとを備えるリソグラフィ装置であって、投影システムは、アクチュエータに接続された可動レンズを含み、アクチュエータは、パターニングされた放射ビームを基板の前記ターゲット部分に投影中に、可動レンズを移動するように構成される、リソグラフィ装置。
【選択図】図1
Description
Claims (15)
- リソグラフィ装置であって、
(a)放射ビームを提供する照明システムと、
(b)前記放射ビームの断面にパターンを与えるように働くパターニングデバイスを支持する支持構造と、
(c)基板を保持する基板テーブルと、
(d)前記パターニングされた放射ビームを前記基板のターゲット部分に投影する投影システムと、
を備え、
前記投影システムは、アクチュエータに接続された可動レンズを含み、前記アクチュエータは、前記パターニングされた放射ビームを前記基板の前記ターゲット部分に投影中に、前記可動レンズを移動するように構成される、リソグラフィ装置。 - 前記アクチュエータが、前記可動レンズを移動して、前記パターニングされた放射ビームが前記リソグラフィ装置のスキャン方向に移動するように構成される、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記パターニングされた放射ビームの移動が、前記基板のスキャン速度と前記パターニングデバイスの有効スキャン速度との差を補償する、請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記アクチュエータが、前記可動レンズを前記リソグラフィ装置のスキャン方向に移動するように構成される、請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記アクチュエータが、前記可動レンズを回転させるように構成される、請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記リソグラフィ装置のコントローラが、前記支持構造と前記基板テーブルとを制御して、これらの一方又は両方が前記パターンを前記基板に投影中に加速又は減速するように構成される、請求項1乃至請求項5のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記リソグラフィ装置が、第2のパターニングデバイスを支持するための第2の支持構造をさらに備える、請求項1乃至請求項6のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
- (a)照明システムを使用して放射ビームを提供するステップと、
(b)スキャン方向に移動するパターニングデバイスを使用して前記放射ビームの断面にパターンを与えるステップと、
(c)前記パターニングされた放射ビームを、スキャン方向に移動する前記基板のターゲット部分に投影するステップと、
を含む方法であって、
(d)前記パターニングされた放射ビームを前記基板の前記ターゲット部分に投影中に、可動レンズを移動して、前記パターニングされた放射ビームを移動させるステップをさらに含む方法。 - 前記パターニングされた放射ビームが、スキャン方向に移動される、請求項8に記載の方法。
- 前記パターニングされた放射ビームの移動が、前記基板のスキャン速度と前記パターニングデバイスの有効スキャン速度との差を補償する、請求項9に記載の方法。
- 前記パターニングデバイス及び/又は前記基板が、前記パターンを前記基板に投影中に加速又は減速する、請求項8乃至請求項10のいずれか一項に記載の方法。
- スキャン方向に移動する第2のパターニングデバイスを引き続き使用して前記放射ビームの断面にパターンが与えられ、前記第2のパターニングデバイスの有効速度が前記基板の速度よりも速く、前記可動レンズの移動が、前記第2のパターニングデバイスのより速い有効速度を補償する、請求項8乃至請求項11のいずれか一項に記載の方法。
- 前記第2のパターニングデバイスに、前記第1のパターニングデバイスとは異なるパターンが付与される、請求項12に記載の方法。
- 前記可動レンズが、前記パターニングデバイス及び/又は基板の位置誤差を補償する、請求項8から13のいずれかに記載の方法。
- 請求項8乃至請求項14のいずれか一項に従って製造されるデバイス。
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