JP5350363B2 - HClから塩素を製造する方法 - Google Patents
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Description
a)HCl圧縮工程において、HClガス供給(ストリーム1)を高圧に圧縮する段階;
b)HClガス精製工程において、圧縮HCl供給ガス(ストリーム2)を精製する段階;
c)酸素含有戻りストリーム(ストリーム16)を、精製HClガスストリーム(ストリーム3)と組み合わせて、原料ストリーム4を形成する段階;
d)組み合わされた原料ストリーム(ストリーム4)を酸化領域に導入し、この酸化領域において、HClと酸素とを部分的に反応させて塩素および水を生成し、塩素、酸素、HClおよび水を含有する生成物ストリーム5を得る段階;
e)HClおよび水を塩酸水溶液(ストリーム6)の形態で生成物ストリームから分離するための工程33に、生成物ストリーム5を導入する段階;
f)HClおよび水を少なくとも部分的に除いた生成物ストリーム7を更に乾燥させるための工程に導入して、ガスストリーム中の水の割合を減少させる段階;
g)乾燥工程から得られた乾燥ガスストリーム8を塩素圧縮工程に導入して、ガスストリーム8を加圧して圧縮ガスストリーム9を形成する段階;
h)圧縮ガスストリーム9を、ガス9に含まれる塩素(ストリーム10)を少なくとも部分的に分離するための工程に導入し、未反応の酸素を含有するガスストリーム11を形成する段階;
i)塩素分離の後に残存するガスストリーム11をガス洗浄工程に導入して精製ストリーム14を形成し、ガスの部分ストリーム12を、塩素分離とガス洗浄との間で(図1に示すように)、またはガス洗浄の下流において(図1に示さず)、排出する段階;
j)排出されたガスストリーム12を、廃ガス処理工程に導入する段階;
k)ガス洗浄工程から来る未反応酸素含有ストリーム14を、新たな酸素を含有するストリーム15と組み合わせてストリーム16を形成する段階;
l)ストリーム16を工程c)に戻す段階。
A)調節可能な流れ調節装置を、精製塩化水素ストリーム、塩素分離の後に残存するガスストリーム、廃ガス処理工程に導入される部分ガスストリーム、および新たな酸素を含有するストリームのためのラインに設けること、
B)圧力測定器を、塩化水素ストリームを精製するための段階の下流またはその中、塩素分離、および塩素分離の後に残存するストリームのラインにおいてこのストリームに設置するべき流れ調節装置の下流にて設けること、
C)流れ測定器を、精製塩化水素ストリーム、廃ガス処理のための部分ストリームを排出した後の、塩素分離後に残存するガスストリーム、および新たな酸素を含有するストリームのためのラインに設けること、
D)酸素濃度を測定するための機器を、廃ガス処理のための部分ストリームを排出した後の、塩素分離後に残存するガスストリームに設けること、
E)両方の圧縮工程、即ち、塩化水素の圧縮および塩素の圧縮に、調節可能性能を備えること、
を特徴とし、プラントの有利な操作を確保するために、
F)第1制御ユニットを用いて、精製塩化水素ストリームにおける流れ調節装置を調節することによって、当該精製塩化水素ストリームを一定の流量に保持し、
G)第2制御ユニットを用いて、塩化水素圧縮工程を調節することによって、圧縮塩化水素ストリームを精製するための工程において又はその下流において測定される圧力を、一定の値に保持し、
H)第3制御ユニットを用いて、新たな酸素を含有するストリームにおける流れ調節装置を調節することによって、当該新たな酸素を含有するストリームを、精製塩化水素ストリームに対して一定の流量比に保持し、
I)第4制御ユニットを用いて、廃ガス処理のための部分ストリームを排出した後の、塩素分離の後に残存するガスストリームにおいて測定される酸素含有量が一定に保たれるように、精製塩化水素ストリームと酸素含有ストリームとの上述の流量比を調節し、
J)第5制御ユニットを用いて、塩素分離の後に残存するガスストリームにおいて、このストリームに設置されるべき流れ調節装置の下流にて測定される圧力を、廃ガス処理に導入される部分ストリームのための流れ調節装置を調節することによって、一定の値に保持し、
K)第6制御装置を用いて、廃ガス処理のための部分ストリームを排出した後の、塩素分離後に残存するガスストリームを、塩素圧縮工程を調節することによって、一定の値に保持し、また、
L)第7制御装置を用いて、塩素分離において測定される圧力を、塩素分離の後に残存するガスストリームにおける流れ調節装置を調節することによって一定の値に保持する。
1. HCl圧縮工程において、HClガス供給(ストリーム1)を高圧に圧縮する段階、
2. 圧縮HCl供給ガス(ストリーム2)を、HClガス精製工程において精製する段階、
3. 酸素含有戻りストリーム(ストリーム16)を精製HCl供給ガスストリーム(ストリーム3)と組み合わせて、原料ストリーム4を形成する段階、
4. 組み合わされた原料ストリーム(ストリーム4)を酸化領域に導入し、前記酸化領域において、HClと酸素とを部分的に反応させて塩素および水を生成し、塩素、酸素、HClおよび水を含有する生成物ストリーム5を得る段階、
5. 生成物ストリーム5を、生成物ストリームからHClおよび水を塩酸水溶液(ストリーム6)の形態で分離するための工程33に導入する段階、
6. HClおよび水を少なくとも部分的に除いた生成物ストリーム7を、ガスストリーム中の水の割合を減少させて更に乾燥させるための乾燥工程に導入する段階、
7. 乾燥工程から得られた乾燥ガスストリーム8を塩素圧縮工程に導入し、反応ガスストリームを加圧して圧縮ガスストリーム9を形成する段階、
8. 圧縮ガスストリーム9を、ガスに含まれる塩素を少なくとも部分的に分離(ストリーム10)して未反応酸素を含有するガスストリーム11を形成するための分離工程に導入する段階、
9. 塩素分離の後に残存するガスストリーム11を、ガス洗浄して精製ストリーム14を形成するための工程に導入し、ガスストリーム11の部分ストリーム17を塩素の分離とガス洗浄との間で排出する段階、
10. 排出したガスストリーム17を加圧工程に導入し、そこで加圧して圧縮ガスストリーム18を形成する段階、
11. 圧縮ガスストリーム18をCl2回収工程に導入し、そこで、ストリーム18に含まれる塩素を低温で蒸留することによって分離し、戻りストリーム19としてCl2分離に供給し、残存ガスストリーム20を廃ガス処理に供給する段階、
12. ストリーム11から部分ストリーム12を分離し、ストリーム12を11において既に説明した廃ガス処理に導入し、または場合により、前記ストリーム12を先にストリーム20と組み合わせる段階、
13. ガス洗浄工程から来るストリーム14を、新たな酸素を含有するストリーム15と組み合わせて、戻りストリーム16を形成する段階、
14. 戻りストリーム16を、3において説明したようにストリーム3と組み合わせる段階。
流れ測定器74を、加圧工程39に供給される別の部分ストリーム17に設けること;
圧力測定器64を、塩素回収工程40において又はその下流において、この工程の後に残存するガスストリーム20のための流れ調節装置54の上流に設けること;
加圧ユニット39が、調節可能性能を備えていること;
第8制御装置98を用いて、加圧ユニット39の性能を調節することによって、別の部分ストリーム17を調節し、それによって、廃ガス処理37への上述の部分ストリーム12を最小限にすること、および
第9制御装置99を用いて、塩素回収工程40において又はその下流において測定される圧力を一定に保つこと
もまた、ここで提供される。
第4制御ユニット(94)によって調節される酸素含有量が10〜90体積%であること、
第5制御ユニット(95)によって調節される圧力が2〜20barであること、および
第7制御ユニット(97)によって調節される圧力が6〜30barであること
を特徴とする。
この実施例において、図1を用いて本発明の方法の好都合な操作を説明する。
この実施例において、追加の塩素回収を有する本発明の方法の好ましい操作方法を、図2を用いて説明する。一定の入口圧力を有するHClガスストリーム1を、圧縮器30において圧縮する。この圧縮器30は、性能を調節するために、吐出側から入口側へのブロー循環ラインを有する(図示せず)。ブロー循環ラインは、制御バルブを備えている。
この実施例において、操作の循環モードを有しない、プロセスの常套的な制御法から派生し得る操作方法を、図3を用いて説明するが、この方法は、実施例1の操作方法と比較して追加の費用を示す。一定の流入圧力を有するHClガスストリーム1を圧縮器30において圧縮する。この圧縮器30は、性能を調節するために、吐出側から入口側へのブロー循環ラインを有する(図示せず)。ブロー循環ラインは、制御バルブを備えている。
Claims (7)
- 酸素含有ガスストリームによる塩化水素の触媒気相酸化によって塩素を製造する方法であって、
a)HCl圧縮工程(30)において、塩化水素ストリーム(1)を高圧に圧縮する段階;
b)HClガス精製工程(31)において、圧縮塩化水素ストリーム(2)を精製する段階;
c)酸素含有戻りストリーム(16)を、精製塩化水素ストリーム(3)と組み合わせて、原料ストリーム(4)を形成する段階;
d)原料ストリーム(4)を酸化領域(32)に導入し、その領域(32)において、塩化水素と酸素とを部分的に反応させて塩素および水を生成させ、塩素、酸素、塩化水素、および水を含有する生成物ストリーム(5)を得る段階;
e)塩化水素および水を塩酸水溶液(6)の形態で生成物ストリーム(5)から分離するための工程(33)に、生成物ストリーム(5)を導入する段階;
f)塩化水素および水を少なくとも部分的に除いた生成物ストリーム(7)を乾燥工程(34)に導入して、生成物ストリーム(7)中の水の割合を減少させて更に乾燥させる段階;
g)乾燥工程(34)から得られた乾燥ガスストリーム(8)を塩素圧縮工程(35)に導入して、ガスストリーム(8)を加圧して圧縮ガスストリーム(9)を形成する段階;
h)圧縮ガスストリーム(9)を、ガス(9)に含まれる塩素を少なくとも部分的に分離する(10)ための分離工程(36)に導入し、未反応の酸素を含有するガスストリーム(11)を形成する段階;
i)塩素分離(36)の後に残存するガスストリーム(11)をガス洗浄工程(38)に導入して精製ストリーム(14)を形成し、ガスストリーム(11)の部分ストリーム(12)を、塩素分離(36)とガス洗浄工程(38)との間で、またはガス洗浄工程(38)の下流において、排出する段階;
j)排出された部分ガスストリーム(12)を、廃ガス処理工程(37)に導入する段階;
k)ガス洗浄工程(38)から来る未反応酸素含有ストリーム(14)を、新たな酸素を含有するストリーム(15)と組み合わせて酸素含有戻りストリーム(16)を形成する段階;
l)戻りストリーム(16)を段階c)に戻して、このストリーム(16)を精製塩化水素ストリームと組み合わせる段階
から成り;
A)調節可能な流れ調節装置(50、51、52、53)を、精製塩化水素ストリーム(3)、塩素分離の後に残存するガスストリーム(11)、廃ガス処理工程に導入される部分ガスストリーム(12)、および新たな酸素を含有するストリーム(15)のラインに設けること;
B)圧力測定器(63、61、62)を、塩化水素ストリームを精製するための段階(31)の下流またはその中に、塩素分離(36)、および塩素分離の後に残存するストリーム(11)のラインにおいてこのストリームに設置するべき流れ調節装置(51)の下流にて設けること;
C)流れ測定器(71、72、73)を、精製塩化水素ストリーム(3)、廃ガス処理のための部分ストリーム(12)を排出した後の、塩素分離後に残存するガスストリーム(13)、および新たな酸素を含有するストリーム(15)のためのラインに設けること;
D)酸素濃度を測定するための機器(81)を、廃ガス処理のための部分ストリーム(12)を排出した後の、塩素分離後に残存するガスストリーム(13)に設けること;
E)両方の圧縮工程、即ち、塩化水素の圧縮(30)および塩素の圧縮(35)に、調節可能性能を備えること;
を特徴とし、プラントの有利な操作を確保するために、
F)第1制御ユニット(91)を用いて、精製塩化水素ストリーム(3)における流れ調節装置(50)を調節することによって、当該精製塩化水素ストリーム(3)を一定の流量に保持し、
G)第2制御ユニット(92)を用いて、塩化水素圧縮(30)を調節することによって、圧縮塩化水素ストリームを精製するための工程(31)において又はその下流において測定される圧力を一定の値に保持し、
H)第3制御ユニット(93)を用いて、新たな酸素を含有するストリーム(15)における流れ調節装置(53)を調節することによって、当該酸素含有ストリーム(15)を、精製塩化水素ストリーム(3)に対して一定の流量比に保持し、
I)第4制御ユニット(94)を用いて、精製塩化水素ストリーム(3)と酸素含有ストリーム(15)との間の上述の流量比を精密に調節し、その結果、廃ガス処理のための部分ストリーム(12)を排出した後の、塩素分離の後に残存するガスストリーム(13)において測定される酸素含有量を一定に保持し、
J)第5制御ユニット(95)を用いて、塩素分離(36)の後に残存するガスストリーム(11)において、このストリームに設置されるべき流れ調節装置(51)の下流にて測定される圧力を、廃ガス処理(37)に導入される部分ストリーム(12)のための流れ調節装置(52)を調節することによって、一定の値に保持し、
K)第6制御装置(96)を用いて、廃ガス処理のための部分ストリーム(12)を排出した後の塩素分離後に残存するガスストリーム(13)の流量を、塩素圧縮工程(35)を調節することによって一定の値に保持し、また、
L)第7制御装置(97)を用いて、塩素分離(36)において測定される圧力を、塩素分離(36)の後に残存するガスストリーム(11)における流れ調節装置(51)を調節することによって一定の値に保持する
ことを特徴とする方法。 - 塩素分離(36)後に残存するガスストリーム(11)から別の部分ストリーム(17)を排出し、この部分ストリーム(17)を加圧工程(39)において圧縮し、その後、塩素回収工程(40)に供給し、この塩素回収工程(40)において、この圧縮部分ストリーム(18)に含まれる塩素を、低温で蒸留することによって分離し、戻りストリーム(19)として塩素分離(36)に供給し、残存するガスストリーム(20)を廃ガス処理(37)に供給すること;
塩素回収工程(40)の後に残存するガスストリーム(20)のラインに、調節可能な流れ調節装置(54)を設けること;
流れ測定器(74)を、加圧工程(39)に供給される別の部分ストリーム(17)に設けること;
圧力測定器(64)を、塩素回収工程(40)において又はその下流において、この工程の後に残存するガスストリーム(20)のための流れ調節装置(54)の上流に設けること;
加圧装置(39)が、調節可能性能を備えていること;
第8制御装置(98)を用いて、加圧装置(39)の性能を調節することによって、別の部分ストリーム(17)を調節し、それによって、廃ガス処理(37)への上述の部分ストリーム(12)を最小限にすること、および
第9制御装置(99)を用いて、流れ調節装置(54)を調節することによって、塩素回収工程(40)において又はその下流において測定される圧力を一定に保つこと
ことを特徴とする、請求項1に記載の方法。 - 塩素分離の後に残存するガスストリーム(11)、または廃ガス処理工程へと排出された部分ストリーム(12)、または加圧工程へと排出された別の部分ストリーム(17)、またはガス洗浄工程(38)から来るストリーム(14)、またはストリーム(14)を新たな酸素を含有するストリーム(15)と組み合わせた後のストリーム(16)において、酸素濃度を測定することを特徴とする、請求項1または2に記載の方法。
- ガスを洗浄するための工程(38)を省略することを特徴とする、請求項1〜3のいずれか1項に記載の方法。
- 第2制御ユニット(92)によって調節される圧力が2〜20barであること、
第4制御ユニット(94)によって調節される酸素含有量が10〜90体積%であること、
第5制御ユニット(95)によって調節される圧力が2〜20barであること、および
第7制御ユニット(97)によって調節される圧力が6〜30barであること
を特徴とする、請求項1〜4のいずれか1項に記載の方法。 - 酸化工程(32)において、ルテニウム触媒を用いることを特徴とする、請求項1〜5のいずれか1項に記載の方法。
- 酸化工程(32)において、塩化ルテニウムおよび担体材料としての酸化スズに基づく触媒を用いることを特徴とする、請求項6に記載の方法。
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