JP5323639B2 - 粗HClガスから一酸化炭素を除去する方法、およびそれによって得られる精製HClガスを用いたHCl酸化方法 - Google Patents
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Description
a)圧縮段階において粗HClガスを高圧に圧縮すること;
b)圧縮した粗HClガスを冷却して、塩化水素を液化し、一酸化炭素含有ガスを残すこと;
c)この一酸化炭素含有ガスを、液化塩化水素から除去すること;
d)液体塩化水素を蒸発させ、場合により過熱し、HCl酸化プロセスのために精製HClガスとしてそれを提供すること。
塩化水素を含み、工程a)から生じるガス中の塩化水素を、酸素で触媒酸化して塩素を生成することを含む方法もまた、含まれる。
この実施例において、本発明の方法の有利な操作を、図1を用いて説明する。
比較例において、図2を参照して、粗HClガス精製を有しない操作モードを記載し、この方法の経済的に不都合な点を実証する。
本願発明は以下の態様を含む。
(態様1)
(a)塩化水素および一酸化炭素を含有する粗HClガスを準備すること;
(b)粗HClガスを圧縮して圧縮粗HClガスを形成すること;
(c)圧縮粗HClガスを冷却して、液化塩化水素と一酸化炭素含有ガスとを形成すること;
(d)液化塩化水素と一酸化炭素含有ガスとを分離すること;
(e)液化塩化水素を蒸発させて精製HClガスを形成すること;ならびに
(f)精製HClガスをHCl酸化プロセスに供給すること
を含む、方法。
(態様2)
液化塩化水素の蒸発が、液化塩化水素の過熱を更に含む、態様1に記載の方法。
(態様3)
圧縮粗HClガスの冷却を2またはそれより多くの段階で行う、態様1に記載の方法。
(態様4)
液化塩化水素を蒸発させるのに必要なエネルギーの少なくとも一部が、圧縮粗HClガスの冷却からの熱を含む、態様1に記載の方法。
(態様5)
粗HClガスの圧縮を、30barまでの圧力で行う、態様1に記載の方法。
(態様6)
圧縮粗HClガスの冷却を、−80℃に等しい又はそれより高い温度で行う、態様1に記載の方法。
(態様7)
圧縮粗HClガスの冷却を、−80℃に等しい又はそれより高い温度で行う、態様5に記載の方法。
(態様8)
液化塩化水素の蒸発を、−10℃に等しい又はそれより高い温度で行う、態様1に記載の方法。
(態様9)
液化塩化水素の蒸発を、−10℃に等しい又はそれより高い温度で行う、態様7に記載の方法。
(態様10)
粗HClガスが、窒素、希ガス、およびそれらの混合物から成る群から選択される不活性ガスを更に含み、圧縮粗HClガスの冷却の後で、不活性ガスが、一酸化炭素含有ガス中に存在する、態様1に記載の方法。
(態様11)
圧縮粗HClガスの冷却が、液化塩化水素が形成される前に、オルト−ジクロロベンゼン、モノクロロベンゼン、またはそれらの混合物を含む凝縮可能な有機化合物の除去を含む、態様2に記載の方法。
(態様12)
前記圧縮粗HClガスの冷却からの熱の、前記液化塩化水素の蒸発への移動が、伝熱式熱交換器を含む、態様4に記載の方法。
(態様13)
液化塩化水素の蒸発が、液化塩化水素の過熱を更に含む、態様4に記載の方法。
(態様14)
圧縮粗HClガスの冷却からの熱を、第1伝熱式熱交換器で少なくとも部分的に移動させ、第1伝熱式熱交換器において精製HClガスを過熱し、また、下流において第2伝熱式熱交換器で更に移動させ、第2伝熱式熱交換器において精製HClガスの蒸発と共に粗HClガスを液化する、態様13に記載の方法であって、後凝縮器を更に含み、後凝縮器において一酸化炭素含有ガスを処理して、凝縮によって残存HClを除去する、方法。
(態様15)
(a)塩化水素および一酸化炭素を含有する粗HClガスを供給すること;
(b)粗HClガスを圧縮して圧縮粗HClガスを形成すること;
(c)圧縮粗HClガスを冷却して、液化塩化水素と一酸化炭素含有ガスとを形成すること;
(d)液化塩化水素と一酸化炭素含有ガスとを分離すること;
(e)液化塩化水素を蒸発させて精製HClガスを形成すること;ならびに
(f)精製HClガスを酸素で触媒酸化して塩素を形成すること
を含む、方法。
(態様16)
塩化水素が、粗HClガス中に20〜99.5体積%の量で存在する、態様15に記載の方法。
(態様17)
一酸化炭素が、粗HClガス中に0.1〜15体積%の量で存在する、態様15に記載の方法。
(態様18)
一酸化炭素が、精製HClガス中に1体積%に等しい又はそれより少ない量で存在する、態様15に記載の方法。
(態様19)
一酸化炭素が、精製HClガス中に0.1体積%より少ない量で存在する、態様17に記載の方法。
(態様20)
精製HClガスの触媒酸化を、場合により担持された触媒の存在下で行う方法であって、触媒が、ルテニウム、金、パラジウム、白金、オスミウム、イリジウム、銀、銅、カリウム、レニウム、およびクロムから成る群から選択される1またはそれより多くを含有する触媒的に活性な材料を含み、オプションとしての担体材料が、二酸化スズ、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、アルミニウム−ケイ素混合酸化物、ゼオライト、混合酸化物、金属硫酸塩、およびクレイから成る群から選択される1またはそれより多くを含む、態様15に記載の方法。
Claims (4)
- (a)塩化水素および一酸化炭素を含有する粗HClガスを準備すること;
(b)粗HClガスを圧縮して圧縮粗HClガスを形成すること;
(c)圧縮粗HClガスを冷却して、液化塩化水素と一酸化炭素含有ガスとを形成すること;
(d)液化塩化水素と一酸化炭素含有ガスとを分離すること;
(e)液化塩化水素を蒸発させて精製HClガスを形成すること;ならびに
(f)精製HClガスをHCl酸化プロセスに供給すること
を含む、方法。 - 液化塩化水素の蒸発が、液化塩化水素の過熱を更に含む、請求項1に記載の方法。
- 液化塩化水素を蒸発させるのに必要なエネルギーの少なくとも一部が、圧縮粗HClガスの冷却からの熱を含み、前記圧縮粗HClガスの冷却からの熱の、前記液化塩化水素の蒸発への移動が、伝熱式熱交換器を含む、請求項1に記載の方法。
- (a)塩化水素および一酸化炭素を含有する粗HClガスを供給すること;
(b)粗HClガスを圧縮して圧縮粗HClガスを形成すること;
(c)圧縮粗HClガスを冷却して、液化塩化水素と一酸化炭素含有ガスとを形成すること;
(d)液化塩化水素と一酸化炭素含有ガスとを分離すること;
(e)液化塩化水素を蒸発させて精製HClガスを形成すること;ならびに
(f)精製HClガスを酸素で触媒酸化して塩素を形成すること
を含む方法であって、一酸化炭素が、精製HClガス中に1体積%に等しい又はそれより少ない量で存在する、方法。
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