JP5348546B2 - 建造物メッキ膜厚測定方法 - Google Patents
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Description
1.電磁膜厚計は、一定以上の面積を持つ金属板の膜厚を測定する場合は非常に精度よく測定可能であるが、小型で形状が複雑なものを測定する場合には、誤差が大きくなる。即ち、電磁膜厚計においては、測定部位が材料の端・角から60mm程度離れていないと端・角の影響で磁束分布が不均一になり、測定面が小さいナットにおいてはメッキ膜厚が厚めに計測されてしまう。
2.また、メッキの腐食面は鋸歯状になっているが、電磁膜厚計のプローブはそれに比べて大きいため、測定できるのは鋸歯の頂部から鉄地金間の距離となり、有効膜厚よりも大きな値となる。
3.電磁膜厚計では、非磁性体である酸化生成物・水垢・花粉等の付着物は全てメッキ膜厚として測定されてしまう。
4.ナットのメッキ膜厚の測定においては、ナットの一点を決めて、その一点当たりの測定回数を3回程度としており、また、測定値の上限値を特に設定していないので、測定ミスによる過大な測定値が平均値を押し上げている。
また、ナットの測定面の所定部位は、ナット側面の中央部であることが好ましく、また、前記有効測定値選別工程は、工場試験値の平均に対して所定の偏差(3σ)より大きく設定された上限値を超える測定値を除去するようにしてもよい。
また、鉄塔に装着した状態でナット側面(暴露面)を測定する場合には、図4(b)に示されるように、ねじの呼びがM16,M20,M22のナットに対しては、測定値の上限値を90μmとし、M24、M30のナットに対しては、上限値を100μmに設定する。
即ち、ナットのメッキ膜厚測定においては、ナットの端や角の影響で磁束の分布が不均一になり、メッキ膜厚が厚めに計測されることから、測定値を図5に示す補正式により補正する。ここで、ナットの側面を測定する場合において、ナットを解体した場合とナットが装着されている状態とでは、ナットを解体する際に側面のメッキが幾分削られ又は均されるので、装着状態でのメッキ膜厚は解体したナットのメッキ膜厚よりも厚くなるように補正され、また、ナットの側面は暴露されて腐食が大きい状態にあるため、被暴露面であるナット下面よりもメッキ膜厚が厚くなるように補正される。
そして、このような下地処理の後に、測定面(側面3aの中央部)が複数回測定され、測定ミスによる所定の上限値を超える測定値が除去されるので、平均値が押し上げられる不都合が回避される。
即ち、上述して得られた平均有効メッキ膜厚に基づき、各測定点毎のメッキ減耗量を算出し、測定部位毎の減耗量の最大値から最大劣化速度を算出し、また、測定部位毎の減耗量の平均値から平均劣化速度を算出し、平均劣化速度による寿命を、その鉄塔全体の平均的な状態を表しているとみなして塗装期限とし、塗装工事の平準化を図る上で実施期間の幅が必要となることから、最大劣化速度による寿命を塗装開始時期の目安とする。
3a 側面
3b 底面
M ねじの呼び
Claims (4)
- 建造物のメッキ膜厚を測定する建造物メッキ膜厚測定方法にあって、
前記建造物に使用されるナットの測定面を研磨する下地処理工程と、
前記ナットの測定面の所定部位に対して電磁膜厚計により所定回数の膜厚測定を行い、所定の上限値を超える測定値を除去して有効測定値を選別する有効測定値選別工程と、
前記有効測定値選別工程で選別された有効測定値をナットのねじの呼び、及び、ナットの解体の有無に応じて補正する測定値補正工程と、
前記測定値補正行程で補正された有効測定値の平均値を算出する測定値平均化処理工程とを具備することを特徴とする建造物メッキ膜厚測定方法。 - 前記測定値補正工程と前記測定値平均化処理工程との順序を逆にし、
前記測定値平均化処理工程を前記有効測定値選別工程で選別された有効測定値に対する平均値を算出するものとし、
前記測定値補正工程を前記測定値平均化処理工程で算出された平均値をナットのねじの呼び、及び、ナットの解体の有無に応じて補正するものとする
ことを特徴とする請求項1記載の建造物メッキ膜厚測定方法。 - 前記ナットの測定面の所定部位は、ナット側面の中央部であることを特徴とする請求項1記載の建造物メッキ膜厚測定方法。
- 前記有効測定値選別工程は、工場試験値の平均に対して所定の偏差より大きく設定された上限値を超える測定値を除去するものである請求項1記載の建造物メッキ膜厚測定方法。
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