JP5343390B2 - マスクの製造方法 - Google Patents
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Description
さらに、めっき膜の一部に複数のめっき膜の表裏を貫通する開口部が形成されている場合、複数の該開口部に加え、貫通しない複数の凹部を形成することによって、複数の開口部の有無によるめっき膜面における引張応力を有する領域と有さない領域との応力差を低減することができ、めっき膜に生じる歪みを抑制してめっき膜の形状変化をより効果的に抑制することが可能となる。
さらに、めっき膜の表裏を貫通する複数の開口部を、内部電極を印刷する際のパターン用として、形状変化が抑制されためっき膜に高い精度で形成することができる。このように高い精度で形成された複数の開口部を有するマスクは、複数の開口部が高い位置精度で形成された印刷版として用いることが可能となる。また、めっき膜は枠のみに接合され、複数の開口部はめっき膜の表裏を貫通しているので、めっき膜は表裏任意の面を上面として用いることができ、利便性が高くなる。
さらに、めっき膜の一部に複数のめっき膜の表裏を貫通する開口部が形成されている場合、複数の該開口部に加え、貫通しない複数の凹部を形成することによって、複数の開口部の有無によるめっき膜面における引張応力を有する領域と有さない領域との応力差を低減することができ、めっき膜に生じる歪みを抑制してめっき膜の形状変化をより効果的に抑制することが可能となる。
図1は、本発明の実施の形態1に係るマスクの製造方法により製造されるマスクの構成を模式的に示す斜視図である。図2は、本発明の実施の形態1に係るマスクの製造方法により製造されるマスクの構成を示す平面図である。図3は、図2におけるII−II’断面図である。図1から図3に示すように、本実施の形態1におけるマスク10は、印刷枠である枠1と、枠1と周縁部分が接合部2で接合されためっき膜3とで構成される。
図5は、本発明の実施の形態2に係るマスクの製造方法により製造されるマスクの構成を模式的に示す斜視図である。図5に示すように、本実施の形態2におけるマスク20は、剛体の枠1と、枠1と周縁部分が接合部で接合されためっき膜3とで構成され、めっき膜3には内部電極形成のためのパターン用の複数の開口部6、6、・・・が設けられている。すなわち、マスク20は、実施の形態1におけるマスク10に複数の開口部6、6、・・・を設けたものである。本実施の形態2において実施の形態1と同じ構成については同一の符号を付することで詳細な説明は省略する。
図7は、本発明の実施の形態3に係るマスクの製造方法により製造されるマスクの構成を模式的に示す斜視図である。図8は、開口部及び凹部を模式的に示す斜視図である。
2 接合部
3 めっき膜
4 基板
5 絶縁膜
6 開口部
7 凹部
10、20、30 マスク
Claims (4)
- 基板上にめっき膜を成膜し、
該めっき膜上に剛体の枠を接合し、
該枠が接合されためっき膜から、前記基板を剥離し、
前記めっき膜の全体又は一部に、当該めっき膜の表裏を貫通する複数の開口部を形成し、
前記めっき膜の一部に複数の前記開口部が形成されている場合、前記めっき膜の複数の前記開口部が形成されていない領域に、当該めっき膜の表裏を貫通しない複数の凹部を形成することを特徴とするマスクの製造方法。 - 前記めっき膜の成膜前に、前記基板上に部分的に絶縁膜を形成し、
前記めっき膜を成膜した後に、前記絶縁膜を除去し、該絶縁膜を除去した領域に前記めっき膜の表裏を貫通する複数の開口部を形成することを特徴とする請求項1に記載のマスクの製造方法。 - 複数の前記開口部は、前記めっき膜全面に互いに略均等な位置関係で配置されるように形成することを特徴とする請求項1又は2に記載のマスクの製造方法。
- 複数の前記開口部と、複数の前記凹部とが、それぞれ前記めっき膜全面に互いに略均等な位置関係で配置されるように形成することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載のマスクの製造方法。
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2008
- 2008-04-14 JP JP2008104816A patent/JP5343390B2/ja active Active
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