JP5340420B2 - 磁気ランダムアクセスメモリ(mram)のインサイチュ抵抗測定法 - Google Patents
磁気ランダムアクセスメモリ(mram)のインサイチュ抵抗測定法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5340420B2 JP5340420B2 JP2011548314A JP2011548314A JP5340420B2 JP 5340420 B2 JP5340420 B2 JP 5340420B2 JP 2011548314 A JP2011548314 A JP 2011548314A JP 2011548314 A JP2011548314 A JP 2011548314A JP 5340420 B2 JP5340420 B2 JP 5340420B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mtj
- replica
- cell
- memory
- memory cell
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/02—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements
- G11C11/16—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements using elements in which the storage effect is based on magnetic spin effect
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R27/00—Arrangements for measuring resistance, reactance, impedance, or electric characteristics derived therefrom
- G01R27/02—Measuring real or complex resistance, reactance, impedance, or other two-pole characteristics derived therefrom, e.g. time constant
- G01R27/08—Measuring resistance by measuring both voltage and current
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/02—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements
- G11C11/16—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements using elements in which the storage effect is based on magnetic spin effect
- G11C11/165—Auxiliary circuits
- G11C11/1653—Address circuits or decoders
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/02—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements
- G11C11/14—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements using thin-film elements
- G11C11/15—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements using thin-film elements using multiple magnetic layers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/02—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements
- G11C11/16—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements using elements in which the storage effect is based on magnetic spin effect
- G11C11/165—Auxiliary circuits
- G11C11/1653—Address circuits or decoders
- G11C11/1655—Bit-line or column circuits
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/02—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements
- G11C11/16—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements using elements in which the storage effect is based on magnetic spin effect
- G11C11/165—Auxiliary circuits
- G11C11/1673—Reading or sensing circuits or methods
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C7/00—Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
- G11C7/14—Dummy cell management; Sense reference voltage generators
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
- Mram Or Spin Memory Techniques (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
- Hall/Mr Elements (AREA)
Description
120 遠隔ユニット、携帯電話
125A MRAMおよび/またはSTT MRAMメモリデバイス
125B MRAMおよび/またはSTT MRAMメモリデバイス
125C MRAMおよび/またはSTT MRAMメモリデバイス
130 遠隔ユニット、携帯型コンピュータ
140 基地局
150 遠隔ユニット、無線加入回線システム内の固定位置遠隔ユニット
180 順方向リンク信号
190 逆方向リンク信号
200 カレントミラー回路
205 磁気トンネル接合(MTJ)セル
206 レプリカセル
210 MTJ
220 MTJセルトランジスタ、トランジスタ
230 レプリカトランジスタ、トランジスタ
400 メモリ
410 アドレスバス
420 プリデコーダ
Claims (20)
- 磁気ランダムアクセスメモリ(MRAM)セルの磁気トンネル接合(MTJ)の抵抗を測定する方法であって、
伝導状態のメモリセルトランジスタと直列に接続されたMTJを備えるメモリセルに、選定されたレベルの電圧を加える段階と、
前記メモリセルを通る電流の量を決定する段階と、
前記MTJを有さないで伝導状態のレプリカセルトランジスタを備えるレプリカセルに可変電圧を加える段階と、
前記可変電圧の値を決定する段階であって、前記レプリカセルを通る電流の量が前記メモリセルを通る電流の量とほぼ同じになる段階と、
前記メモリセル電圧と前記決定された可変レプリカセル電圧との差を取り、その結果を前記決定されたメモリセル電流で割ることによってMTJ抵抗を計算する段階とを含むことを特徴とする方法。 - 前記選定された電圧レベルを、前記MTJの第1の電極に結合されたメモリセルビットラインに加える段階と、
ワードライン信号をメモリセルトランジスタのゲートに加えて前記メモリセルトランジスタを伝導状態にする段階とをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。 - 前記可変電圧を、レプリカセルトランジスタのドレインに結合されたレプリカセルビットラインに加える段階と、
前記ワードライン信号を、レプリカセルトランジスタのゲートに加えて前記レプリカセルトランジスタを伝導状態にする段階とをさらに含むことを特徴とする請求項2に記載の方法。 - 前記メモリビットライン電圧を、前記MTJ両端間に電圧降下を起こすには十分であるが前記MTJの状態を変えるには不十分なレベルに設定する段階をさらに含むことを特徴とする請求項3に記載の方法。
- 前記レプリカセルに対し選択された近傍のメモリセルの前記MTJ抵抗を計算する段階をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記MRAMがスピン注入磁化反転型(STT)MRAMであることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 磁気ランダムアクセスメモリ(MRAM)内のメモリセルの磁気トンネル接合(MTJ)の抵抗を測定する回路であって、
メモリセルトランジスタと直列に結合されたMTJを具備するメモリセルと、
MTJを有さないでレプリカセルトランジスタを具備するレプリカセルとを備え、
前記メモリセルが、選定された電圧レベルを受け取ってメモリセル電流を生成し、
前記レプリカセルが、メモリセル電流レベルとほぼ同じレプリカセル電流レベルを生成する可変電圧レベルを受け取って、MTJの抵抗の計算を可能にすることを特徴とする回路。 - 前記メモリセルが、
前記MTJにビットライン電圧を供給するビットラインと、
セルソースライン電圧を供給するようにセルトランジスタのソースに結合されたメモリセルソースラインと、
前記セルトランジスタを制御するためにセルトランジスタのゲートにワードライン信号を与えるワードラインとをさらに備えることを特徴とする請求項7に記載の回路。 - 前記レプリカセルが、
前記レプリカセルに前記可変電圧レベルを供給するレプリカビットラインと、
前記セルソースライン電圧とほぼ同じレプリカソースライン電圧を供給するように前記レプリカトランジスタのソースに結合されたレプリカソースラインと、
前記レプリカトランジスタを制御するために前記ワードライン信号を受け取る前記レプリカトランジスタのゲートとをさらに備えることを特徴とする請求項8に記載の回路。 - 前記ビットライン電圧が、前記MTJ両端間に電圧降下を起こすには十分であるが前記MTJの状態を変えるには不十分なレベルにあることを特徴とする請求項9に記載の回路。
- 前記MRAMがスピン注入磁化反転型(STT)MRAMであることを特徴とする請求項7に記載の回路。
- 前記MRAMが、
複数のモジュールと、
少なくとも1つのレプリカビットスライスとを備え、
それぞれのモジュールは、複数のバンクを含み、
それぞれのバンクは、選択された数のメモリセルを有する複数のメモリビットスライスを含むことを特徴とする請求項7に記載の回路。 - それぞれのメモリビットスライス内でそれぞれのメモリセルに接続された共通ビットラインと、
それぞれのメモリビットスライスおよびレプリカビットスライス内でそれぞれのメモリセルおよびレプリカセルに接続された共通ソースラインと、
それぞれのレプリカビットスライス内でそれぞれのレプリカセルに接続されたレプリカビットラインと、
それぞれの列内で、前記列内の対応する前記メモリセルおよび前記レプリカセルのそれぞれに接続されたワードラインとをさらに備えることを特徴とする請求項12に記載の回路。 - 前記MTJがスピン注入磁化反転型(STT)MTJであることを特徴とする請求項7に記載の回路。
- 前記MRAMをアドレス指定可能なセグメントに分割する段階と、
前記アドレス指定可能なセグメントの1つの中の各MTJセルの電圧と、レプリカセルの関連付けられた群内の対応するレプリカセルの電圧とを比較する段階と、
各MTJセルの抵抗を前記比較に基づいて決定する段階とを含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。 - 前記MRAMをアドレス指定可能なセグメントに分割する前記段階が、
前記MRAMを複数のアドレス指定可能なモジュールに分割する段階と、
前記アドレス指定可能なモジュールを、前記モジュールのそれぞれの中でアドレス指定可能な複数のバンクに分割する段階と、
前記アドレス指定可能なバンクを、前記バンクのそれぞれの中でアドレス指定可能な複数のメモリビットスライス、および少なくとも1つのレプリカビットスライスに分割する段階と、
各メモリセルにワードラインアドレスを割り当てる段階と、
前記モジュール、バンク、ビットスライスおよびワードラインのアドレスを指定することによって前記MRAMアレイの各メモリセルをアドレス指定する段階とを含み、
前記メモリビットスライスそれぞれが選択された数のメモリセルを含むことを特徴とする請求項15に記載の方法。 - 磁気抵抗接合(MTJ)磁気ランダムアクセスメモリ(MRAM)のアレイ構造であって、
複数のモジュールと、
各モジュール内の複数のバンクと、
各バンク内の複数のMTJメモリビットスライスおよび1つのレプリカビットスライスと、
各MTJメモリビットスライス内の複数のMTJメモリセルであって、各MTJメモリセルがそれぞれメモリセルトランジスタと直列に接続されたMTJを備え、各メモリセルが選定された電圧レベルを受け取ってメモリセル電流を生成する、複数のMTJメモリセルと、
各レプリカビットスライス内の複数のレプリカセルとを備え、
レプリカビットセルの数量が、同じバンクのあらゆるMTJビットスライスに存在するMTJメモリセルの最大数量と等しく、前記レプリカセルのそれぞれが前記MTJを有さないで、それぞれがレプリカセルトランジスタを具備し、前記レプリカセルのそれぞれがメモリセル電流レベルとほぼ同じレプリカセル電流レベルを生成する可変電圧レベルを受け取って、MTJの抵抗の計算を可能にすることを特徴とするアレイ構造。 - アドレス信号を受け取るアドレスバスと、
前記受け取られたアドレス信号を事前復号するプリデコーダとをさらに備えることを特徴とする請求項17に記載のアレイ構造。 - 複数のワードラインをさらに備え、
第1の複数の前記ワードラインが第1の複数の前記モジュールと関連付けられ、
第2の複数の前記ワードラインが第2の複数の前記モジュールと関連付けられることを特徴とする請求項17に記載のアレイ構造。 - 前記MTJメモリセルがスピン注入磁化反転型(STT)MTJメモリセルであることを特徴とする請求項17に記載のアレイ構造。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US12/361,588 | 2009-01-29 | ||
US12/361,588 US7929334B2 (en) | 2009-01-29 | 2009-01-29 | In-situ resistance measurement for magnetic random access memory (MRAM) |
PCT/US2010/022476 WO2010088443A1 (en) | 2009-01-29 | 2010-01-29 | In-situ resistance measurement for magnetic random access memory (mram) |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012516524A JP2012516524A (ja) | 2012-07-19 |
JP5340420B2 true JP5340420B2 (ja) | 2013-11-13 |
Family
ID=42115358
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011548314A Expired - Fee Related JP5340420B2 (ja) | 2009-01-29 | 2010-01-29 | 磁気ランダムアクセスメモリ(mram)のインサイチュ抵抗測定法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7929334B2 (ja) |
EP (1) | EP2382634A1 (ja) |
JP (1) | JP5340420B2 (ja) |
KR (1) | KR101369349B1 (ja) |
CN (2) | CN102282622B (ja) |
TW (1) | TW201101302A (ja) |
WO (1) | WO2010088443A1 (ja) |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7675772B2 (en) * | 2007-10-26 | 2010-03-09 | Micron Technology, Inc. | Multilevel memory cell operation |
US8587982B2 (en) * | 2011-02-25 | 2013-11-19 | Qualcomm Incorporated | Non-volatile memory array configurable for high performance and high density |
US8933491B2 (en) | 2011-03-29 | 2015-01-13 | Micron Technology, Inc. | Arrays of memory cells and methods of forming an array of vertically stacked tiers of memory cells |
US8868820B2 (en) * | 2011-10-31 | 2014-10-21 | Microsemi SoC Corporation | RAM block designed for efficient ganging |
TWI488192B (zh) * | 2011-11-10 | 2015-06-11 | Ind Tech Res Inst | 非揮發性記憶體的寫入時序控制電路和控制方法 |
US8750031B2 (en) * | 2011-12-16 | 2014-06-10 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Test structures, methods of manufacturing thereof, test methods, and MRAM arrays |
US9111622B2 (en) * | 2012-05-09 | 2015-08-18 | Everspin Technologies, Inc. | Self referencing sense amplifier for spin torque MRAM |
US9697894B2 (en) * | 2013-03-25 | 2017-07-04 | Agency For Science, Technology And Research | Methods and circuit arrangements for determining resistances |
CN106233392B (zh) | 2014-03-07 | 2019-03-29 | 东芝存储器株式会社 | 存储器设备 |
KR20150144550A (ko) | 2014-06-17 | 2015-12-28 | 삼성전자주식회사 | 온-칩 저항 측정 회로 및 이를 포함하는 저항성 메모리 장치 |
KR20180013127A (ko) * | 2016-07-28 | 2018-02-07 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 반도체 메모리 장치 및 이의 동작 방법 |
KR101939359B1 (ko) | 2017-02-01 | 2019-01-16 | 고려대학교 산학협력단 | 내부 연산 구조를 포함하는 mtj 메모리 장치 |
US10431278B2 (en) * | 2017-08-14 | 2019-10-01 | Qualcomm Incorporated | Dynamically controlling voltage for access operations to magneto-resistive random access memory (MRAM) bit cells to account for ambient temperature |
KR102414183B1 (ko) * | 2017-09-15 | 2022-06-29 | 삼성전자주식회사 | 레퍼런스 셀을 포함하는 저항성 메모리 장치 및 레퍼런스 셀의 제어 방법 |
CN110136760B (zh) * | 2018-02-09 | 2021-03-23 | 上海磁宇信息科技有限公司 | Mram芯片 |
US10509074B2 (en) | 2018-02-22 | 2019-12-17 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Electrical testing apparatus for spintronics devices |
KR102412313B1 (ko) * | 2018-07-17 | 2022-06-22 | 주식회사 엘지에너지솔루션 | 스위치 진단 장치 및 방법 |
CN112444764A (zh) * | 2019-08-30 | 2021-03-05 | 中电海康集团有限公司 | 翻转电压的测试方法 |
US10971245B1 (en) * | 2019-09-20 | 2021-04-06 | Spin Memory, Inc. | Measurement of MTJ in a compact memory array |
US11594269B2 (en) * | 2020-06-19 | 2023-02-28 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | One time programmable (OTP) magnetoresistive random-access memory (MRAM) |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6317376B1 (en) * | 2000-06-20 | 2001-11-13 | Hewlett-Packard Company | Reference signal generation for magnetic random access memory devices |
JP3812805B2 (ja) * | 2001-01-16 | 2006-08-23 | 日本電気株式会社 | トンネル磁気抵抗素子を利用した半導体記憶装置 |
US6721203B1 (en) * | 2001-02-23 | 2004-04-13 | Western Digital (Fremont), Inc. | Designs of reference cells for magnetic tunnel junction (MTJ) MRAM |
JP4046513B2 (ja) * | 2002-01-30 | 2008-02-13 | 株式会社ルネサステクノロジ | 半導体集積回路 |
JP3894030B2 (ja) | 2002-04-17 | 2007-03-14 | ソニー株式会社 | 抵抗変化記憶素子を用いた記憶装置及び同装置の参照抵抗値決定方法 |
JP3821066B2 (ja) * | 2002-07-04 | 2006-09-13 | 日本電気株式会社 | 磁気ランダムアクセスメモリ |
GB2405701A (en) | 2003-09-03 | 2005-03-09 | Seiko Epson Corp | Differential current sensing circuit |
KR100528341B1 (ko) * | 2003-12-30 | 2005-11-15 | 삼성전자주식회사 | 자기 램 및 그 읽기방법 |
US7187576B2 (en) * | 2004-07-19 | 2007-03-06 | Infineon Technologies Ag | Read out scheme for several bits in a single MRAM soft layer |
US7321507B2 (en) | 2005-11-21 | 2008-01-22 | Magic Technologies, Inc. | Reference cell scheme for MRAM |
TWI298886B (en) | 2006-07-06 | 2008-07-11 | Ind Tech Res Inst | Multiple state sense amplifier for memory architecture |
US8004880B2 (en) | 2007-03-06 | 2011-08-23 | Qualcomm Incorporated | Read disturb reduction circuit for spin transfer torque magnetoresistive random access memory |
US7577020B2 (en) * | 2007-10-01 | 2009-08-18 | Shine Chung | System and method for reading multiple magnetic tunnel junctions with a single select transistor |
JP2010079974A (ja) * | 2008-09-25 | 2010-04-08 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置 |
US7876599B2 (en) * | 2008-10-31 | 2011-01-25 | Seagate Technology Llc | Spatial correlation of reference cells in resistive memory array |
-
2009
- 2009-01-29 US US12/361,588 patent/US7929334B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2010
- 2010-01-29 CN CN201080004957.3A patent/CN102282622B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2010-01-29 CN CN201410835051.6A patent/CN104538057B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2010-01-29 TW TW099102692A patent/TW201101302A/zh unknown
- 2010-01-29 KR KR1020117020114A patent/KR101369349B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2010-01-29 WO PCT/US2010/022476 patent/WO2010088443A1/en active Application Filing
- 2010-01-29 EP EP10703208A patent/EP2382634A1/en not_active Withdrawn
- 2010-01-29 JP JP2011548314A patent/JP5340420B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN102282622A (zh) | 2011-12-14 |
KR20110122687A (ko) | 2011-11-10 |
JP2012516524A (ja) | 2012-07-19 |
WO2010088443A1 (en) | 2010-08-05 |
CN104538057A (zh) | 2015-04-22 |
CN102282622B (zh) | 2015-01-28 |
CN104538057B (zh) | 2017-08-25 |
US7929334B2 (en) | 2011-04-19 |
US20100188894A1 (en) | 2010-07-29 |
TW201101302A (en) | 2011-01-01 |
KR101369349B1 (ko) | 2014-03-04 |
EP2382634A1 (en) | 2011-11-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5340420B2 (ja) | 磁気ランダムアクセスメモリ(mram)のインサイチュ抵抗測定法 | |
US6914809B2 (en) | Memory cell strings | |
TWI503820B (zh) | 數位記憶體裝置以及磁阻式隨機存取記憶體之配置方法 | |
KR100562203B1 (ko) | Mram 셀을 위한 기준회로 | |
CN103390432A (zh) | 用于测试电阻型存储器的结构、系统和方法 | |
US9502106B2 (en) | Semiconductor memory device and method of controlling semiconductor memory device | |
US10192603B2 (en) | Method for controlling a semiconductor memory device | |
US8929167B2 (en) | MRAM self-repair with BIST logic | |
US6487109B2 (en) | Magnetoresistive memory and method for reading a magnetoresistive memory | |
Wu et al. | Pinhole defect characterization and fault modeling for STT-MRAM testing | |
US8526252B2 (en) | Quiescent testing of non-volatile memory array | |
Wu et al. | Characterization, modeling and test of synthetic anti-ferromagnet flip defect in STT-MRAMs | |
Münch et al. | MBIST-based Trim-Search Test Time Reduction for STT-MRAM | |
US20080080232A1 (en) | Active write current adjustment for magneto-resistive random access memory | |
US9349427B2 (en) | Method for screening arrays of magnetic memories | |
US6842364B1 (en) | Memory cell strings in a resistive cross point memory cell array | |
US11910723B2 (en) | Memory device with electrically parallel source lines | |
CN111899783A (zh) | 一种利用写检测的高速mram芯片及其数据读写方法 | |
Lin et al. | Parallel-Check Trimming Test Approach for Selecting the Reference Resistance of STT-MRAMs | |
CN116343884A (zh) | Mram芯片的数据读取电路及筛选失效单元的方法 | |
CN117849574A (zh) | Mram阵列的测试电路及测试方法 | |
CN116417056A (zh) | Mram芯片及mram芯片阵列短路位置的测试方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121211 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130207 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130312 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130610 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130709 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130806 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |