JP5331597B2 - ステージ装置及びステージ位置決め制御方法 - Google Patents

ステージ装置及びステージ位置決め制御方法 Download PDF

Info

Publication number
JP5331597B2
JP5331597B2 JP2009155958A JP2009155958A JP5331597B2 JP 5331597 B2 JP5331597 B2 JP 5331597B2 JP 2009155958 A JP2009155958 A JP 2009155958A JP 2009155958 A JP2009155958 A JP 2009155958A JP 5331597 B2 JP5331597 B2 JP 5331597B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
brake
stage
drive
movable table
drive command
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2009155958A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2011013825A (ja
Inventor
陽介 堀江
昌宏 小山
勝 松島
周一 中川
博紀 小川
信雄 柴田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi High Tech Corp
Original Assignee
Hitachi High Technologies Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi High Technologies Corp filed Critical Hitachi High Technologies Corp
Priority to JP2009155958A priority Critical patent/JP5331597B2/ja
Publication of JP2011013825A publication Critical patent/JP2011013825A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5331597B2 publication Critical patent/JP5331597B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Electron Beam Exposure (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Control Of Position Or Direction (AREA)

Description

本発明は、半導体の検査や評価に用いる電子顕微鏡等の試料ステージとして好適なステージ装置及びステージの位置決め制御方法に関する。
近年の半導体素子の微細化に伴い、半導体製造装置のみならず検査や評価装置にもそれに対応した高精度化が要求されている。通常、半導体ウェハ上に形成したパターンの形状寸法が正しいか否かを評価するために、測長機能を備えた走査型電子顕微鏡(以下、測長SEMと称す)が用いられている。
測長SEMでは、ウェハ上に電子線を照射し、得られた二次電子信号を画像処理し、その明暗の変化からパターンのエッジを判別して寸法を導出している。ここで、半導体素子の微細化に対応するためには、高い観察倍率において、よりノイズの少ない二次電子像を得ることが重要である。そこで、二次電子像を何枚も重ね合わせてコントラストを向上させる必要があり、ウェハを搭載保持している試料ステージには、ナノメートルオーダで振動やドリフトを抑えることが要求される。
このような振動やドリフトを抑えるために、高精度な位置決めが可能なステージ装置が必要となり、これには一般的にリニアモータなどを駆動機構とするサーボ制御システムが用いられている。しかしながら、サーボ制御を行った場合、停止状態でもナノメートルオーダでは微少な振動が発生しており、ステージの振動とともに試料位置が変動するだけでなく、ステージの振動が装置全体を加振し、二次電子像に悪影響を及ぼすこともある。以上のようなサーボ制御を起因とする微小な振動への対策として、ステージの可動テーブルにばね力を利用したブレーキ機構を設け、ステージ停止時にはブレーキをかけ、サーボ制御をオフにする技術がある(特許文献1参照)。また、これとは別の技術として、可動テーブルに互いに対向する2つのピエゾ素子でブレーキレールを押圧するブレーキ機構を設け、可動テーブルを制動する技術がある(特許文献2参照)。
特開2001−88695号公報 特開2007−324045号公報
前記のようなブレーキ機構を構成する場合、1つのブレーキレールを2つのブレーキで押圧して挟み込む機構、あるいは移動軸に対して対称に設置した2つのブレーキレールをそれぞれのブレーキで押圧する機構などが構成可能である。しかしながら、ブレーキレールの表面にある加工精度に起因した微小な凹凸や、ブレーキの接触面(以下、ブレーキパッドと称す)とブレーキレールとの間のギャップは、位置により微小な量で異なる。このため、それぞれのブレーキに対して同じ駆動指令を出力すると、ブレーキレールに作用する力の大きさが異なってしまい、これに起因してステージの位置ずれが発生するという問題がある。このようなステージの位置ずれを発生させないためには、ステージの停止位置に応じてブレーキ機構に最適な駆動指令を与える制御方法が必要となる。
また、ステージの位置決め後には案内機構(リニアガイド)の非線形ばね特性により、ステージを直前の移動方向と反対方向に引き戻す力(以下、ガイド戻り力と称す)が作用することが知られている(例えば、大塚二郎、坂戸啓一郎著「図解精密位置決め機構設計」(工業調査会)を参照)。このようなガイド戻り力は、ステージ位置決め後の停止状態で発生しているモータ推力(残留推力)として観測できる。このような案内機構の非線形ばね特性の作用により、ステージの位置決め後にモータのサーボ制御をオフにしてモータ推力を停止すると、ブレーキなどの制動機構を特に設けない場合には、ステージの位置が直前の移動方向と反対方向にずれてしまうという現象が発生する。このような特性を考慮すると、ステージ停止後にモータのサーボ制御をオフにするためには、前記ガイド戻り力とつり合う力を発生させるブレーキ機構の制御方法が必要となる。
そこで、本発明は、ステージの位置決め後にモータのサーボ制御を停止してもステージの位置ずれを発生させないように、ブレーキ機構を最適に制御できるステージ装置及びステージ位置決め制御方法を提供することを目的とする。
本発明では、リニアモータ駆動のステージ装置において、それぞれの位置決めすべき点に初めて位置決めする際、実際にステージを移動、停止した後に、リニアモータの推力指令を0に近づけるようにブレーキ駆動指令を調整し、リニアモータのサーボ制御をオフにしてもステージの位置ずれを発生させないような、リニアモータの推力指令が許容値以内となる最適なブレーキ駆動指令を求め、これを記憶する。さらに、同じそれぞれの位置決めすべき点に再度ステージを位置決めする際、ステージを移動、停止した後に、記憶した最適なブレーキ駆動指令をブレーキ機構に対して出力し、リニアモータのサーボ制御をオフにして高精度な位置決めを行う。制動機構としては、好適には、ピエゾ素子で駆動されるブレーキユニットを備える。
本発明によれば、電子顕微鏡装置の試料ステージとして好適な高精度の位置決め動作を実現できる。
本発明によるステージ機構の一例を示す概略見取図である。 本発明による制動機構の動作を示す概略図である。 本発明による制動機構の制動原理を示す概略図である。 本発明による制動の手順を示すフローチャートである。 本発明による測長SEMのレシピ作成時の処理と自動測長時の処理の概略を示すフローチャートである。 本発明による測長SEMのレシピ作成時の処理と自動測長時の処理を実行するための機能ブロック図である。 ブレーキ制御パラメータの表示画面の例を示す図である。
以下、図面を参照して、本発明の実施形態について詳細に説明する。
図1は、本発明のステージ機構の一実施形態の概略図であり、図1(a)はステージ機能の外観図、図1(b)はその一部の断面図である。
ステージ機構10は、ベース100の上に可動テーブルとそれを駆動するための機構を搭載している。ベース100の上にYベース110が固定され、Yベース110の上にY方向(図1(a)に示す座標軸のY方向)の案内機構としてのYガイド111が固定されている。図1(a)では、Yガイド111は、Yベース110の中央(図示せず)と両端近傍にそれぞれ1本ずつの合計3本が設けられている。Yテーブル112は、Yガイド111に拘束され、Y方向のみに移動が可能となっている。
Yテーブル112は、これに可動部を固定されたYリニアモータ113の発生する推力により直線運動を行う。ここで、Yリニアモータ113の固定部はベース100の上に固定される。さらに、Yテーブル112を停止させるための制動機構として、Yブレーキレール114がYベース110に固定され、YブレーキユニットがYテーブル112に固定されている。なお、図1(a)の例では、Yリニアモータ113及びYブレーキユニットは、いずれもYテーブル112の両端に設けてられているが、これらは必要な推力や制動力があれば、Yテーブル112の両端ではなく、どちらか一方の端のみに設けても良い。
Yテーブル112に固定されたYブレーキユニットは、ピエゾ素子の変位を拡大することにより、Yブレーキレール114に対して面部材(ブレーキパッド)を押圧して摩擦力、すなわち制動力を発生する機構であり、このピエゾ素子に対する印加電圧を調整することにより、その制動力を制御できる。ブレーキユニットの詳細は、図2を用いて後述する。
図1(b)は、Yテーブル112からトップテーブル130の断面を示す図である。Yテーブル112の上には、Y方向と直交するX方向の案内機構としてのXサブガイド116が設けられている。図1(a)の例では、Xサブガイド116は2本設けられている。サブテーブル117は、Xサブガイド116に拘束され、X方向に移動可能となっている。サブテーブル117は、これに拘束部材140によって結合されるトップテーブル130とともに、Xサブガイド116の上をX方向に直線運動する。
また、ベース100の上には、Xベース120が固定され、Xベース120の上にX方向の案内機構としてのXガイド121が固定されている。図1(a)の例では、Xベース120は、Yベース110を挟む二つの部材として設けられており、Xガイド121もそれぞれのXベース120に1本ずつの合計2本が設けられている。Xテーブル122は、Xガイド121に拘束され、X方向のみに移動可能となっている。
Xテーブル122は、これに可動部を固定されたXリニアモータ123の発生する推力により直線運動を行う。ここで、Xリニアモータ123の固定部はベース100の上に固定される。さらに、Xテーブル122を停止させるための制動機構として、Xブレーキレール124がXベース120に固定され、XブレーキユニットがXテーブル122に固定されている。なお、図1(a)の例では、Xリニアモータ123及びXブレーキユニットは、いずれもXテーブル122の両端に設けてられているが、これらは必要な推力や制動力があれば、Xテーブル122の両端ではなく、どちらか一方の端のみに設けても良い。
Xテーブル122に固定されたXブレーキユニットは、Yブレーキユニットと同様に、ピエゾ素子の変位を拡大することにより、Xブレーキレール124に対してブレーキパッドを押圧して制動力を発生する機構であり、このピエゾ素子に対する印加電圧を調整することにより、その制動力を制御できる。ブレーキユニットの詳細は、図2を用いて後述する。
Xテーブル122の上には、X方向と直交するY方向の案内機構としてのYサブガイド126が設けられている。図1(a)の例では、Yサブガイド126は2本設けられている。トップテーブル130は、Yサブガイド126に拘束され、Y方向に移動が可能である。トップテーブル130は、これに結合されるサブテーブル117の運動とともに、Yサブガイド126の上をY方向に直線運動する。
以上に述べた構造によれば、Xテーブル120とYテーブル110のそれぞれが移動することにより、トップテーブル130のX方向及びY方向の2次元移動が可能となる。なお、トップテーブル130の上には、その位置をレーザ干渉計(図示せず)により計測するための固定ミラー(Xミラー131、Yミラー132)と、試料ホルダ133が搭載されている。
図2(a)は、Xテーブル120及びYテーブル110に設けられた制動機構の動作を示す概略図である。Xテーブル120とYテーブル110の制動機構の動作は全く同様であるため、以下では特にX、Yを表記せずに説明する。
図2(b)は、ブレーキユニットの概略図である。可動テーブル200の両端に固定されたブレーキユニットは、図2(b)に示すように、その駆動源となるピエゾ素子211と、ピエゾ素子の変位を拡大する機構212を有し、その先端にはブレーキパッド201(201a,201b)が設けられている。ピエゾ素子211の変位が、変位拡大機構212を回転リンク213により回転動作させ、ブレーキパッド201(201a,201b)をブレーキレール202a,202bに接触させる。また、ピエゾ素子211の変位を戻す動作には、圧縮バネ214のばね力を利用する。
ベースには、可動テーブル200の移動方向と平行に2個のブレーキレール202a,202bが固定されている。ブレーキユニットの駆動源となるピエゾ素子の変位を拡大することにより、ブレーキパッド201a,201bをそれぞれブレーキレール202a,202bに対して押圧し、摩擦力を増大させて、可動テーブル200を制動する。以下、これらの2組の制動機構を区別するために各要素の符号の末尾にa,bを付けて説明する。
図2に示した制動機構の例では、ブレーキユニットの押圧方向がブレーキレール202a,202bに対して微小に傾斜するように、ブレーキユニットを可動テーブル200に取り付けている。このような微小な傾きを持たせたことにより、ブレーキパッド201a,201bをそれぞれブレーキレール202a,202bに押圧した際、それぞれの接触部においてブレーキレール202a,202bに対して垂直方向の分力203a,203bと水平方向の分力204a,204bが発生する。ここで、前者の押圧分力は摩擦力を増大させ、後者の押圧分力は可動テーブル200の移動方向又はその逆方向の力となる。図2では、ブレーキパッド201a,201bの水平方向の押圧分力204a,204bの方向が互いに反対方向となるように、それぞれのブレーキユニットを微小に傾斜させて可動テーブル200に取り付けている。
図3は、図2に示した制動機構による可動テーブルの制動原理を示す概略図である。まず、図3(a)は可動テーブルの位置決め直後の力のつり合い状態を示す。ここで、モータ推力301が可動テーブルの案内機構の非線形ばね特性によるガイド戻り力302とつり合うことにより、可動テーブルが目標位置に位置決めされる。そのため、位置決め後の停止状態においてもモータ推力301は0にはならない。前述したように、サーボ制御状態ではナノメートルオーダの微少な振動が発生しており、ステージ振動とともに試料位置が変動するだけでなく、ステージ振動が装置全体を加振することもあるため、モータのサーボ制御をオフにする必要がある。しかしながら、ここでサーボ制御をオフにしてモータ推力301を0にすると、図3(a)に示した力のつり合い状態が崩れるため、可動テーブルの位置が目標位置からずれてしまう。
図3(b)は、図3(a)の状態から制動機構を動作させ、押圧力を発生させたときの力のつり合い状態を示す。ここで、図2に示した2組の制動機構をそれぞれ制動機構a、制動機構bと称し、それぞれが発生する可動テーブルの移動方向又はその逆方向の押圧分力を、制動機構aの押圧分力305、制動機構bの押圧分力306として図示する。図2で説明した通り、制動機構aの押圧分力305と制動機構bの押圧分力306は、それぞれ互いに反対方向に作用する(そのようにブレーキユニットが取り付けられている)が、制動機構aと制動機構bに同じく駆動指令(ピエゾ素子の駆動電圧)を与えた場合、それぞれのブレーキレールの表面にある微小な凹凸やブレーキレールとブレーキパッドとのギャップの差などの要因により、制動機構aの押圧分力305と制動機構bの押圧分力306の大きさにも微小な差が生じる。モータがサーボ制御されている場合、このときの押圧分力の差がモータ推力303に影響し、図3(a)のモータ推力301からのモータ推力増減を生じる。
図3(c)は、図3(b)におけるモータ推力303を減少させるため、一方の制動機構の押圧分力(図3(c)の例では、制動機構aの押圧分力)を増加させたときの力のつり合い状態を示す。ここで、どちらの制動機構の押圧分力の操作を行うかは、モータ推力の符号に基づいて行う。すなわち、モータ推力と同一方向の押圧分力を発生させる制動機構を選択し、その押圧を増加させる。図3(c)では、制動機構aの押圧分力309の増加に伴ってモータ推力307が減少している。ここで、モータ推力307を十分小さい値にできれば、モータのサーボ制御をオフ(モータ推力を0)にしても、可動テーブルの位置ずれは発生することなく位置決め状態は保たれる。以上に述べたような制動機構の押圧分力の調整により、各位置決め点において最適なブレーキ駆動指令を求められる。
図4は、図3に示した制動制御の処理手順を示すフローチャートである。位置決め後にまず初期電圧を各ブレーキ駆動指令として出力し(S410)、ウェイトタイマ(S411)で例えば200ms経過後にモータ推力がゼロに近づいて許容値内になっていることを確認(S412)する。モータ推力が許容値内でない場合、片側のブレーキ駆動電圧を変化させ(S413)、モータ推力を変化させる。以上を繰り返し、最終的にモータ推力を許容値内とする。モータ推力の許容値は、ステージ装置に用いるガイドレールの種類や本数や予圧によって異なるため、実験的にモータ推力値と位置ずれの関係を調べることで決定する。
図5は、本発明のステージ装置に本発明のステージ位置決め制御方法を適用した測長SEMのレシピ作成時の処理と自動測長時の処理の概略を示すフローチャートである。ここで、レシピとは、試料のアライメント情報、測長点情報(測長点のパターン、座標など)、アドレッシング情報などの各種設定を予め登録したデータのことを言う。
図5(a)は、レシピ作成処理の概略を示すフローチャートである。まず、試料(ウェハ)をステージに搭載し、アライメント点の情報を登録する(S510)。次に、測長点のパターン、座標などを登録し(S511)、アドレッシングのためのパターンの情報を登録する(S512)。処理511から処理512を全ての測長点を登録するまで繰り返す(S513)。最後に、テストランによって各測長点で正しくアドレッシングと測長が実行できることを確認する(S514)。テストランにおいて登録された全ての測長点を確認する場合、これらの測長点に順番にステージを位置決めし、図3及び図4に示した手順により、ステージの位置ずれを生じさせないような最適なブレーキ駆動指令を求め、これを各測長点について記憶しておく。
図5(b)は、自動測長時の処理の概略を示すフローチャートである。まず、試料(ウェハ)をステージに搭載し、アライメント処理を実行する(S520)。次に、各測長点の座標にステージを移動する(S521)。ここで、ステージの位置決めの際、前記のようにレシピ作成時のテストランで全ての測長点において最適なブレーキ駆動指令が既に求められている場合は、そこで得られた最適なブレーキ駆動指令によりブレーキ動作を行い、さらにモータのサーボ制御をオフにする。レシピ作成時のテストランで最適なブレーキ駆動指令が求められていない場合は、自動測長の最初の試料を処理する際、各測長において最適なブレーキ駆動指令を求め、これを記憶しておき、ここで得られた最適なブレーキ駆動指令を用いて次回(2個目の試料)以降では各測長点への位置決めを行う。このようにステージの位置決めが完了した後、アドレッシングパターンを認識し(S522)、これを基準に測長パターンを認識し、測長を行う(S523)。処理521から処理523までを全ての測長点を処理するまで繰り返す(S524)。
図6は、本発明のステージ装置に本発明のステージ位置決め制御方法を適用した測長SEMのレシピ作成時の処理と自動測長時の処理を実行するための機能ブロック図である。
図5(a)に示したレシピ作成の処理は、レシピ作成手段600とその下位機能である測長パターン登録手段601、アドレッシングパターン登録手段602、テストラン手段603により実行される。測長パターン登録手段601では、ステージ移動実行手段611により、ステージをトラックボールなどの手動操作により測長点の位置まで移動させ、測長点の画像を画面に表示し、測長画像とその認識条件などを登録する。アドレッシングパターン登録手段602では、ステージ移動実行手段611により、ステージを手動操作によりアドレッシングパターンの位置まで移動させ、アドレッシングパターンの画像を表示し、アドレッシングパターンとその認識条件などを登録する。
ステージ移動実行手段611では、ステージ制御手段620により、ステージの位置、速度、リニアモータ推力のサーボ制御を実行し、サーボアンプなどのリニアモータ駆動手段621によりリニアモータ622を駆動し、ステージの位置決め制御を行う。ここで、ステージの位置はレーザ測長計623により計測され、ステージ制御手段620におけるフィードバック情報として利用される。さらに、ステージ移動実行手段611では、ステージを位置決めする際、ブレーキ制御最適化手段640により、ステージ停止後のリニアモータ推力指令(残留推力)を0に近づける(0近傍の許容値以下とする)ようにブレーキ駆動指令を調整して、これをブレーキ制御手段630に出力する。ブレーキ制御手段630は、ブレーキ駆動指令(電圧指令)をピエゾアンプなどのピエゾ素子駆動手段631に出力し、ブレーキ機構の駆動源となるピエゾ素子632の変位を発生させる。ブレーキ駆動指令の調整が完了すれば、ステージ制御手段620ではリニアモータ622のサーボ制御をオフにする。
テストラン手段603では、登録された測長点に順番にステージを移動させ、アドレッシング、測長が正しく実行できるかどうかを確認する。なお、このときの測長点の順番は自動測長時の順番と同じとする。さらに、テストランでは、各測長点に位置決めする際、ブレーキ制御最適化手段640により、ステージの位置ずれを生じさせないような最適なブレーキ駆動指令を求め、これを各測長点の位置情報とともに、ブレーキ制御パラメータ記憶手段641により記憶しておくことが可能である。ただし、登録した全ての測長点についてテストランを行うとは限らない。なお、ブレーキ制御最適化手段640により最適なブレーキ駆動指令を求める際、ステージ停止後のリニアモータ推力指令を0に近づけるようにブレーキ駆動指令を段階的に調整するため、これには一定の時間を要する。
図5(b)に示した自動測長の処理は、自動測長手段610とその下位機能であるステージ移動実行手段611、アドレッシング実行手段612、測長実行手段613により実行される。自動測長の場合、ステージ移動実行手段611では、ステージ制御手段620によりステージを測長点に移動し、停止した後、ブレーキ制御パラメータ記憶手段641により記憶された最適なブレーキ駆動指令をブレーキ制御手段630に出力して、最後にリニアモータのサーボ制御をオフにすることによりステージの位置決めを完了する。前記のようにレシピ作成時に最適なブレーキ駆動指令を予め求めておいた場合は、これを用いてブレーキを制御する。レシピ作成時に最適なブレーキ駆動指令を求めていない場合は、最初の試料の自動測長時にブレーキ制御最適化手段640により最適なブレーキ駆動指令を求め、これをブレーキ制御パラメータ記憶手段641により記憶しておき、次回以降はこの最適なブレーキ駆動指令によりステージの位置決めを行う。このようにステージ位置決めの際の最適なブレーキ制御を行うことにより、ステージ移動を行うリニアモータのサーボ制御をオフにした後の位置ずれの発生を抑制し、高精度な位置決めが可能となる。さらに、ブレーキ制御パラメータ記憶手段641により記憶された最適なブレーキ駆動指令を利用することにより、ブレーキ制御最適化手段640によるブレーキ駆動指令の調整を毎回行う必要がなくなるため、ステージの位置決めに要する時間を短縮できる。
なお、本実施例では、ステージを各測長点に位置決めする際に、最初に求めた最適なブレーキ駆動指令を次回以降もそのまま繰り返し用いてブレーキ制御を行うこととしているが、これを次回以降では前記の既に得られた最適なブレーキ駆動指令を出力した後、サーボ制御されているリニアモータの推力指令が0近傍の許容値よりも大きい場合には、再度ブレーキ駆動指令を微調整して、リニアモータの推力指令が許容値以内となる最適なブレーキ駆動指令を求めても良い。この場合、ここで微調整して得られた最適なブレーキ駆動指令をブレーキ制御パラメータ記憶手段641に改めて記憶させることとなる。
図7は、ブレーキ制御パラメータを確認する画面表示の例である。ブレーキ制御パラメータ表示画面700には、ブレーキ制御パラメータとして、各測長点の番号と座標値、各ブレーキユニットの最適な駆動指令(電圧指令)値、ブレーキ駆動指令の調整状況を示すブレーキ制御パラメータテーブル701が表示される。ブレーキ駆動指令の調整状況は、駆動指令が正常な電圧値の範囲で調整できたかどうかを示し、例えば、駆動指令が出力可能な最大値又は最小値に到達した場合、ブレーキに関連した何らかの異常が発生していることを操作者に対して警告する。
なお、上記実施例では、1つの可動テーブルに対して一対のブレーキレールが用意され、各ブレーキレールに対してそれぞれ1個のブレーキユニットが設けられている例について説明した。しかし、ブレーキレールは2本とは限らない。例えば、ブレーキレールが1本の場合には、その1本のブレーキレールを両側から挟み込むように2つのブレーキユニットを取り付ける、あるいは1本のブレーキレールを片側から押圧するように2つのブレーキユニットを並べて取り付けることができる。このとき、可動テーブル移動方向の押圧分力が互いに逆向きになるように、2つのブレーキユニットの押圧方向を設定することで、本発明のステージ位置決め制御方法を実行可能である。
また、ブレーキユニットは、可動テーブル移動方向の押圧分力が互いに逆方向になるようにブレーキレールに対する押圧方向が設定された2個のブレーキユニットを用いるのが好ましいが、1個のブレーキユニットだけを有する可動テーブルに対しても、本発明のステージ位置決め制御方法を適用することは可能である。ただし、この場合には、ブレーキユニットに、ブレーキレールに対する押圧方向を調整できる機構が必要である。そして、ブレーキユニットによる水平方向の押圧分力が可動テーブル位置決め直後のモータ推力と同じ方向になるように、登録された測長点ごとにブレーキユニットの押圧方向を調整した上で、モータ推力を所定の閾値以下とするブレーキ駆動指令を求める。ブレーキ制御パラメータ記憶手段には、登録された測長点ごとに、ブレーキユニットの押圧方向の情報と共に最適なブレーキ駆動指令の値を記憶しておく。自動測長時には、各測長点でステージを停止した後、ブレーキ制御パラメータ記憶手段に記憶した押圧方向の情報を参照してブレーキユニットの押圧方向を調整した後、ブレーキ制御パラメータ記憶手段に記憶したブレーキ駆動指令をブレーキ制御手段に出力し、最後にリニアモータのサーボ制御をオフにすることによりステージの位置決めを完了する。
なお、上記実施例で述べたステージ位置決め方法では、最後にサーボ制御をオフにすることとしたが、ブレーキ制御後にモータ推力がゼロに近づいて許容値内になっていれば、サーボ振動は抑制された状態となっている可能性があるため、その場合は、サーボ制御をオフにしない方法も可能である。
100 ベース
110 Yベース
111 Yガイド
112 Yテーブル
113 Yリニアモータ
114 Yブレーキレール
115 Yブレーキユニット
116 Xサブガイド
117 サブテーブル
120 Xベース
121 Xガイド
122 Xテーブル
123 Xリニアモータ
124 Xブレーキレール
125 Xブレーキユニット
126 Yサブガイド
130 トップテーブル
131 Xミラー
132 Yミラー
133 試料ホルダ
200 可動テーブル
201a,201b ブレーキパッド
202a,202b ブレーキレール
203a,203b ブレーキ押圧のブレーキレールに対して垂直方向の分力
204a,204b ブレーキ押圧のブレーキレールに対して水平方向の分力
700 ブレーキ制御パラメータ表示画面
701 ブレーキ制御パラメータテーブル

Claims (13)

  1. 案内機構に沿って移動する可動テーブルと、前記可動テーブルを駆動する駆動機構と、前記可動テーブルを制動する制動機構と、前記駆動機構と前記制動機構を制御する制御部とを有するステージ装置において、
    前記制御部は、前記可動テーブルを所定位置に位置決めするとき、前記駆動機構をサーボ制御して前記可動テーブルを前記所定位置に移動し停止させた後、前記駆動機構に対するサーボ制御の駆動指令が許容値以内となるように前記制動機構に対する駆動指令を調整することを特徴とするステージ装置。
  2. 請求項1記載のステージ装置において、前記制動機構に対する駆動指令を調整した後、前記駆動機構に対するサーボ制御をオフにすることを特徴とするステージ装置。
  3. 請求項1記載のステージ装置において、前記調整した前記制動機構に対する駆動指令を記憶する記憶部を有し、前記可動テーブルを前記所定位置に再度位置決めする際に、前記制御部は、前記駆動機構をサーボ制御して前記可動テーブルを前記所定位置に移動し停止させた後、前記記憶部に記憶した駆動指令を用いて前記制動機構を駆動制御することを特徴とするステージ装置。
  4. 請求項1記載のステージ装置において、前記駆動機構はリニアモータであり、前記駆動機構に対する駆動指令は前記リニアモータに対する推力指令であることを特徴とするステージ装置。
  5. 請求項1記載のステージ装置において、
    前記制動機構は、前記可動テーブルの移動方向に沿って設置されたブレーキレールと、前記可動テーブルに搭載されたブレーキユニットとを備え、
    前記ブレーキユニットは、駆動源となるピエゾ素子と、前記ピエゾ素子の変位を拡大する機構と、前記変位を拡大する機構の先端部に固定されたブレーキパッドとを備え、前記ピエゾ素子の変位を拡大する機構により前記ブレーキパッドを前記ブレーキレールに押圧することにより制動力を発生することを特徴とするステージ装置。
  6. 請求項5記載のステージ装置において、前記ブレーキユニットを2つ備え、前記2つのブレーキユニットは前記可動テーブルの移動方向の押圧分力が互いに逆方向を向いていることを特徴とするステージ装置。
  7. 請求項3記載のステージ装置において、前記制御部は、前記記憶部に記憶した駆動指令を用いて前記制動機構を駆動制御した後、前記駆動機構に対するサーボ制御の駆動指令が前記許容値を超えていた場合、当該駆動指令が前記許容値以内となるように前記制動機構に対する駆動指令を微調整し、微調整後の前記制動機構に対する駆動指令を前記記憶装置に記憶することを特徴とするステージ装置。
  8. 案内機構に沿って移動する可動テーブルと、前記可動テーブルを駆動する駆動機構と、前記可動テーブルを制動する制動機構とを有するステージ装置のステージ位置決め制御方法において、
    前記駆動機構をサーボ制御して前記可動テーブルを所定位置に移動し停止させる工程と、
    前記可動テーブルが停止した状態で、前記駆動機構に対するサーボ制御の駆動指令が許容値以内となるように前記制動機構に対する駆動指令を調整する工程と、
    その後、前記駆動機構に対するサーボ制御をオフにする工程と
    を有することを特徴とするステージ位置決め制御方法。
  9. 請求項8記載のステージ位置決め制御方法において、
    前記調整した駆動指令を記憶する工程と、
    前記可動テーブルを前記所定位置に再度位置決めする際に、前記駆動機構をサーボ制御して前記可動テーブルを前記所定位置に移動し停止させる工程と、
    前記記憶した駆動指令を用いて前記制動機構を駆動制御する工程と
    を有することを特徴とするステージ位置決め制御方法。
  10. 請求項8記載のステージ位置決め制御方法において、前記駆動機構はリニアモータであり、前記駆動機構に対する駆動指令は前記リニアモータに対する推力指令であることを特徴とするステージ位置決め制御方法。
  11. 請求項8記載のステージ位置決め制御方法において、
    前記制動機構は、前記可動テーブルの移動方向に沿って設置されたブレーキレールと、前記可動テーブルに搭載されたブレーキユニットとを備え、
    前記ブレーキユニットは、駆動源となるピエゾ素子と、前記ピエゾ素子の変位を拡大する機構と、前記変位を拡大する機構の先端部に固定されるブレーキパッドとを備え、前記ピエゾ素子の変位を拡大する機構により前記ブレーキパッドを前記ブレーキレールに押圧することによって制動力を発生し、
    前記制動機構に対する駆動指令を調整する工程では、前記ピエゾ素子に対する印加電圧を段階的に変化させ、前記駆動機構に対する駆動指令が0に近づくように調整することを特徴とするステージ位置決め制御方法。
  12. 請求項11記載のステージ位置決め制御方法において、前記ブレーキユニットを2つ備え、前記2つのブレーキユニットは前記可動テーブルの移動方向の押圧分力が互いに逆方向を向いていることを特徴とするステージ位置決め制御方法。
  13. 請求項9記載のステージ位置決め制御方法において、
    前記記憶した駆動指令を用いて前記制動機構を駆動制御した後、前記駆動機構に対するサーボ制御の駆動指令が前記許容値を超えているか否かを判定する工程と、
    前記駆動機構に対するサーボ制御の駆動指令が前記許容値を超えていた場合、当該駆動指令が前記許容値以内となるように前記制動機構に対する駆動指令を微調整する工程と、
    前記微調整後の前記制動機構に対する駆動指令を記憶する工程と
    を有することを特徴とするステージ位置決め制御方法。
JP2009155958A 2009-06-30 2009-06-30 ステージ装置及びステージ位置決め制御方法 Expired - Fee Related JP5331597B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009155958A JP5331597B2 (ja) 2009-06-30 2009-06-30 ステージ装置及びステージ位置決め制御方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009155958A JP5331597B2 (ja) 2009-06-30 2009-06-30 ステージ装置及びステージ位置決め制御方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2011013825A JP2011013825A (ja) 2011-01-20
JP5331597B2 true JP5331597B2 (ja) 2013-10-30

Family

ID=43592666

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009155958A Expired - Fee Related JP5331597B2 (ja) 2009-06-30 2009-06-30 ステージ装置及びステージ位置決め制御方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5331597B2 (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5881377B2 (ja) * 2011-11-09 2016-03-09 株式会社日立ハイテクノロジーズ 試料位置決め装置、試料ステージ、荷電粒子線装置
JP2018041528A (ja) * 2014-12-10 2018-03-15 株式会社日立ハイテクノロジーズ ステージ装置およびそれを用いた荷電粒子線装置
US9905393B2 (en) 2015-03-26 2018-02-27 Hitachi High-Technologies Corporation Stage apparatus with braking system for lens, beam, or vibration compensation
JP2023101866A (ja) * 2022-01-11 2023-07-24 東レエンジニアリング株式会社 位置決め装置およびこれを用いた実装装置

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6224942A (ja) * 1985-07-26 1987-02-02 Matsushita Electric Ind Co Ltd 位置決め装置
JP3966653B2 (ja) * 1999-09-20 2007-08-29 住友重機械工業株式会社 リニアディスクブレーキ
JP2001225241A (ja) * 2000-02-16 2001-08-21 Sumitomo Heavy Ind Ltd ステージ装置
JP4863773B2 (ja) * 2006-06-02 2012-01-25 株式会社日立ハイテクノロジーズ 電子顕微鏡装置およびブレーキ機構

Also Published As

Publication number Publication date
JP2011013825A (ja) 2011-01-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5881377B2 (ja) 試料位置決め装置、試料ステージ、荷電粒子線装置
US8562323B2 (en) Imprint apparatus and method for producing article
JP2009252809A (ja) ステージ装置及びステージ装置におけるステージの位置決め制御方法
JP4594841B2 (ja) ステージ装置及びその制御方法
US6937911B2 (en) Compensating for cable drag forces in high precision stages
US9905393B2 (en) Stage apparatus with braking system for lens, beam, or vibration compensation
JP5331597B2 (ja) ステージ装置及びステージ位置決め制御方法
JP4863773B2 (ja) 電子顕微鏡装置およびブレーキ機構
JP2016021441A (ja) インプリント装置及び物品の製造方法
JP2009224234A (ja) ステージ及び電子顕微鏡装置
US9791018B2 (en) Vibration isolation apparatus, method of isolating vibration, lithography apparatus, and method of producing device
JP5196743B2 (ja) 加工方法及び装置、並びに、デバイス製造方法
JP2006118867A (ja) 走査型プローブ顕微鏡及びそれを用いた計測方法
JP4402078B2 (ja) ステージ装置
JP2007184621A (ja) 振動制御装置及び振動制御方法及び露光装置及びデバイスの製造方法
JP5473575B2 (ja) 露光装置及びデバイス製造方法
KR101470749B1 (ko) 고정밀 대변위 나노 스테이지
JP2015018978A (ja) アクティブブレーキ、アクティブブレーキを備えた試料ステージ、及び荷電粒子線装置
JP5690686B2 (ja) ステージ装置及びステージ装置におけるステージの位置決め制御方法
JP6172913B2 (ja) ステージ装置、露光装置および物品の製造方法
JP5155209B2 (ja) ステージ装置
JP5002513B2 (ja) ステージ位置決め制御装置
JP2009259534A (ja) ステージ装置
JP2015191751A (ja) アクティブブレーキ、アクティブブレーキを備えた試料ステージ、及び荷電粒子装置
JP5281024B2 (ja) 試料ステージ及び同ステージを用いた電子顕微鏡装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20120619

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20130613

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130702

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130729

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5331597

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees