JP5328246B2 - 液晶装置およびその製造方法 - Google Patents
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Description
この問題の解決のため、低プレチルト角でもベンド配向転移を容易にするための報告がなされている。
本発明は、係る課題を鑑みてなされたものであって、スプレイ−ベンド配向転移が容易で、かつ転移後のベンド配向維持が容易であり、表示領域のリタデーションを高く維持できる表示品質の優れた液晶装置およびその製造方法を提供するものである。
前記一対の基板のうち一方の基板上には、複数の画素電極が配置された表示領域部と、該表示領域部の外側の非表示領域部があり、もう一方の透明な基板上には、透明電極から成る対向電極が配置され、
前記表示領域部と前記表示領域部に正対する前記対向電極面との間の前記液晶層が、電圧を印加することによってスプレイ配向からベンド配向に変化し、
前記一方の基板上の前記表示領域部と非表示領域部、および前記もう一方の基板上の少なくとも前記非表示領域部に正対する前記対向電極面に、無機材料を主成分とし、基板に対して傾斜した柱状構造体から構成される無機配向膜を有し、前記一方の基板の前記無機配向膜は、前記表示領域部における膜厚が、前記非表示領域部における膜厚よりも薄いことを特徴とする。
複数の画素電極が配置された表示領域部と該表示領域部の外側の非表示領域部を有する一方の基板と、透明電極から成る対向電極が配置された透明なもう一方の基板とを準備する工程と、
前記一方の基板上の前記表示領域部と前記非表示領域部、および前記もう一方の基板上の少なくとも基板貼り合わせ時に前記非表示領域と正対する前記対向電極面に、斜方蒸着法により、無機材料を主成分とし、基板に対して傾斜した柱状構造体から構成される第一の無機配向膜を形成する工程と、
前記一方の基板上の前記表示領域部をマスクで覆い、前記一方の基板上の前記非表示領域部、および前記もう一方の基板上の少なくとも基板貼り合わせ時に前記非表示領域と正対する前記対向電極面に形成された前記第一の無機配向膜に重ねて、前記第一の無機配向膜の形成と同じ方位からの斜方蒸着法により、無機材料を主成分とし、基板に対して傾斜した柱状構造体から構成される第二の無機配向膜を形成する工程と
を有することを特徴とする。
本発明者らは、鋭意検討の結果、無機配向膜を用いた場合において、40°以上のプレチルト角を発現するための無機配向膜の作製条件を見出し、その過程において同じ蒸着角度での成膜においても、ある蒸着角度以上では無機配向膜の膜厚とプレチルト角の間に相関関係があることを発見した。この事実を基に検討を行い、本発明を完成させた。
前記一対の基板のうち一方の基板上には、複数の画素電極が配置された表示領域部と、該表示領域部の外側の非表示領域部があり、もう一方の透明な基板上には、透明電極から成る対向電極が配置され、
前記表示領域部と前記表示領域部に正対する前記対向電極面との間の前記液晶層が、電圧を印加することによってスプレイ配向からベンド配向に変化し、
前記一方の基板上の前記表示領域部と非表示領域部、および前記もう一方の基板上の少なくとも前記非表示領域部に正対する前記対向電極面に、無機材料を主成分とし、基板に対して傾斜した柱状構造体から構成される無機配向膜を有し、前記一方の基板の前記無機配向膜は、前記表示領域部における膜厚が、前記非表示領域部における膜厚よりも薄いことを特徴とする。
前記非表示領域部に表示に寄与しない電極が配置されていることが好ましい。
前記無機配向膜が、前記無機配向膜を構成している酸化物の柱状構造体を有し、前記柱状構造体の傾斜方向が、前記表示領域部と前記非表示領域部とで同一方向であることが好ましい。
複数の画素電極が配置された表示領域部と該表示領域部の外側の非表示領域部を有する一方の基板と、透明電極から成る対向電極が配置された透明なもう一方の基板とを準備する工程と、
前記一方の基板上の前記表示領域部と前記非表示領域部、および前記もう一方の基板上の少なくとも基板貼り合わせ時に前記非表示領域と正対する前記対向電極面に、斜方蒸着法により、無機材料を主成分とし、基板に対して傾斜した柱状構造体から構成される第一の無機配向膜を形成する工程と、
前記一方の基板上の前記表示領域部をマスクで覆い、前記一方の基板上の前記非表示領域部、および前記もう一方の基板上の少なくとも基板貼り合わせ時に前記非表示領域と正対する前記対向電極面に形成された前記第一の無機配向膜に重ねて、前記第一の無機配向膜の形成と同じ方位からの斜方蒸着法により、無機材料を主成分とし、基板に対して傾斜した柱状構造体から構成される第二の無機配向膜を形成する工程と
を有することを特徴とする。
図1は、本発明の液晶装置の一例の構成を示す概略図である。101は画素電極、102は転移用電極、103はシール部、104は封口部、105は取出電極、106は表示領域である。図1において、表示領域106は点線で囲まれた内側の領域を指す。非表示領域107は、表示領域106の外側の表示領域外の部分を指す。
表示領域106は、少なくとも画素電極101を含む領域であり、画素電極101が含まれているのであればよく、また転移用電極102を含んでも良い。
本発明においては無機材料の配向膜が用いられる。また、第一の無機配向膜および第二の無機配向膜の材料は同じでも異なっていてもよい。
本発明の液晶装置の製造方法は、下記工程から構成される。
(a)工程:基板準備工程
(b)工程:第一の無機配向膜を形成する工程
(c)工程:第二の無機配向膜を形成する工程
(d)工程:シール剤塗布工程
(e)工程:液晶注入・液晶セル封止工程
(f)工程:液晶配向処理工程
(g)工程:配線接続工程
第一の無機配向膜203は、所望のプレチルト角が発現可能であるならば、どのような方法で作製してもよいが、図6に示す斜方蒸着法により形成すると、プレチルト角の制御がより広範囲にわたり、かつ容易にできるので好ましい。
第二の無機配向膜301は、図1に示す表示領域106に形成せず、表示領域106以外の非表示領域107の場所に選択的に形成する。選択的に形成する方法は特に限定されないが、例えばマスクを用いた斜方蒸着法により選択的な形成を行うことが比較的簡便な方法なので好ましい。
実施例1
本実施例は、第一の無機配向膜として蒸着角度が85°、膜厚が40nm(400Å)である酸化ケイ素(SiOx)から成る斜方蒸着膜を、第二の無機配向膜として蒸着角度が87.5°、膜厚が240nm(2400Å)である斜方蒸着膜を選択し、液晶装置を作製した例である。
次に、液晶層の再配向処理を行う。液晶のネマティック−等方相相転移温度(89℃)以上にLCセルを加熱した後、徐冷を行う。
上記結果より、第一の無機配向膜上では、通常はスプレイ配向状態が安定な状態であるにも関わらず、その周囲に形成された第二の無機配向膜上に形成したベンド配向領域の影響により、ベンド配向が維持されていることが確認できる。
実施例1の比較例として、第一の無機配向膜のみを液晶配向膜として用いた以外は、実施例1と同様の作製方法で作製した液晶セルを評価する。
プレチルト角を測定すると実施例1の場合と同様、35.0°である。
比較例1の場合と同様に、第二の無機配向膜のみを液晶配向膜として用いた以外は、実施例1と同様の作製方法で作製した液晶セルを評価する。
次に配向評価用液晶セルにて配向状態を確認すると、電圧無印加状態で全面ベンド配向となっていることが確認できる。
次に、第一の無機配向膜として、イオンビームアシスト蒸着を行って作製した斜方蒸着膜を、第二の無機配向膜として、通常の斜方蒸着を行い作製した無機配向膜を用いた例を示す。
この状態で液晶セルを作製し、評価を行ったところ、実施例1の場合と同様の配向状態が得られ、表示領域に電圧を印加し、ベンド転移した後にもベンド配向が維持されていることが観察される。
本実施例は、対向電極基板に第一の無機配向膜を形成しない以外は実施例1の場合と同様の方法で液晶セルを作製する例である。
102 転移用電極
103 シール部
104 封口部
105 取り出し電極
106 表示領域
107 非表示領域
201 上部基板
202 下部基板
203 第一の無機配向膜
204 液晶層A
205 画素電極
206 下部基板
301 第二の無機配向膜
302 液晶層B
401 転移用電極
402 液晶層1
403 液晶層2
501 プレチルト角θp
502 液晶分子
503 液晶配向膜
504 ガラス基板
601 蒸着源
602 被蒸着基板
603 基板搬送機構
604 基板法線
605 蒸着角度
606 蒸着距離
701 イオンソース
702 イオンビーム照射角度
801 ハーフミラー
802 位相差板
803 液晶装置
804 光源
805 偏光板1
806 偏光板2
Claims (7)
- 正の誘電異方性を有するネマティック液晶からなる液晶層と、該液晶層を挟持して対向する一対の基板とを有し、該液晶層に印加する電圧により該液晶層のリタデーション制御を行う液晶装置であって、
前記一対の基板のうち一方の基板上には、複数の画素電極が配置された表示領域部と、該表示領域部の外側の非表示領域部があり、もう一方の透明な基板上には、透明電極から成る対向電極が配置され、
前記表示領域部と前記表示領域部に正対する前記対向電極面との間の前記液晶層が、電圧を印加することによってスプレイ配向からベンド配向に変化し、
前記一方の基板上の前記表示領域部と非表示領域部、および前記もう一方の基板上の少なくとも前記非表示領域部に正対する前記対向電極面に、無機材料を主成分とし、基板に対して傾斜した柱状構造体から構成される無機配向膜を有し、前記一方の基板の前記無機配向膜は、前記表示領域部における膜厚が、前記非表示領域部における膜厚よりも薄いことを特徴とする液晶装置。 - 前記非表示領域部と前記非表示領域部に正対する前記対向電極面との間の前記液晶層の配向状態がベンド配向であることを特徴とする請求項1に記載の液晶装置。
- 前記非表示領域部に表示に寄与しない電極が配置されていることを特徴とする請求項1または2に記載の液晶装置。
- 前記表示領域部の形状が長方形であり、前記非表示領域部に配置された表示に寄与しない電極が前記表示領域部の各辺に沿って形成されていることを特徴とする請求項3に記載の液晶装置。
- 前記無機配向膜が、前記無機配向膜を構成している酸化物の柱状構造体を有し、前記柱状構造体の傾斜方向が、前記表示領域部と前記非表示領域部とで同一方向であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の液晶装置。
- 液晶層に印加する電圧により液晶層のリタデーション制御を行う液晶装置の製造方法であって、
複数の画素電極が配置された表示領域部と該表示領域部の外側の非表示領域部を有する一方の基板と、透明電極から成る対向電極が配置された透明なもう一方の基板とを準備する工程と、
前記一方の基板上の前記表示領域部と前記非表示領域部、および前記もう一方の基板上の少なくとも基板貼り合わせ時に前記非表示領域と正対する前記対向電極面に、斜方蒸着法により、無機材料を主成分とし、基板に対して傾斜した柱状構造体から構成される第一の無機配向膜を形成する工程と、
前記一方の基板上の前記表示領域部をマスクで覆い、前記一方の基板上の前記非表示領域部、および前記もう一方の基板上の少なくとも基板貼り合わせ時に前記非表示領域と正対する前記対向電極面に形成された前記第一の無機配向膜に重ねて、前記第一の無機配向膜の形成と同じ方位からの斜方蒸着法により、無機材料を主成分とし、基板に対して傾斜した柱状構造体から構成される第二の無機配向膜を形成する工程と
を有することを特徴とする液晶装置の製造方法。 - 前記第一および第二の無機配向膜を形成する斜方蒸着法において、蒸着角が異なることを特徴とする請求項6に記載の液晶装置の製造方法。
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